JPH03296907A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録に用いる磁気ヘッドおよびその製造方
法に関する。また本発明の一態様は特に高記録密度の記
録再生に適する記録再生分離型磁気ヘッドに関する。

〔従来の技術〕

従来の磁気ヘッドの技術を示すものとして例えば特開昭
５９−１７８６０９号公報に記載されるものがある。

また従来、磁気記録の高記録密度化を図るため、ヘッド
ギャップ部のみ媒体方向に突出させた形態の磁気ヘッド
が提案されている。例えばアイトリプルイー　トランザ
クション　オン　マグネティクス（ＩＥＥＥ　ＴＲＡＮ
ＳＡＣＴＩＯＮ　ＯＮ　ＭＡＧＮＥＴＩＣ３，）　ｖｏ
ｌ、２４゜ｋ６．　Ｎｏｖｅｍｂｅｒ　１９８４　ｐｐ
、２８４１−２８４３には磁気ヘッドのトラック幅を摺
動面側から加工して決定する方法が示されている。

また再生専用の磁気ヘッドとして用いられている磁気抵
抗効果型ヘッド（以下ＭＲヘッドと記す）においても、
特開昭５９−７１１２４号公報、特開平１−２７７３１
３号公報にトラック幅部（感磁部）だけを媒体対抗面に
突出させるような構造が開示されている。

また一方、ＭＲヘッドと誘導型書き込みヘッドを一体と
した記録再生分離型磁気ヘッドに関しては特開昭５１−
４４９１７号公報等の公知例がある。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし上記アイトリプルイーに記載の構造のヘッドでは
、磁束がエツチングにより規定されたトラック幅以外の
領域からも洩れるため、オフトラック特性が悪いといっ
た問題がある。またスライダレールの比較的広い領域を
エツチングにより除去するため、スライダの浮上特性が
加工の前後で大きく変化してしまう。また通常の半導体
プロセスに用いられるエツチング法を利用するとレジス
トをスライダレール上に均一に塗布することが非常に難
しく量産性に問題がある。

また、上記特開昭５９−７１１２４、特開平１−２７７
３１３に記載の技術によれば、感磁部のみ突出させたＭ
Ｒヘッドを形成する際、ＭＲ素子を両側から挾む磁気シ
ールド層は突出幅よりも広いため、シールド層を介して
鎖交する隣接トラックからの磁束が雑音となる。従って
狭トラツク化に伴い信号が減少する場合信号／雑音比が
低下するという問題があった。

さらに、感磁部のみ突出させたＭＲ素子と誘導型書き込
みヘッドによって複合型の磁気ヘッドを作成する場合、
位置合わせ誤差により、記録磁極とＭＲ素子突出部の幅
がずれる。従って狭トラツク化によってトラック幅に占
めるずれの割合が顕著になり、再生効率が低下するとい
う問題がある。

すなわち、上記従来のＭＲヘッドにおいては、狭トラツ
ク化を進めるため、読み出しトラック幅以外の部分で信
号を検出しないように、トラック幅部だけを媒体対抗面
に突出させた構造としているが、この従来例のヘッドで
は基板上にトラック幅部だけが突出した形状のＭＲ素子
パターンをつくり、この突出部に合わせて記録ヘッド等
を形成する。その後基板を切断し、この切断面を研磨す
ることによって突出部だけを媒体対抗面に露出させたヘ
ッドを形成する。従って必然的にＭＲ素子突出幅とシー
ルド層の幅、記録磁極幅とＭＲ素子突出幅は一致しない
。

本発明の第一の目的は、オフトラック特性に優れた狭ト
ラツクの磁気ヘッド及びその製造方法を提供することに
ある。

本発明の第二の目的は信号／雑憂比に優れた磁気ヘッド
を提供することにある。

本発明の第三の目的は記録ヘッドと再生ヘッドのトラッ
ク位置すれかなく、信号／雑音比に優れた記録再生分離
型磁気ヘッドを提供することにある。

また本発明の第四の目的はスライダーの浮上特性を変化
させずに磁気ヘッド狭トラツク化を図る磁気ヘッドの製
造方法を提供することにある。

また本発明の第五の目的は狭トラツク幅を有する高記録
密度用磁気ヘッドを歩留りよく製造する方法を提供する
ことにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記第一の目的は磁気ヘッドの媒体との摺動面の一部に
一以上の溝を設けることにより達成される。より具体的
には、磁気ヘッドの磁気ギャップあるいは感磁部近傍に
、局所的な凹部を設け、これらの幅を規定する。本発明
の好ましい伏様ではこれらの溝あるいは凹部は収束イオ
ンビーム（ＦＩＢと言う）により加工される。また、本
発明の好ましい態様ではこれらの溝のあるいは凹部に物
質が充填される。

上記第二の目的は基体上にＭＲ素子及びシールド層稀形
成した後、−括して媒体摺動面側からトラック幅加工を
行なうことで達成される。

上記第三の目的は記録ヘッドと再生ヘッドのトラック位
置のずれを防止するため、基体上に記録ヘッドおよび再
生ヘッドを形成後、研磨した切断面からエツチングによ
りトラック幅加工を行なうようにすることで達成される
。すなわち、ヘッドを構成する記録ヘッドおよび再生ヘ
ッドの各軟磁性膜のトラック幅部分だけを浮上面に残し
て、他の部分は媒体との距離が大きくなるようにエツチ
ングにより除去した。また、同時に再生ヘッドのシール
ド層もトラック幅加工を行ない、突出部だけが浮上面に
露出するようにした。また、好ましい態様では浮上面か
ら加工する際に記録ヘッドのコイルやコイルを覆う平坦
化層が露出するのを防ぐため、この部分にあらかじめヘ
ッド積層工程でエツチングのストッパー材を設けた。

本発明の第四の目的は収束イオンビームを用いて、ヘッ
ドスライダ摺動面のレールの一部を加工することにより
達成される。

本発明の第五の目的はスライダーレール上にレジストを
塗布することなく、収束されたエネルギーを有するビー
ムを用いて磁気ヘッドの形状を加工することによって達
成される。

〔作用〕

磁気ヘッドの媒体との摺動面の一部に一以上の溝を設け
ることにより、磁束が溝で規定されたトラック幅以外の
領域から洩れることがなく、オフトラック特性の新い狭
トラツクの磁気ヘッドを提供できる。

また、摺動面の一部のみに溝を形成する際に、収束イオ
ンビームを用いれば、加工歩留り、精度が向上する。

また、上記溝に物質を充填することで、磁束の洩れをさ
らに減らすことができる。

基体上にＭＲ素子及びシールド層を形成した後、−括し
て媒体摺動面側からトラック幅加工を行うことにより、
シールド層の幅はＭＲ素子の突出幅と同程度にすること
ができ、シールド層を介して隣接トラックからの磁束が
混入し雑音となることがなく、信号／雑音特性に優れた
磁気ヘッドを提供できる。

本発明では感磁部となっている突出部以外では磁気シー
ルド層を含めて部材および磁気抵抗効果素子と媒体との
距離、すなわちスペーシングが大きくなっているので、
感磁部以外からの信号は著しく減少する。たとえば、浮
上量が０．１５ＬＬＩｌで後退量が２ＬＬｍｌの場合、
記録波長２ＬＩＪ１１のとき信号に対して隣接トラック
からの信号は一５０ｄＢ以上減少する。このように感磁
部以外の部分を後退させることによって、隣接トラック
に起因する雑音を著しく低減することができる。

また、記録ヘッドと再生ヘッドのトラック幅加工を同時
に一括して行なうことにより、両ヘッドのトラック幅の
位置合わせが極めて高精度にできる。また、エツチング
のストッパー材を用いれば、ＦＩＢを用いない場合でも
エツチング裕度を広くすることができる。

フォーカストイオンビームエツチング（ＦＩＢ）法を利
用して突出部を形成し、あるいはヘッドのスライダーレ
ールの一部に溝を設ける方法を用いるとアスペクト比の
大きな溝を微小領域に形成することができるため、加工
によってスライダの浮上特性に影響をおよぼすことがな
い。

また、スライダーレール上にレジストを塗布することな
く、収束されたエネルギーを有するビームを用いて磁気
ヘッドの形状を加工すれば、所望の形状を歩留まり良く
加工することができる。また加工してできた溝の中に導
電性層を形成することができるため、電界めっき法等を
利用して磁気的なシールド材料を溝中に充填することが
容易であり、オフトラック特性の良好なヘッドができる
。

〔実施例〕

実施例１ 本実施例では、本発明による磁気ヘッドの製造方法、記
録再生特性に対する効果を検討した結果について述べる
。第１図はフォーカストイオンビームエツチング法（以
下ＦＩＢと略す）により加工した後の誘導型薄膜ヘッド
の磁極部を摺動面側から観察した斜視図である。磁極１
０２の材料は飽和磁束密度１．０Ｔのパーマロイであり
、ギャップ層１０４、保護層１０３はアルミナである。

またスライダ１０１材はジルコニアである。ＦＩＢで加
工する前の磁気ヘッドのトラック幅は１０μｓであり、
磁極厚みは上部１．５Ｕ、下部が１．０四である。なお
今回用いたヘッドのスライダ材料であるジルコニアは非
導電性の材料であるため、ＦＩＢ加工中に試料がチャー
ジアップして精度良く溝を形成することができなくなる
。よって、ＦＩＢで加工する前には、スライダ表面にＡ
ｕの極薄層を蒸着法により形成した。なおこのＡｕの蒸
着層は、ＦＩＢ加工後通常のイオンミリング、あるいは
研磨により取り除くことができる。一方ＦＩＢ加工途中
に電子ビームを照射し、チャージアップを中和するシス
テムを利用する場合には蒸着は不要となる。第１図では
ＦＩＢ加工後のトランク幅が上部、下部共に１μｓ、加
工深さは２．０μｓの試料を示している。加工に用いた
イオンビーム１００のイオン種はＧａＩｎで加速電圧は
３０ｋＶ、ビーム電流は１．６ｎＡに設定し、この時の
ビーム径は０．２ｗｓである。

実施例２ ＦＩＢ加工によりできた溝部分には、非磁性でかつ比抵
抗の小さな金属材料、例えばＣｕ等を充填し、渦電流損
失を利用して加工により規定されたトラック部以外から
もれる磁束を特に高周波領域で低減させることができる
。この試料の作製法は、ＦＩＢ加工をＷ（ＣＯ几雰囲気
中で行ない、ＦＩＢの照射された領域にＷ層を形成し、
この導電層を利用して電界めっきを行ないＣｕを形成す
る等がある。この方法の他に、イオン種として電気伝導
度の高いＡＱ等を用い、ＦＩＢ加工により試料の溝部分
に形成されたイオン注入層を利用して電界めっきにより
Ｃｕ層を形成することによっても実現できる。ここでＦ
ＩＢ加工後の溝部分に磁気的なシールド層であるＣｕ層
が形成されている薄膜ヘッドと、溝部分が掘られたまま
の状態である薄膜ヘッドとの磁界分布、磁界強示の違い
を。

電子ビームのローレンツ偏向を利用した３次元磁界測定
装置で測定した。第２図は３０ＭＨｚで測定される磁界
分布の長手記録成分Ｈｘのトラック幅方向の分布を、ギ
ャップの中心位置で測定した結果である。加工後のヘッ
ドのトラック幅はいずれの試料もＩＬＬｌｌに設定され
ている。この結果からシールド層としてのＣｕを溝部分
に形成することによりトラック以外の領域から洩れる漏
洩磁束を大幅に抑えられることがわかる。このシールド
層の効果は周波数が高くなるにつれ顕著となる。なお今
回測定に用いたヘッドの加工深さは２Ｌｌｊであったが
、Ｃｕ層が形成されていないヘッドの漏洩磁界は、これ
以上加工深さを深くしても殆ど変化しなかった。一方第
３図はＨｘの最大値の周波数依存性をヘッド磁極の中心
位置、すなわちギャップ、およびトラックの中心位置で
測定した結果である。この図より、周波数が高くなるに
つれて磁界強度に対してもＣｕシールド層の効果が高ま
ることがわかる。

実施例３ ここで上部磁極と下部磁極のトラック幅が一致していな
い、例えば特開昭５９−１７８６０９号等のプロセスで
作製された自己録再型薄膜ヘッドと、このヘッドをＦＩ
Ｂ加工により上部磁極のトラック幅と下部磁極のトラッ
ク幅とを０．１ＬＬＩｌの精度で一致させた薄膜ヘッド
とのオフトラック特性を比較した結果を第４図に示す。

ＦＩＢ加工前の上部磁極のトラック幅は１０μｍ、下部
磁極は１３．５ＬＬ１１であり、加工後は上部、下部磁
極ともｌＯ±０．０５μｍである。なおこの実験におい
てもＦＩＢで加工したスライダレールの溝部分にはＣｕ
層を形成している。測定には保磁力１５０００ｅ、膜厚
０．０６μｍのスパッタ媒体を用い、スペーシングは０
．１ＬＬＩ＋とした。また記録密度は５０ｋＰＣＩ　（
Ｆｌｕｘ　　Ｃｈａｎｇｅ　　ｐｅｒＩｎｃｈ）に設定
した。第４図の結果より、上下磁極のトラック端部をそ
ろえた効果は、オフトラック量がトラック幅の半分を超
えたあたりから顕著となり、トラックピッチを狭める際
に有効であることがわかる。またこの場合、加工前後に
おける再生出力ならびにオーバーライド特性には変化が
認められなかった。

実施例４ 次に上下磁極のトラック幅の寸法差を０．１四以下に抑
えた状態でトラック幅を１０ＬＩｊｌから０．２５ＬＬ
１１まで狭めていき、単位トラック幅当りの再生出力の
変化を測定した。この結果を第５図に示す。測定条件、
ならびに媒体は第４図で用いたものと同じである。なお
ここでは自己録再型の薄膜ヘッドと、再生にＭＲヘッド
を用いた録再分離型ヘッドとを用いた。ＦＩＢの加工深
さはいずれのヘッドともに２．０μｓに設定した。第５
図の結果から、自己録再ヘッドではトラック幅が３ｕＪ
Ｉを切ると再生出力の減衰が見られ、トラック幅１μｓ
ではもとの再生出力（トラック幅が１０μｓのヘッドの
再生出力）の半分にまで減衰することがわかる。ここで
各トラック幅のヘッドにより記録された記録トラックを
ローレンツ顕微鏡により観察した結果、ヘッドのトラッ
ク幅は０．２５１Ｊｊでも。

媒体はトラック幅方向にヘッドのトラック幅に対応して
一様に記録されていることが確かめられている。よって
トラック幅を３μｓ以下にまで狭めたことによる再生出
力の減衰の原因は、主にヘッドの再生感度の低下に起因
するものと考えられる。

一方再生にＭＲヘッドを用いた録再分離ヘッドでは、ト
ラック幅をＩＬＬｍまで狭めても再生出力の低下は見ら
れず、トラック幅が０．２５μｍまで狭められてももと
の出力の８０パーセント以上得られていることがわかっ
た。このようにトラック幅が３μｓ以下のヘッドでは記
録ヘッドと再生ヘッドを分離して一体化した録再分離型
ヘッドが有効であることが確かめられた。

実施例５ 次にＦＩＢの入射角度を変えて加工した磁気ヘッドの再
生出力、オフトラック特性の変化を調べた結果を第６図
に示す、ＦＩＢ加工後のトラック幅は３四であり、加工
深さは２ＬＩＩｌである。記録再生特性の測定に用いた
媒体、および測定条件は第４図と同様である。第６図の
横軸、すなわちイオンビームの入射角度θはヘッド摺動
面と直交する方向からのずれであり、トラックの右側、
左側を加工する時はトラック中心に対してそれぞれ入射
方向が対称となるように設定している。ここでオフトラ
ック特性を評価する指標としてオフトラック性能指数Ｏ
ＦＦを用いた。このＰＰＰは次のように定義される。

ＯＦ　Ｆ　＝　ｘ　／　　（Ｔ　ｗ／２　）ここでＸは
、ヘッドをオフトラックしていった時に再生出力が初期
値から６ｄＢ減少する時のオフトラック量、ＴｗはＦＩ
Ｂ加工後のヘッドのトラック幅である。この図からオフ
トラック特性は入射角が１０度以上になると劣化し、一
方再生出力は０度以下になると減少し、かつ２０度を超
えると不安定になることがわかる。この結果からビーム
の入射角はＯ〜１０度程度に設定することが望ましいこ
とがわかる。なお本実施例ではＦＩＢの入射角度を変え
ることによりヘッド形状を任意形状に設定したが、入射
角がＯｏでも照射量を二次元的に変化させたり、偏光方
法を工夫することでトラック単部に傾斜のあるヘッド加
工が可能となる。

実施例６ 次に研磨加工終了後のへラドスライダレールの磁極以外
の部分をＦＩＢにより一様に削り落すことによりどの程
度記録再生特性が変化するのかを調べた結果を第７図に
示す０通常の薄膜ヘッドの摺動面研磨工程では、スライ
ダレールと磁極磁性膜との間に２０〜３０ｎｍ程度の加
工段差がつく。

この加工段差を、スライダーレールを削ることによりな
くした。ＦＩＢ加工によりスライダレールの表面性は殆
ど変化しないため、この加工の前後でスライダの浮上特
性は全く変化しないことを確かめている。記録再生特性
の測定に用いた媒体、測定条件は前述の条件と同様であ
る。このＦＩＢ加工の結果、スライダレールの磁極部以
外の領域を一様に３０ｎｍ程度削ることにより、記録密
度５０ｋＰＣＩにおいて再生出力を約１６％向上させら
れることがわかった。

実施例７ 最後に、このＦＩＢ加工を利用して通常の面内記録用の
薄膜ヘッドを単磁極型垂直ヘッドに変形することもでき
るので、−例を紹介する。この加工は、通常の面内記録
用の薄膜ヘッドの上部磁極のみをある程度まで削り落す
ものである。この加工によりできる疑似単磁極型垂直ヘ
ッドの垂直記録特性を調べた結果を第８図に示す。なお
ここで用いたヘッドのコイルは、アルミナ層の中に埋め
込まれている。測定に用いた媒体はＣｏ　Ｃｒ　／パー
マロイの二層膜媒体でありスペーシングは０．０５μｓ
とした。なお磁極厚みの関係から、再生には別の垂直ヘ
ッドを用いている。この結果から、上部磁極の加工深さ
を増やしていくと記録モードが面内から垂直へと変化す
るために記録密度特性が向上することが確かめられた。

ここで上部磁極と下部磁極の厚みをそれぞれ最適化して
やれば、記録再生両方に使える単磁極ヘッドを通常の面
内記録用薄膜ヘッドのフォトレジ用マスクを用いて作製
することができる。このようにＦＩＢ加工を利用して面
内記録用のヘッドを垂直記録用へと変換することもでき
る。

実施例８ 第９図を用いて本発明の他の実施例を説明する。

同図（ａ）は、浮上面側からみた記録再生分離型ヘッド
の斜視図を示し、（ｂ）はＡ−Ａ’　における断面図を
示す。同図から分かるように本実施例に示すヘッドは再
生用のＭＲヘッド１０の後方に記録ヘッド１１が設けで
ある。この記録ヘッドの片側の磁極１２はＭＲヘッドの
一方のシールド層２と兼用している。ＭＲヘッドの構成
は以下に述べる通りである。磁気シールド層として働く
２つの軟磁性部材１，２の間に磁気抵抗効果素子３と電
流を流すための電極４を設けである。はじめに、アルミ
ナからなる絶縁層を積層しであるアルミナチタンカーバ
イド基板５に第一のシールド層１として膜厚２μｓのパ
ーマロイパターンを形成する。

形状は矩形状とした。つぎに絶縁層を介してＭ４＋素子
３を形成する。絶縁層にはアルミナを用いた。

ここでＭＲ素子を動作させるために必要なバイアス磁界
の印加方法として本実施例ではシャントバイアス法を用
いた。このため膜厚４０ｎｍのパーマロイ膜の上にシャ
ント膜として膜厚０．１μｓのチタン膜を連続して積層
し、その後ホトエツチングによって矩形状のＭＲ素子パ
ターンを形成する。

その後さらに感磁部となる部分を除いて両側に膜厚０．
２ＬＬ１１の銅の電極４を形成する。次に絶縁層を介し
て第２のシールドパターン２を形成する。

このシールドパターンは第１の記録磁極１２を兼用する
。大きい記録磁界を得るためにパーマロイよりも飽和磁
密度の大きいＣｏ系のアモルファス軟磁性膜を使用した
。膜厚は２．５ＬＬＩｌとした。ギャップ層１３には膜
厚ＩＬＩｊのアルミナを用いた６を平坦化層の浮上面側
の斜面部に設けた。続いて。

第１の磁極と同様に膜厚２ＬＬｍｌのＣｏ系のアモルフ
ァス軟磁性膜を用いて第２の記録用の磁極１５を形成し
、続いて保護膜を積層する。この後、基板を切断して浮
上面の研磨を行う。

研磨工程の途中で、感磁部となる部分以外の浮上面の一
部を通常用いるホトエツチング技術により除去する。は
じめに浮上面に約３ＬＩｊのホトレジストを塗布し、そ
の後露光して所望の形状レジストパターンを得る。これ
をマスクにＡｒガスを用いたイオンミリングを行なって
凹部７，８を形成し、感磁部９を突出させる。ＭＲヘッ
ド部も記録ヘッド部も突出した部分９の幅は３ＬＩ１１
とし、同じトラック上になるように形成した。

上記工程において再生効率の良いヘッドを得るためには
電極で短絡されていないＭＲ素子部分だけを突出させる
ことが好ましい。このためには露光の際に電極パターン
と凸部形成用パターンとを精度良く合わせる必要があり
、浮上面に合わせ用マーカが露出するように狭用のパタ
ーンを電極層に設けておくことが好ましい。さらに合わ
せの裕度を持たせるためには、突出させる幅よりも電極
を設けない部分の幅、すなわち電極間隔を広くしたほう
が好ましい。本実施例では、電極の間隔を４ＬＬＩｌと
し、突出部の幅を３ＬＬＩｌとした。

なお、上記実施例ではイオンミリングのマスクとしてホ
トレジストを使用したが、多層レジスト法や選択エツチ
ング法などを用いてメタルマスクやカーボンマスクなど
を使用することもできる。

第１０図に本実施例に示したヘッドのトラック幅方向の
感度分布（図中実線）を従来構造の両端の電極間隔でト
ラック幅を規定した突出部のないヘッドの感度分布（破
線）と比較して示す０本実施例のヘッドのほうがトラッ
クエツジでの減衰が急峻であり隣接トラックの影響を受
けにくいことが分かる。

このように、浮上面からエツチングすることにより記録
ヘッドと再生ヘッド突出部を同時に精度良く形成できる
ので、記録ヘッドと再生ヘッドの位置ずれが生じず、こ
のため効率良く再生できる。

なお上記実施例では磁極材料としてＣｏ系のアモルファ
ス材料を用いたが、Ｆｅ系の結品質材料など他の高飽和
磁束密度材料を用いることが出来る。また図中では凹部
を形成するまえの記録ヘッドのトラック幅方向の幅がＭ
ヘッドのシールド層の幅と一致しているが、突出部の幅
よりも広は九ば異なっていても差し支えない。

実施例９ 他の実施例を第１１図を用いて説明する０本実施例は第
１の実施例とほぼ同様で、ＭＲヘッドの後に記録ヘッド
を有する。ただし、記録ヘッドの突出部の幅を４μｓと
し、ＭＲヘッドの突出部の幅を３μｓとし、再生ヘッド
のほうの幅を狭くしである。従来から知られているよう
に、ヘッドの位置決めに誤差がある場合には記録したト
ラック幅よりも狭いトラック幅が再生したほうが隣接ト
ラックによる雑音の影響を受けにくい０本実施例のよう
に浮上面からエツチングすることによって再生ヘッド及
び記録ヘッドの突出する幅を変えて容易にトラック幅を
変えられる。このため、適切な記録及び再生トラック幅
を持つ磁気ヘッドを容易に形成することができる。

上記の実施例ではいずれも、ＭＲヘッドのバイアス磁界
印加法としては、シャントバイアス法をもちいた場合を
示したが１本発明ではこの方法に限らず、従来から知ら
れている永久磁石バイアス法、ソフトフィルムバイアス
法１反強磁性膜を利用した交換結合バイアス法なども用
いることができる。

実施例１０ 他の実施例を第１２図を用いて説明する。本実施例では
記録ヘッドの磁極１６．１７のあいだにＭＲ素子３を設
けてあり、磁極はＭＲヘッドのシールド膜を兼用する。

同図において、磁極には飽和磁束密度の高いＣｏ系のア
モルファス磁性膜を用い、膜厚は２ｕａである。ＭＲ素
子に印加するバイアス磁界は記録用のコイルに直流電流
を流して印加した。このためＭＲ素子にはシャント膜は
なく、パーマロイおよび電極だけからなる。ＭＲ素子は
磁極間の中央の位置からずらしたほうがバイアス磁界が
印加されやすく、本実施例では磁極と素子の距離の比を
１：２にした。上記以外のヘッドの構成および浮上面の
突出部の加工方法は先に示した実施例と同様である。

本実施例によればＭＲ素子が記録磁極の間にあり、配録
磁極がシールド層を兼ねるので、記録磁極シールド層お
よびＭＲ素子の突出部の幅が一致し、記録トラックと再
生トラックの間に位置ずれかない磁気ヘッドを得ること
ができる。

〔発明の効果〕

以上述べてきたように、本発明によれば隣接トラックに
起因する雑音特性を改善した簡便な構造の磁気ヘッドを
提供することができた。また記録ヘッドと再生ヘッドを
高精度で位置合わせする駒とが可能になった。

また、トラック幅が１ｕｊ以下のヘッドでも歩留まり良
く作製することが可能となるので、特に記憶容量が大き
くかつデータの高速度転送を必要とする磁気ディスク装
置用ヘッドとして有効である。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のヘッドの磁極部の斜視図、第２図は本
発明の磁気ヘッドの磁界分布を示すグラフの図、第３図
は本発明の磁気ヘッドのＨｘの周波数依存特性を示すグ
ラフの図、第４図は本発明の磁気ヘッドと従来例のオフ
トラック特性の比較幅の関係を示すグラフの図、第６図
は本発明の製造に用いるＦＩＢの入射角度とオフトラッ
ク特性の関係を示すグラフの図、第７図はスライダーレ
ールの磁極以外の部分をＦＩＢにより一様に加工した場
合の記録再生特性変化を示すグラフの図。 第８図は本発明により得られる垂直ヘッドの記録特性の
グラフ図、第９図は本発明の磁気ヘッドのギャップ部近
傍の斜視図、第１０図はＭＲヘッドのトラック幅方向の
感度分布を示すグラフ図、第１１図は他の実施例を示す
記録再生複合型ヘッドの斜視図、第１２図は他の実施例
を示す記録再生複合型ヘッドの斜視図である。 符号の説明 １．２・・・磁気シールド層 ・・・磁気抵抗効果素子 ・・・電極 ・・・スライダー基体 ・・・保護膜 、８・・・浮上面凹部 ・・・浮上面凸部（感磁部） ０・・・再生ヘッド ト・・記録ヘッド ２・・・記録ヘッド磁極（兼シールド層）３・・・ギャ
ップ層 ４・・・コイル ５・・・記録用磁極 ６．１７・・・記録用磁極兼シールド層８・・・絶縁層 ９・・・Ｔｉパターン 茅 ）７ トフー７７％も方ｈ８　・　旺敵　ズＣび・にフ茅 国 ｆＹす （ＭＨｚ） ７１ρ−−−一・Ｆ／１３ １０１−−−−−スフ４り゛ ｌρ２−−−−一確黛 １ｏ３・−−一−１０１ １ｏｔｌ−−−−−へ゛ッ４，７・４ 第 夕 争 り Ｆブ７りｆあ　（Ｐ＊ン ヒーム入射自１１０４．） ｌυＬ３ギで （４Ｌ東ノ クロ 遅コ χ ψ−） トラック甲んｌ（立直　リＤｚ札） （１）） 第 ２ 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、磁気記録媒体への磁気情報の記録、再生動作を行な
   う磁気ヘッドにおいて、媒体との摺動面の一部に一つ以
   上の溝が設けられており、この溝は収束イオンビームエ
   ッチングにより加工されていることを特徴とする磁気ヘ
   ッド。 ２、磁気記録媒体への磁気情報の記録、再生動作を行な
   う磁気ヘッドにおいて、媒体と摺動面の一部に一つ以上
   の溝が設けられており、この溝の中の一部に導電性層が
   形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。 ３、特許請求の範囲第１項又は第２項記載の磁気ヘッド
   において、ヘッド磁極のトラック幅が摺動面に設けられ
   た一対の溝の間隔で規定されていることを特徴とする磁
   気ヘッド。 ４、特許請求の範囲第１項ないし第３項のうちいずれか
   に記載の磁気ヘッドにおいて、ヘッド磁極のトラック幅
   が１μｍ以下であることを特徴とする磁気ヘッド。 ５、特許請求の範囲第１項ないし第３項のうちいずれか
   に記載の磁気ヘッドは自己録再型の誘導型の薄膜ヘッド
   であり、上部磁極と下部磁極のトラック幅の差が０．１
   μｍ以下であることを特徴とする磁気ヘッド。 ６、特許請求の範囲第１項ないし第３項のうちいずれか
   に記載の磁気ヘッドは録再分離型の薄膜ヘッドであり、
   再生ヘッドのトラック幅が記録ヘッドのトラック幅より
   も０．１μｍ以上狭いことを特徴とする磁気ヘッド。 ７、特許請求の範囲第１項ないし第６項のうちいずれか
   に記載の磁気ヘッドにおいて、摺動面の一部に設けられ
   た溝の一部あるいは全部が磁気的なシールド材料により
   充填されていることを特徴とする磁気ヘッド。 ８、特許請求の範囲第７項記載の磁気ヘッドにおいて、
   摺動面の一部に設けられた溝の一部あるいは全部が非磁
   性でかつ比抵抗の小さな材料で充填されたことを特徴と
   する磁気ヘッド。 ９、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて、
   スライダレールの磁極部以外の摺動面側全面が磁極磁性
   膜の研磨加工段差量と等しい量だけ一様に削られている
   ことを特徴とする磁気ヘッド。 １０、特許請求の範囲第１項記載の磁気ヘッドにおいて
   、スライダレールの磁極部以外が任意形状に削られてい
   ることを特徴とする磁気ヘッド。 １１、磁気抵抗効果を有する軟磁性薄膜と非磁性絶縁層
   を介してこの軟磁性膜を挾む軟磁性部材からなる磁気抵
   抗効果型再生ヘッド、磁気抵抗効果型ヘッドに近接して
   媒体の運動方向に形成した磁極とこれに鎖交する導体か
   らなる誘導型記録ヘッド、およびこれらを支持する基体
   からなる複合型磁気ヘッドにおいて、上記磁気ヘッド構
   成部材を含む浮上面の一部が凹部を有し、この凹部に挾
   まれた部分によって、媒体に対して記録および再生動作
   が行なわれることを特徴とする磁気ヘッド。 １２、特許請求の範囲第１１項記載の磁気ヘッドにおい
   て、凹部によって挾まれた媒体の運動方向に垂直な方向
   の浮上面の幅が記録ヘッド部と再生ヘッド部で異なり、
   再生ヘッド部のほうが小さいことを特徴とする磁気ヘッ
   ド。 １３、磁気抵抗効果型ヘッドを構成する軟磁性部材の一
   部または全部が記録用ヘッドの磁極を兼ねることを特徴
   とする特許請求の範囲第１１項記載の磁気ヘッド。 １４、特許請求の範囲第１１項記載の磁気ヘッドにおい
   て、記録ヘッドを構成するコイル平坦化層と上部磁極の
   間の一部にＴｉ、Ｃｒ、カーボンまたはこれらの化合物
   からなる層を有することを特徴とする磁気ヘッド。 １５、以下の工程を含むことを特徴とする磁気ヘッドの
   製造方法。 （１）磁気ヘッドを構成する基体となる基板上に、磁気
   抵抗効果を有する軟磁性薄膜とこれを絶縁層を介して両
   側から挾んだ軟磁性部材からなる磁気抵抗効果型再生ヘ
   ッドを形成し、この上に磁極とこれに鎖交する導体パタ
   ーンからなる誘導型記録ヘッドを積層する工程。 （２）上記両ヘッドを積層した基体を所望の形状に切断
   して、媒体対抗面となる断面に上記両ヘッドの構成部材
   を露出させる工程。 （３）上記媒体対抗面に露出した両ヘッドの構成部材を
   含む一部に凹部を設け、凹部に挾まれた両ヘッドの構成
   部材を形成する工程。 １６、特許請求の範囲第１４項記載の磁気ヘッドの形成
   方法において、磁気抵抗効果型ヘッドを構成する軟磁性
   部材の一部または全部が記録用ヘッドの磁極を兼ねるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１４項記載の磁気ヘッ
   ドの製造方法。