JPH03293050A

JPH03293050A - 塗布方法及び塗布装置

Info

Publication number: JPH03293050A
Application number: JP9669690A
Authority: JP
Inventors: Hirotoshi Nomura; 野村　廣敏
Original assignee: KOOTO TECHNO KK
Current assignee: KOOTO TECHNO KK
Priority date: 1990-04-11
Filing date: 1990-04-11
Publication date: 1991-12-24

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、回転ロッドまたは回転バーを用いて塗布液を
塗布する方法及び装置に関するものであり、例えば、連
続走行しているウェブに基液で薄められた塗布液を均一
に塗布する工程に利用されるものである。

［従来の技術］第２図は従来の一般的なバー塗布装置の概略構成を示し
ている０図において、１はウェブ、２はアプリケーター
ロール、３はガイトロール、４はバー、５はバー受け、
６は塗布液パン、７は塗布液、８は掻き上げられた塗布
液、９はバーでメタリングされた塗布液、１０は塗布液
の循環系を示す。塗布液パン６に溜まった塗布液７は、
アプリケーターロール２の回転により掻き上げられる。

ウェブ１は矢印に示す方向に連続的に走行しており、ガ
イドロール３によりアプリケーターロール２の表面に圧
接されている。アプリケーターロール２の回転により掻
き上げられた塗布液８は、ウェブ１の表面に塗布される
。その後、バー４により塗布液が掻き落とされて、所定
の塗布厚が得られる、バー４はバー受け５により回転自
在に支持されている。バー４の表面には、周方向に沿っ
て溝が形成されている。この溝は、バー４の表面に溝加
工を施したり、あるいはワイヤーを巻装することにより
形成されるものであり、溝の断面積により塗布量を決定
することができる。

このバー塗布方式は、水系・油脂系・溶剤系のすべての
塗布液に利用でき、低速から高速まで幅広い範囲の塗布
速度で実施でき、薄層塗布が可能である。また、比較的
省スペースで、・さほど高精度の装置を必要とせず、塗
工液の送液システムも簡便で、設備費用も低コストで済
み、利用度の高い塗布方式である。

ところが、従来のバー塗布方式には、以下のような問題
があった。

■長時間連続塗布していると、バーの溝内に汚れが蓄積
し、塗布量変化が起きてくるので、定期的に塗布を中断
してバー洗浄をしなければならない、このバーの汚れ対
策として、バー後部への液供給による洗浄を行う方式（
特公昭５９−３２１９０号）や、バー支持ホルダーの内
部にパージ液を供給して洗浄効果を高める方式（実開昭
６１−２９８７６号）や、バーにブラシやブレードを接
触させて汚れを掻き取る方式（実開昭６１−１７１５６
４号、実開昭６１−１７１５６５号、実開昭６２−５０
７６７号）や、バー支持部材に溝を付けて汚れの蓄積を
防止する方式（特開昭６１−２２２５６８号、実公昭５
９−４２１３７号）等が知られている。

■アプリケーターロールでの塗工液の掻き揚げにより、
泡立ち、蒸発、酸化等の液劣化が起こる。

この液劣化対策として、塗布液の処方に消泡剤、酸化防
止剤を加えたり、必要以上に希釈しなければならなかっ
た。また、回転バーの下側に液溜まり部を設けて蒸発を
防止する方式〈特開昭６１＝１４６３７１号、特開昭６
１−１７１５６２号）や、回転バーの直前に液溜まりを
設ける方式（特公昭６３−４９５４６号）等が知られて
いる。

■高粘・高表面張力液ではワイヤースジが発生する。こ
のスジ故障の対策としては、バー後部への液供給による
濡れ住良化で泡スジを防止する方式（特公昭５９−３２
１９０号による）や、バーにブラシやブレードによる慣
らしを施す方式（実開昭６１−１７１５６４号、実開昭
６１−１７１５６５号、実開昭６２−５０７６７号）や
、液溜まり内に整流板を設ける方式（特公昭６３−４９
５４６号）や、２種の回転バーによりスムージングを行
う方式（特公昭６３−４９５４６号）等が知られている
。しかしながら、これらの改良策を施しても高粘液の塗
工開始時に塗り付はムラや厚塗りによりウェブにシワを
生じたり、表面がひび割れたりして良好な塗布面を得る
のが難しい、このため、塗布液を薄い液にすることも考
えられるが、乾燥負荷が大きくなり、乾燥装置を増設す
るか塗布速度を遅くしなければならず、コストアップと
なっていた。

［発明が解決しようとする課題］本発明は上述のような点に鑑みてなされたものであり、
その目的とするところは、バーの汚れを無くして長時間
良好な塗布を継続させると共に、塗工表面のみ稀薄液と
して乾燥負荷を低減させ、塗布液のロスを少なくするこ
とにある。また、本発明の他の目的とするところは、塗
布装置において、塗工開始時に塗り付はムラや厚塗りを
発生させずにウェブのシワ発生を防止し、ウェブの安定
搬送を維持すると共に、バーの洗浄周期を長くし、且つ
運転中のバーの洗浄を可能とすることにある。

さらに、本発明の別の目的は、塗工表面の急乾煉を防止
し、ひび割れ等の面荒れを無くして良好な塗布面を得る
ことにある。

［課題を解決するための手段］請求項１記載の塗布方法にあっては、上記の課題を解決
するために、回転ロッドまたは回転バーを用いて塗布液
を塗布する方法において、重液を塗布した直後に表面に
基液を薄く塗布することを特徴とするものである。

また、請求項２記載の塗布装置にあっては、回転ロッド
または回転バーを用いて塗布液を塗布する装置において
、重液を塗布するための第１の塗布部と、基液を塗布す
るための第２の塗布部とを隣接して配置し、連続走行し
ているウェブに対して第１及び第２の塗布部を任意の順
序で接触させる手段を備えることを特徴とするものであ
る。

請求項３記載の塗布装置にあっては、回転ロッドまたは
回転バーを用いて塗布液を塗布する装置において、塗工
直後に基液のガス雰囲気ゾーンを有することを特徴とす
るものである。

［作用］請求項１記載の塗布方法にあっては、基液を塗布した直
後に表面に基液を薄く塗布するようにしたので、塗布面
の最上層は薄い基液で覆われる。

したがって、基液が高粘・高濃度の塗布液であっても、
表面の基液の溶解作用により、塗布直後のレベリング効
果が高く、スジの無い平面性の良い塗布面状が得られる
。また、低粘・低濃度の塗布液を用いる場合に比べると
、本発明では、主として表面の基液を乾燥させれば良い
ので、乾燥負荷が少なくて済む。

請求項２記載の塗布装置にあっては、第１及び第２の塗
布部を隣接させたので、塗布液が空気と触れる時間が短
く、気液界面での撹拌作用がないため、塗布液の変化や
泡を巻き込むことがなく、安定した塗布液が供給できる
。また、基液を塗布するための第２の塗布部では、回転
バーに常に基液が薄く塗られているため、汚れや溝内の
詰まりが起きず、長時間安定した塗布ができる。なお、
塗布開始時に、基液を薄く先に塗布し、基液を続けて塗
布するようにすれば、浸透性のウェブでも収縮が段階的
に進み、シワを発生させず、ウェブ切断トラブルが無く
なり稼動率を向上できる。

請求項３記載の塗布装置にあっては、塗布直後のガス雰
囲気を保つようにしたことにより、溶剤塗布特有のウェ
ブへの浸透と表面蒸発のバランスが適度にコントロール
できるため、亀の子状Ｃビ割れ等が発生せず、凹凸の少
ない塗布面状が得られる。

［実施例］第１図は本発明の一実施例に係る塗布装置の概略構成図
である。図において、１はウェブ、４はバー、７は塗布
液、８は掻き上げられた塗布液、９はバーでメタリング
された塗布液、１１は塗布前上下ロール、１２は塗布後
上下ロール、１３はアプリケーターロッド、１４は塗布
液を供給できるアプリケーターロッド受け、１５は塗布
液を回収するためのパン、１６は基液を供給できるバー
受け、１７は基液を溜めるパン、１８はガス雰囲気を保
つためのパーティションプレート、１９は基液、２０は
バーに塗られる基液を示している。

以下、本塗布装置の動作について説明する。

運転を開始するには、塗布前上下ロール１１と塗布後上
下ロール１２が上側に退避した状態（２点鎖線で示す状
Ｒ）で塗布装置にウェブ１を通し、塗布液７をアプリケ
ーターロッド受け１４に供給し、アプリケーターロッド
１３を回転させる。また、基液１９をパン１７に溜め、
バー受け１６の渭にバー４に塗られる基液２０を導き、
バー４を回転さする。ウェブ１はパス状態１ａよりライ
ン運転され、まず、塗布後上下ロール１２を下側に下げ
る二とによりパス状態１ｂとなり、バー４とウェブ１は
接触し、バー４に塗られた基液２０がウェブ１に塗布さ
れる０次に、塗布前上下ロール１１を下側に下げること
により、実線で示すようなウェブ１のパス状態となり、
アプリケーターロッド１３に塗られた塗布液８がウェブ
１に塗布される。

ライン運転中に、バー４の汚れが発生した場合は、塗布
前上下ロール１１を上側に上げることによりウェブ１の
実線で示すパス状態より２点鎖線で示すパス状！ｒＥ、
１ｂに切り替えることにより、数十秒でバー４の洗浄が
できる。このように、運転したまｔでバーの洗浄ができ
るためウェブｌや塗布液７のロスが少なくなる。また、
基液２０が常にバー４にすられているので、バー４の定
期洗浄の周期は長くなる。塗布終了時には、塗布前上下
ロール１１を上側に上げ、塗布後上下ロール１２を上側
に上げ、ウェブ１をパス状ＷＪ１　ｇにすることにより
塗布を止めることができる。

１１匠アクリレート系ポリマーをケトン系溶剤で溶がし、モノ
マーを分散した塗布液を本塗布装置で僅布した。この液
の粘度は１０〜７５ｅｐであった。

ウェブ速度５０ｓ／ｓｉｎ、アプリケーターロッドφ４
０曽−、バーナ１２襞−、ロッド・バー面長１５００ｍ
ｓ、ロッド・バー周速４９ｍ／５ｉｎ（正転）で、６０
μ厚１４５０−一幅のポリエチレンテレフタレートに塗
布した。第２図に示す従来例では、スジ故障、シワトラ
ブル、乾燥能力不足であったが、第１図に示す本発明で
は、上記粘度範囲で塗布面状が優れ、シワの発生が無く
、厚塗りも発生しないため、乾燥能力にも余力ができた
。

［発明の効果］請求項１記載の塗布方法にあっては、重液を塗布した直
後に表面に基液を薄く塗布するものであるから、塗布面
の最上層が薄い基液で覆われるため、塗布直後のレベリ
ング効果が高く、スジの無い平面性の良い塗布面状が得
られる。また、薄い塗布液を用いる場合に比べると、乾
燥負荷が少なくて済み、コストダウンが可能となる。

請求項２記載の塗布装置にあっては、重液を塗布する第
１の塗布部と基液を塗布する第２の塗布部を隣接させた
ことにより、塗布液が空気と触れる時間を短くすること
ができ、また、基液を塗布するための第２の塗布部では
、常に基液が塗られているため、汚れや溝内の詰まりが
起きず、長時間安定した塗布が可能になる。

請求項３記載の塗布装置にあっては、塗布直後のガス雰
囲気を保つようにしたことにより、急激な乾燥を防止し
、塗布面状を改善できるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の概略構成図、第２図は従来
例の概略構成図である。１はウェブ、４はバー、７，８は塗布液、１１は塗布前
上下ロール、１２は塗布後上下ロール、１３はアプリケ
ーターロッド、１８はパーティションプレート、１９．
２０は基液である。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）回転ロッドまたは回転バーを用いて塗布液を塗布
する方法において、本液を塗布した直後に表面に基液を
薄く塗布することを特徴とする塗布方法。
（２）回転ロッドまたは回転バーを用いて塗布液を塗布
する装置において、本液を塗布するための第１の塗布部
と、基液を塗布するための第２の塗布部とを隣接して配
置し、連続走行しているウェブに対して第１及び第２の
塗布部を任意の順序で接触させる手段を備えることを特
徴とする塗布装置。
（３）回転ロッドまたは回転バーを用いて塗布液を塗布
する装置において、塗工直後に基液のガス雰囲気ゾーン
を有することを特徴とする塗布装置。