JPH03290687A - Light-transmissive plate having electromagnetic wave shielding property - Google Patents

Light-transmissive plate having electromagnetic wave shielding property

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JPH03290687A
JPH03290687A JP9421890A JP9421890A JPH03290687A JP H03290687 A JPH03290687 A JP H03290687A JP 9421890 A JP9421890 A JP 9421890A JP 9421890 A JP9421890 A JP 9421890A JP H03290687 A JPH03290687 A JP H03290687A
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JP
Japan
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hard coat
nonglare
base material
film
coat layers
Prior art date
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Application number
JP9421890A
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Japanese (ja)
Inventor
Shoichi Kurasaki
倉崎 庄市
Takashi Taniguchi
孝 谷口
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To shield electromagnetic waves and to improve the transparency, the antireflection property, and the durability by providing specified nonglare halogen coat layers on both faces of a plastic transparent base material and providing a transparent conductive film on one face of the halogen coated base material. CONSTITUTION:Nonglare hard coat layers essentially consisting of an organopolysiloxane are formed on both faces of the plastic transparent base material having >=70% all light transmittance. With respect to materials of these nonglare hard coat layers, various epoxy resin hardening agents or the like are used together with an organopolysiloxane as the essential component. An ITO film is formed as the transparent conductive film on one face of the plastic base material having nonglare hard coat layers by, for example, the sputtering method. Thus, this light-transmissive plate is superior in transparency and nonglare property and has a high surface hardness and has an excellent resistance to scratches, and the electromagnetic wave shielding property and the static electricity removing property are improved.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電磁波シールド性を有する光透過板に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention relates to a light transmitting plate having electromagnetic wave shielding properties.

さらに詳しくは、電磁波を有効に遮断することが可能で
あると同時に、光透過性、反射防止性、耐擦傷性に優れ
、特に液晶デイスプレィ(L CD)やプラズマデイス
プレィ(FDP)等の表示体やコードレスホン、自動車
用電話等から発生する電磁波の遮断に好適である。
More specifically, it is capable of effectively blocking electromagnetic waves, and at the same time has excellent light transmittance, anti-reflection properties, and scratch resistance, and is particularly useful for displays such as liquid crystal displays (LCDs) and plasma displays (FDPs). It is suitable for blocking electromagnetic waves generated from computers, cordless phones, car phones, etc.

[従来の技術] オフィスオートメーション機器、例えばワードプロセッ
サーや各種のコンピュータなどのデイスプレィや、ゲー
ム器、テレビのブラウン管などからは有害な電磁波が多
量に発生しており、健康障害が指摘されたり、また他の
機器への障害が問題となっている。たとえばコンピュー
タに誤信号が入ったり、テレビとステレオを同時につけ
るとステレオから雑音が聞えることはしばしば見受けら
れる。
[Prior Art] Office automation equipment, such as word processors and displays of various computers, game consoles, and television cathode ray tubes, generate large amounts of harmful electromagnetic waves, which have been reported to cause health problems and other problems. Failure to equipment has become a problem. For example, it is often seen that a computer receives a false signal, or that when a TV and stereo are turned on at the same time, noise is heard from the stereo.

そこで従来よりかかる障害を取り除くため種々の改良が
なされてきた。その有効な手段は金属などの導電物で覆
うことである。たとえば細い繊維の表面にカーボンを粘
着させてメツシュ構造にしたものを貼りつけるとか、蝶
理株式会社の商品名“アイセーバー”のように、合わせ
ガラスの内部に金属細線を導入させたものがある。しか
しこれらの方法ではデイスプレィから発生する光を透過
しない部分を生ずるので、ワードプロセッサーなどの使
用者にとっては見に(いという欠点を有していた。
Therefore, various improvements have been made to eliminate such obstacles. An effective means is to cover it with a conductive material such as metal. For example, there are cases where carbon is adhered to the surface of thin fibers to form a mesh structure, and there are cases where thin metal wires are introduced inside laminated glass, such as Chori Co., Ltd.'s product name ``Eye Saver''. However, these methods have the disadvantage that they are difficult to see for users of word processors, etc., because they create areas that do not transmit light emitted from the display.

また、ガラス基材に対して導電物質を高温蒸着した技術
が提案されているが(特公昭49−18447号公報)
、この方法をプラスチック基材に適用しようとすると、
プラスチック基材は軟化あるいは溶融するものが多く、
また表面に傷がつき易いという欠点を改良できず利用で
きないものであった。
In addition, a technique has been proposed in which a conductive material is deposited at high temperature on a glass substrate (Japanese Patent Publication No. 18447/1983).
, when trying to apply this method to plastic substrates,
Many plastic base materials soften or melt,
In addition, the drawback that the surface is easily scratched cannot be improved and cannot be used.

プラスチックの透明板に対しては、特開平1−1310
1号公報には、CRTフィルターとして多官能アクリル
の三次元架橋体からなるノングレア性ハードコート処理
した基板を用い、その上に導電膜を設ける方法が開示さ
れている。しかしながらこの方法においては、透明性、
ハードコート膜と導電膜との接着性などが悪く、LCD
等の受光タイプのデイスプレィには使用不可であった。
For plastic transparent plates, JP-A-1-1310
Publication No. 1 discloses a method in which a non-glare hard-coated substrate made of a three-dimensional crosslinked polyfunctional acrylic material is used as a CRT filter, and a conductive film is provided thereon. However, this method requires transparency,
The adhesion between the hard coat film and the conductive film is poor, and the LCD
It could not be used for light-receiving type displays such as

また、本出願人はすでに電磁波シールド性を有する光透
過板について特開昭62−215202号公報で、プラ
スチック透明幕村上に耐擦過性を有するハードコート層
を設けさらに導電層を設ける技術を開示している。しか
しながら、かかるハードコート層は、ノングレア性を有
する層ではないため、反射防止性の点で不十分であった
In addition, the present applicant has already disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-215202 a technique for providing a hard coat layer with abrasion resistance on a transparent plastic curtain Murakami and further providing a conductive layer on a light transmitting plate having electromagnetic wave shielding properties. ing. However, since such a hard coat layer is not a layer having non-glare properties, it is insufficient in terms of antireflection properties.

[発明が解決しようとする課題] 本発明は上記従来技術の欠点を解消しようとするもので
ある。すなわち、電磁波を有効に遮断することが可能で
あると同時に、透明性1反射防止性、耐擦傷性に優れ、
さらに各層間の密着性に優れるため耐久性にも優れた電
磁波シールド性を有する光透過板を提供することを目的
とする。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention aims to solve the drawbacks of the above-mentioned prior art. In other words, it is possible to effectively block electromagnetic waves, and at the same time has excellent transparency, anti-reflection properties, and scratch resistance.
Furthermore, it is an object of the present invention to provide a light transmitting plate having excellent electromagnetic shielding properties and excellent durability due to excellent adhesion between layers.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために鋭意検討した結果、下記の構
成からなる本発明を完成するに至った。
[Means for Solving the Problems] As a result of intensive studies to achieve the above object, the present invention having the following configuration was completed.

[プラスチック透明基材の両面にオルガノポリシロキサ
ンを主成分としてなるノングレア性ハードコート層を設
け、かつ該ハードコート基材の少なくとも一方の面に透
明導電膜を設けたことを特徴とする電磁波シールド性を
有する光透過板。」本発明におけるプラスチック透明基
材としては透明性を有するものであれば特に限定される
ものではないが、全光線透過率が50%以上、さらには
全光線透過率70%以上である基板が特に好ましい。そ
れらの基板成分の代表的なものとしては、ポリ(ジエチ
レングリコールビスアリルカーボネート)、ポリカーボ
ネート、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリエー
テルエーテルケトン、アクリロニトリル−スチレン共重
合体等が挙げられる。これらの基板としては、その用途
、目的に応じて表面のカップリング剤処理、プライマ剤
の塗布、あるいは化学的な酸、アルカリによる処理、物
理的な各種の処理を施して用いることも好ましい。
[Electromagnetic shielding property characterized by providing a non-glare hard coat layer mainly composed of organopolysiloxane on both sides of a plastic transparent base material, and providing a transparent conductive film on at least one side of the hard coat base material A light transmitting plate with The plastic transparent base material in the present invention is not particularly limited as long as it has transparency, but substrates with a total light transmittance of 50% or more, particularly a total light transmittance of 70% or more are particularly suitable. preferable. Typical substrate components include poly(diethylene glycol bisallyl carbonate), polycarbonate, polymethyl (meth)acrylate, polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polyether ether ketone, acrylonitrile-styrene copolymer, etc. . It is also preferable to use these substrates after subjecting the surface to coupling agent treatment, coating with a primer agent, chemical acid or alkali treatment, or various physical treatments depending on the use and purpose.

本発明におけるノングレア性ハードコート層は、オルガ
ノポリシロキサンを主成分としてなるが、塗膜の硬さ、
その上に設けられる透明導電膜との密着性の強さの点で
、下記一般式(A)で示される有機ケイ素化合物および
/またはその加水分解縮合物の1種または2種以上から
なる混合物を硬化して得られるところのオルガノポリシ
ロキサン系樹脂をビヒクル成分としてなる硬化膜が好適
に用いられる。
The non-glare hard coat layer in the present invention is mainly composed of organopolysiloxane, but the hardness of the coating film
In terms of strong adhesion to the transparent conductive film provided thereon, a mixture of one or more of the organosilicon compounds represented by the following general formula (A) and/or their hydrolyzed condensates may be used. A cured film containing an organopolysiloxane resin obtained by curing as a vehicle component is preferably used.

R’  m  R2S t Xa −0+。     
(A)(式中R1、R2は炭素数1〜6の炭化水素基ま
たはアミノ基、エポキシ基、メルカプト基、もしくはメ
タクリルオキシ基を含む有機基、Xはハロゲン、アルコ
キシ基またはアシルオキシ基、albは各々0.1また
は2であってかつa+bは0.1または2である)。
R' m R2S t Xa -0+.
(A) (In the formula, R1 and R2 are a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms or an organic group containing an amino group, an epoxy group, a mercapto group, or a methacryloxy group, X is a halogen, an alkoxy group, or an acyloxy group, and alb is 0.1 or 2, respectively, and a+b is 0.1 or 2).

上記(A)の一般式で示される化合物の具体例としては
テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ
プロポキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラクロ
ロシランなどの4官能シラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプトキシシ
ラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリメトキシシ
ラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリクロロシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、ビニルトリクロロシラン、フェニルトリクロロ
シラン、N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレン
ジアミン、アミノメチルトリメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシランなどの3官能性シ
ラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルジェトキシシ
ラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジアセトキシ
シラン、ジエチルジブトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロ
ピルメチルジェトキシシランなどの2官能性シランなど
があげられる。加水分解はこれらを単独または2種以上
組み合わせて、適当な有機溶剤と水との存在下、あるい
は水のみの存在下で行われる。この場合塩酸などの酸を
少量併用すると加水分解が効果的に進行することが多い
。この際通常の場合加水分解中に一部生成したシラノー
ルの縮合が起こることがあるが著しい増粘、ゲル化に至
らない限りとくにさしつかえない。
Specific examples of the compound represented by the general formula (A) above include tetrafunctional silanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetrabutoxysilane, and tetrachlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, Methyltriptoxysilane, methyltrichlorosilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrichlorosilane, phenyltrichlorosilane, N-(trimethoxysilylpropyl)ethylenediamine , aminomethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, β-(3,4epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ
- Trifunctional silanes such as mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethyljethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldiacetoxysilane, diethyldibutoxysilane, γ-glycidoxy Examples include bifunctional silanes such as propylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, and γ-glycidoxypropylmethyljethoxysilane. Hydrolysis is carried out using these compounds alone or in combination of two or more in the presence of an appropriate organic solvent and water, or in the presence of water alone. In this case, hydrolysis often proceeds effectively when a small amount of an acid such as hydrochloric acid is used in combination. At this time, condensation of some silanol produced during hydrolysis may normally occur, but this is not a particular problem as long as it does not lead to significant thickening or gelation.

本発明のノングレア性ハードコート層において、ノング
レア性としては、ヘイズ値が3%以上であれば好ましく
用いることができる。ここでいうヘイズ値とはJ l5
K7105に準じて測定した拡散透過率を全光線透過率
で割った商を100分率で表わした値を意味する。本発
明においては、このヘイズ値を発現させる方法としては
、従来公知の種々の方法を含めて、どのような方法であ
っても用いることができるが、好ましい方法としては例
えば、 ■ 平均−次粒子径5nm〜1100nのシリカ微粒子
を水および/またはアルコール等の有機溶媒中にコロイ
ド状に分散させたいわゆるシリカゾルを、ポリブチラー
ルなどの有機ポリマーと共存させビヒクル中に均一に凝
集分散させる方法(例えば特公昭61−54066号参
照)、 ■ 上記と同様のシリカゾルと、−次粒子径が5nm〜
50nmである粒子の二次凝集体からなる粒径1、On
m〜5Qnmのシリカ微粉末とを均一に分散させる方法
(例えば特開平1−256576号参照)、などが挙げ
られる。
In the non-glare hard coat layer of the present invention, a haze value of 3% or more can be preferably used for non-glare properties. What is the haze value here?
It means the value expressed as a 100% of the quotient obtained by dividing the diffuse transmittance measured according to K7105 by the total light transmittance. In the present invention, any method can be used to develop this haze value, including various conventionally known methods, but preferred methods include, for example: A method in which so-called silica sol, in which fine silica particles with a diameter of 5 nm to 1100 nm are dispersed colloidally in an organic solvent such as water and/or alcohol, is uniformly aggregated and dispersed in a vehicle by coexisting with an organic polymer such as polybutyral (for example, (Refer to Publication No. 61-54066), ■ The same silica sol as above and a particle size of 5 nm ~
Particle size 1, consisting of secondary aggregates of particles that are 50 nm, On
Examples include a method of uniformly dispersing fine silica powder of m to 5 Q nm (see, for example, JP-A-1-256576).

本発明のノングレア性ハードコート層においては、主成
分であるオルガノポリシロキサンとともに、硬化促進、
低温硬化などを可能とする目的で各種の硬化剤を併用可
能である。硬化剤としては各種エポキシ樹脂硬化剤、あ
るいは各種有機ケイ素樹脂硬化剤などが使用される。
In the non-glare hard coat layer of the present invention, in addition to organopolysiloxane, which is the main component, curing acceleration,
Various curing agents can be used in combination to enable low-temperature curing. As the curing agent, various epoxy resin curing agents or various organosilicon resin curing agents are used.

これら硬化剤の具体的な例としては、各種の有機酸およ
びそれらの酸無水物、窒素含有有機化合物、各種金属錯
化合物あるいは金属アルコキシドさらにはアルカリ金属
の有機カルボン酸塩、炭酸塩などの各種塩が挙げられる
。これらの硬化剤は2種以上混合して使用することも可
能である。これら硬化剤の中でも本発明の目的には、塗
料の安定性、コーテイング後の塗膜の着色の有無などの
売から、とくに下記に示すアルミニウムキレート化合物
が有用である。
Specific examples of these curing agents include various organic acids and their acid anhydrides, nitrogen-containing organic compounds, various metal complex compounds or metal alkoxides, and various salts such as organic carboxylates and carbonates of alkali metals. can be mentioned. It is also possible to use a mixture of two or more of these curing agents. Among these curing agents, the aluminum chelate compounds shown below are particularly useful for the purpose of the present invention in view of the stability of the coating material and the presence or absence of coloration of the coating film after coating.

ここでいうアルミニウムキレート化合物とは、例えば−
大計AIX、、Y3−..で示されるアルミニウムキレ
ート化合物である。ただし、式中XはOL (Lは低級
アルキル基)、Yは一般式%式% 低級アルキル基)で示される化合物に由来する配位子お
よび一般計M 3COCH2COOM ’  (M3、
M4はいずれも低級アルキル基)で示される化合物に由
来する配位子から選ばれる少くとも1つであり、nは0
,1または2である。
The aluminum chelate compound mentioned here is, for example, -
Daito AIX,, Y3-. .. This is an aluminum chelate compound represented by However, in the formula, X is OL (L is a lower alkyl group), Y is a ligand derived from a compound represented by the general formula (% lower alkyl group), and the general total M3COCH2COOM' (M3,
M4 is at least one ligand derived from a compound represented by a lower alkyl group, and n is 0.
, 1 or 2.

AIX、、Y3−□で示されるアルミニウムキレート化
合物としては、各種の化合物をあげ得るが、組成物への
溶解性、安定性、硬化触媒としての効果などの観点から
とくに好ましいのは、アルミニウムアセチルアセトネー
ト、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモノアセ
チルアセトネート、アルミニウムージ−n−ブトキシド
−モノエチルアセトアセテート、アルミニウムージー1
so−プロポキシド−モノメチルアセトアセテートなど
である。これらは2種以上を混合して使用することも可
能である。
Various compounds can be used as the aluminum chelate compound represented by AIX, Y3-□, but aluminum acetylacetate is particularly preferred from the viewpoint of solubility in the composition, stability, and effect as a curing catalyst. aluminum di-n-butoxide-monoethyl acetoacetate, aluminum bisethyl acetoacetate, aluminum di-n-butoxide monoacetylacetoacetate, aluminum di-1
so-propoxide-monomethyl acetoacetate and the like. It is also possible to use a mixture of two or more of these.

本発明のプラスチック透明基材上へのノングレア性ハー
ドコート層の塗布手段としては、刷毛塗り、浸漬塗り、
ロール塗り、スプレー塗装、スピン塗装、流し塗りなど
の通常行われる塗布方法が容易に使用可能である。
The means for applying the non-glare hard coat layer on the plastic transparent substrate of the present invention include brush coating, dip coating,
Conventional application methods such as roll coating, spray coating, spin coating, and flow coating can be easily used.

特に、ノングレア性付与成分として前記のとおりシリカ
微粉末を用いた場合においては、シリカ微粉末の沈降を
防止する目的から塗布に先立ってあらかじめ、コーティ
ング組成物を撹拌することが好ましい。撹拌方法として
は単純な撹拌棒による撹拌も可能であるし、循環濾過を
行いつつ、撹拌を兼ねる方法も本発明には好ましいもの
である。
In particular, when fine silica powder is used as the non-glare imparting component as described above, it is preferable to stir the coating composition before application in order to prevent the fine silica powder from settling. As for the stirring method, stirring using a simple stirring bar is possible, and a method that also performs stirring while performing circulation filtration is also preferable for the present invention.

ノングレア性ハードコート層の膜厚はとくに限定される
ものではないが、接着強度の保持、硬度などの点から0
. 5μm〜20ttmの間で好ましく用いられる。特
に好ましくは0.7μm〜15μmである。また、コー
ティング組成物の塗布にあたっては作業性、被膜厚さ調
節などから各種溶剤により、稀釈して用いられるが稀釈
溶剤としては例えば水、アルコール、エステル、エーテ
ル、ケトン、ハロゲン化炭化水素あるいはトルエンなど
の芳香族系溶媒などが目的に応じて種々使用可能であり
、必要に応じて混合溶媒を使用することもできる。
The thickness of the non-glare hard coat layer is not particularly limited, but from the viewpoint of maintaining adhesive strength and hardness,
.. It is preferably used between 5 μm and 20 ttm. Particularly preferably, the thickness is 0.7 μm to 15 μm. In addition, when applying the coating composition, it is used after being diluted with various solvents for reasons such as workability and film thickness control. Examples of diluting solvents include water, alcohol, ester, ether, ketone, halogenated hydrocarbon, or toluene. A variety of aromatic solvents can be used depending on the purpose, and a mixed solvent can also be used if necessary.

また、ノングレア性付与成分として前記のとおリシリカ
微粉末を用いた場合においては、その分散方法としては
単純な撹拌羽根使用による撹拌でも可能であるが、さら
に分散状態を良好にする意味からはペイントコンディシ
ョナー、サンドミル、三本ロール、ボールミル、ホモミ
キサー、ホモジナイザーなどが好ましく使用される。再
現性などの点からホモミキサー、ホモジナイザーが最も
好ましく使用される。また、分散状態を安定に保ち、塗
膜全体の均一性を改良する目的から各種界面活性剤の添
加も好ましく適用され、シリコーン系界面活性剤、フッ
素系界面活性剤、有機界面活性剤などが使用される。
In addition, when using the above-mentioned fine silica powder as a non-glare imparting component, it is possible to disperse it by stirring with a simple stirring blade, but in order to further improve the dispersion state, it is recommended to use paint conditioner. , a sand mill, a three-roll mill, a ball mill, a homomixer, a homogenizer, etc. are preferably used. From the viewpoint of reproducibility, homomixers and homogenizers are most preferably used. In addition, in order to maintain a stable dispersion state and improve the uniformity of the entire coating film, it is preferable to add various surfactants, such as silicone surfactants, fluorine surfactants, and organic surfactants. be done.

これらの組成物から被膜を形成するにはこれらの組成物
を含有するコーティング組成物を塗布の後、加熱により
乾燥硬化させる。硬化温度は選択される化合物、作業条
件によっても異なるが60℃〜300℃、さらには80
℃〜200℃が好ましく用いられる。これより低温度で
は硬化が不十分である傾向があり、高温度ではクラック
、被膜の分解などの問題が生じる場合がある。
To form a film from these compositions, a coating composition containing these compositions is applied and then dried and cured by heating. The curing temperature varies depending on the compound selected and working conditions, but may range from 60°C to 300°C, or even 80°C.
C. to 200.degree. C. is preferably used. At lower temperatures, curing tends to be insufficient, and at higher temperatures, problems such as cracks and film decomposition may occur.

以上のノングレア性ハードコート層は、プラスチック透
明基材の両面に設けられることがハードコート性を良好
に発現する上で好ましく、さらに、このノングレア性ハ
ードコート層が、その上に設けられる導電膜との密着性
を向上させるといった性能を有する。
The above-mentioned non-glare hard coat layer is preferably provided on both sides of the plastic transparent base material in order to exhibit good hard coat properties, and furthermore, this non-glare hard coat layer is preferably provided on both sides of the plastic transparent substrate. It has the ability to improve the adhesion of

本発明における透明導電膜は、電磁波を有効に遮断する
ものであり、可視光線を透過し得るものであればいかな
るものであってもよい。特に、PDP、LCD等の表示
体に搭載して使用する場合には、50%以上の全光線透
過率を得られる膜であることが好ましい。好ましい透明
導電膜としては、酸化インジウム(In203)と酸化
スズ(Sn02)との混合物(以下ITOと言う)、酸
化スズと酸化アンチモンとの混合物等の金属酸化物から
なる薄膜、金、銀、ニッケル、銅、クロム、アルミニウ
ム等の少なくとも一種の金属から得られる金属薄膜など
があげられる。
The transparent conductive film in the present invention may be any film as long as it can effectively block electromagnetic waves and can transmit visible light. In particular, when the film is mounted on a display such as a PDP or LCD, it is preferable that the film can obtain a total light transmittance of 50% or more. Preferred transparent conductive films include thin films made of metal oxides such as a mixture of indium oxide (In203) and tin oxide (Sn02) (hereinafter referred to as ITO), a mixture of tin oxide and antimony oxide, gold, silver, and nickel. , a metal thin film obtained from at least one kind of metal such as copper, chromium, or aluminum.

これらの薄膜の形成は、スパッタリング法、熱CVD法
、イオンブレーティング法、真空蒸着法等によって可能
である。特に好ましい透明導電膜としては、゛透明性が
優れている点でITOからなる膜、5n02からなる膜
が挙げられる。薄膜の膜厚は、かかる効果を奏する程度
であればいがなる厚さでも良いが、透明性、密着性、経
済性から適宜選択され、好ましくは金属薄膜においては
、5〜100人、金属酸化物においては100〜300
Aである。膜厚が厚いと透明性が悪くなり、導電膜のク
ラック等が生じ易くなる。膜厚が薄いと電磁波シールド
性が悪くなる傾向がある。
These thin films can be formed by a sputtering method, a thermal CVD method, an ion blasting method, a vacuum evaporation method, or the like. Particularly preferable transparent conductive films include a film made of ITO and a film made of 5n02 because of their excellent transparency. The thickness of the thin film may be any thickness as long as it produces such an effect, but it is selected appropriately from the viewpoint of transparency, adhesion, and economic efficiency. 100-300 in
It is A. When the film thickness is large, transparency deteriorates and cracks in the conductive film are likely to occur. If the film thickness is thin, electromagnetic shielding properties tend to deteriorate.

本発明において、反射防止を目的として、導電膜の表面
に単層、または多層の反射防止層を設けることも何ら問
題がない。好ましい層の例としては、シリカを含む層等
があげられる。かかるシリカ層はシリカをスパッタリン
グ、あるいは真空蒸着することによって得ることが出来
る。膜厚は可視光線を反射防止できる範囲で適宜選定す
ることが出来る。
In the present invention, there is no problem in providing a single layer or multilayer antireflection layer on the surface of the conductive film for the purpose of antireflection. An example of a preferable layer is a layer containing silica. Such a silica layer can be obtained by sputtering or vacuum depositing silica. The film thickness can be appropriately selected within a range that can prevent reflection of visible light.

本発明の電磁波シールド性を有する光透過板には、電磁
波障害を防ぐため、あるいは静電気を除去するために、
アースを取り付けたり、電磁波遮蔽材を用いた枠をその
周囲に取り付けることもより効果を発現させる上で有効
である。枠の材料としては、銅はく、鉄はく等の金属は
(、亜鉛メツキ鉄板、銅メツキ鉄板、アルミ板等の金属
板あるいは銅網等の金属材料が好ましい。また、プラス
チック製の枠を用いる場合においては、枠の表面に亜鉛
の溶射、銅やニッケルの化学メツキおよび電気メツキ、
ニッケル粉、銅粉、銀粉などの金属粉を含む導電性塗料
の塗布等の方法が用いられる。
In order to prevent electromagnetic interference or remove static electricity, the light transmitting plate having electromagnetic wave shielding properties of the present invention has
Attaching a ground or attaching a frame using electromagnetic wave shielding material around it is also effective in achieving more effects. As for the material of the frame, metals such as copper foil and iron foil are preferable (metal plates such as galvanized iron plate, copper-plated iron plate, aluminum plate, etc., or metal materials such as copper mesh are preferable. When used, the surface of the frame may be sprayed with zinc, chemically plated with copper or nickel, or electroplated with copper or nickel.
A method such as applying a conductive paint containing metal powder such as nickel powder, copper powder, or silver powder is used.

またプラスチック中に金属やカーボン等をフレークや繊
維の形状で充填することも好ましい。これらの枠及びア
ースは該導電膜と接触あるいは導電状態にしておくこと
が遮断ロスを防止する上で好ましい。
It is also preferable to fill the plastic with metal, carbon, etc. in the form of flakes or fibers. It is preferable to keep these frames and the ground in contact with the conductive film or in a conductive state in order to prevent interruption loss.

本発明の電磁波シールド性を有する光透過板は透明性、
ノングレア、耐擦傷性および耐久性に優れ、CRTやフ
ラットデイスプレィの画面のフィルタはもとより、通信
機器(自動車用電話、ポータプル電話機、ポケットベル
、ファクシミリ等)の用途にも特に好ましく用いること
が出来る。特に表示面とできるだけ密着させて使用する
ことが解像度を低下させないことから好ましい。
The light transmitting plate having electromagnetic wave shielding properties of the present invention has transparency,
It has excellent non-glare, scratch resistance and durability, and can be particularly preferably used not only as a filter for CRT and flat display screens, but also for communication equipment (car phones, portable telephones, pagers, facsimiles, etc.). In particular, it is preferable to use it in close contact with the display surface as much as possible because resolution will not be reduced.

[実施例] 本発明の特徴を明瞭にするために次に実施例を挙げるが
、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
[Examples] In order to clarify the characteristics of the present invention, Examples are given below, but the present invention is not limited to these Examples.

以下、実施例において「部」は、「重量部」を示す。Hereinafter, in the examples, "parts" indicate "parts by weight."

実施例1 基材として市販の′ポリメチルメタクリレート板(三菱
レーヨン株式会社製“アクリライト”、厚さ1.50)
を使用した。
Example 1 A commercially available polymethyl methacrylate plate (“Acrylite” manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., thickness 1.50) was used as a base material.
It was used.

メチルトリメトキシシラン272部を10℃に冷却しよ
く攪拌しながら0.01規定の塩酸水溶液108部を滴
下する。反応中湿度が10℃を越えないように冷却しな
がら滴下を行う。同様にしビニルシリエトキシシラン1
90部に0.05規定の塩酸水溶液54部を滴下し加水
分解を行う。
272 parts of methyltrimethoxysilane was cooled to 10° C., and 108 parts of a 0.01N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise while stirring well. The dropwise addition is carried out while cooling so that the humidity does not exceed 10°C during the reaction. Similarly, vinylsylethoxysilane 1
Hydrolysis is carried out by dropping 54 parts of a 0.05N hydrochloric acid aqueous solution into 90 parts.

さらに硬化触媒0.2重量部、シリコーン系界面活性剤
0.05重量部、混合溶媒を加え撹拌溶解させた。この
液にさらにノングレア性を発現するためにメタノール分
散コロイド状シリカゾル(日産化学■製、固形物濃度3
0重量%)20部およびポリビニルブチラール樹脂(種
水化学工業■製品“エスレック”BMS)1.5部を加
え撹拌し、塗液とした。この塗液に前記基板に浸漬し、
塗布した。熱風乾燥器で90℃、2.0時間加熱硬化し
、ノングレア性ハードコート層を有するプラスチック基
材を板得た。
Further, 0.2 parts by weight of a curing catalyst, 0.05 parts by weight of a silicone surfactant, and a mixed solvent were added and dissolved with stirring. In order to further develop non-glare properties in this liquid, methanol-dispersed colloidal silica sol (manufactured by Nissan Chemical ■, solids concentration 3) was added.
0% by weight) and 1.5 parts of polyvinyl butyral resin (Tanezu Chemical Industry ■ product "S-LEC" BMS) were added and stirred to prepare a coating liquid. immersing the substrate in this coating liquid,
Coated. The material was cured by heating at 90° C. for 2.0 hours in a hot air dryer to obtain a plastic substrate having a non-glare hard coat layer.

得られたノングレア性ハードコート層を有するプラスチ
ック基材の片面に透明導電膜として、スパッタリング法
で700人の厚みのITO膜を設けた。スパッタリング
法の条件は、インジウム−スズ合金(インジウム=95
重量%、スズ:5重量%)をターゲットとしてマグネト
ロンスパッタ装置を用いてアルゴン/酸素の混合ガスを
導入(アルゴン200 SCCM/酸素10 SCCM
)の条件で行った。得られた光透過板の表面固有抵抗値
は100Ω/口であった。
An ITO film having a thickness of 700 mm was provided as a transparent conductive film on one side of the obtained plastic substrate having the non-glare hard coat layer by a sputtering method. The conditions of the sputtering method are indium-tin alloy (indium = 95
Using a magnetron sputtering device, a mixed gas of argon/oxygen was introduced using a magnetron sputtering device (200 SCCM of argon/10 SCCM of oxygen) using a magnetron sputtering device as a target.
) conditions. The surface specific resistance value of the obtained light transmitting plate was 100Ω/hole.

得られた光透過板について以下の方法で性能評価した。The performance of the obtained light transmitting plate was evaluated by the following method.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

(イ)全光線通過率;JIS  K7105G、m準じ
て測定した。
(a) Total light transmission rate: Measured according to JIS K7105G, m.

(ロ)ヘイズ;JIS  K7105に準じて測定し拡
散透過率を全光線透過率で割り、100分率で表わした
(b) Haze: Measured according to JIS K7105 and expressed as a percentage by dividing the diffuse transmittance by the total light transmittance.

(ハ)表面光沢度;村山色材研究所製グロスメーター(
タイプGM−3M)を用い、 60°角の表面光沢を測定した。
(c) Surface gloss; gloss meter manufactured by Murayama Color Research Institute (
Type GM-3M) was used to measure the surface gloss at a 60° angle.

(ニ)耐擦傷性試験、#0000スチールウールで荷重
1.5kg/alかけて塗布面を摩擦し傷のつき具合を
調べた。
(d) Scratch resistance test: The coated surface was rubbed with #0000 steel wool under a load of 1.5 kg/al to examine the degree of scratching.

(ホ)密着性;透過板表面に安全カミソリの刃で10×
10のゴバン目を100ケ切 り込み、セロハン粘着テープにチバ ン■製“セロテープ”)を強くはりっ け90°方向へ急激にはがし、塗膜は くりの有無を調べた。
(e) Adhesion: 10x with a safety razor blade on the surface of the transparent plate.
100 cuts were made in 10 grids, and a cellophane adhesive tape ("Cellotape" manufactured by Chiban ■) was strongly applied and peeled off rapidly in a 90° direction to examine whether or not the paint film peeled off.

(へ)電磁波遮蔽;周波数10GHxにおける電磁波遮
蔽効果(d B)を次式で求めた。
(f) Electromagnetic wave shielding: The electromagnetic wave shielding effect (d B) at a frequency of 10 GHx was determined using the following formula.

P。P.

P、は入射電界強度、P2は通過電界 強度を示す。P, is the incident electric field strength, P2 is the passing electric field Indicates strength.

実施例2 実施例1において、スパッタリング法によるインジウム
−スズ合金をターゲットとした透明導電膜に変えて、金
と銀を真空蒸着法により設けた50人厚み(金の蒸着厚
み:銀の蒸着厚み=1:2)の透明導電膜とした以外は
、実施例1と同様にして光透過板を得た。表面固有抵抗
値は、13Ω/口であった。
Example 2 In Example 1, instead of using a transparent conductive film targeting an indium-tin alloy by sputtering, gold and silver were deposited by vacuum evaporation to a thickness of 50 mm (gold evaporation thickness: silver evaporation thickness = A light transmitting plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a transparent conductive film having a ratio of 1:2) was used. The surface specific resistance value was 13Ω/mouth.

得られた光透過板は透明性、擦傷性、密着性、電磁波シ
ールド性に優れた基板であった。結果を第1表に示す。
The resulting light transmitting plate was a substrate with excellent transparency, scratch resistance, adhesion, and electromagnetic shielding properties. The results are shown in Table 1.

実施例3 ノングレア性ハードコート膜の形成方法を下記の方法に
代える以外はすべて実施例1と同様にして、光透過板を
得た。
Example 3 A light transmitting plate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the method for forming the non-glare hard coat film was replaced with the method described below.

γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ=7−塩酸
加水分解物100部にアルミニウムアセチルアセトネー
ト6部、フッ素系界面活性剤1.3部、メタノール分散
コロイド状シリカゾル(触媒化成■製“08CAL−1
132″、固形分30重量%)200部、アセチルアセ
トン12部を添加し、充分撹拌混合を行った。さらにシ
リカ微粉末(日本アエロジル社製“AERO8IL38
0”)10部を添加し、ホモジナイザーによる分散を行
いコーティング組成物とした。
100 parts of γ-glycidoxypropyltrimethoxysila = 7-hydrochloric acid hydrolyzate, 6 parts of aluminum acetylacetonate, 1.3 parts of fluorine surfactant, methanol-dispersed colloidal silica sol (manufactured by Catalyst Kasei ■ "08CAL-1")
132", solid content 30% by weight) and 12 parts of acetylacetone were added and thoroughly stirred and mixed. Furthermore, fine silica powder ("AERO8IL38" manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) was added and 12 parts of acetylacetone were added.
0'') was added and dispersed using a homogenizer to obtain a coating composition.

(2)  ノングレア製ハードコート膜の作製基材とし
て市販の“CR−39” (ジエチレングリコールビス
アリルカーボネート重合体)からなる基板、1.5mm
厚みに前処理として、カセイソーダ水溶液に浸漬後、洗
浄したものを使用した。
(2) A substrate made of commercially available “CR-39” (diethylene glycol bisallyl carbonate polymer), 1.5 mm, as a base material for producing a non-glare hard coat film.
As a pretreatment for thickness, the material was immersed in a caustic soda aqueous solution and then washed.

前記(1)のコーティング組成物に基板を浸漬すること
により塗布し、熱風乾燥器で80℃、15分間の予備キ
ュアを行った後130℃、20時間の加熱キュアを行っ
た。得られた塗膜は3. 0μmであった。
The substrate was coated by dipping the coating composition in (1) above, precured at 80° C. for 15 minutes in a hot air dryer, and then heated at 130° C. for 20 hours. The obtained coating film was 3. It was 0 μm.

以上により得られた光透過板は透明性、擦傷性、密着性
、電磁波シールド性に優れた基板であった。
The light transmitting plate thus obtained was a substrate with excellent transparency, scratch resistance, adhesion, and electromagnetic shielding properties.

結果を第1表に示す。The results are shown in Table 1.

比較例1 実施例1において導電膜を設けず、平均粒子径2μmの
ニッケル粒子50部をノングレア性ハードコート層形成
用コーティング組成物中に分散させた以外は、同様にし
て光透過板を得た。電磁波遮蔽効果は良好であったが、
透明性が悪く、フラットデイスプレィ上での使用は不可
であった。結果を第1表に示す。
Comparative Example 1 A light transmitting plate was obtained in the same manner as in Example 1, except that a conductive film was not provided and 50 parts of nickel particles with an average particle diameter of 2 μm were dispersed in a coating composition for forming a non-glare hard coat layer. . Although the electromagnetic wave shielding effect was good,
It had poor transparency and could not be used on a flat display. The results are shown in Table 1.

[発明の効果] 本発明によれば、以下の特徴を兼ね供えた電磁波シール
ド性を有する光透過板を提供することができる。
[Effects of the Invention] According to the present invention, it is possible to provide a light transmitting plate having electromagnetic wave shielding properties and having the following features.

1、透明性に優れる。1. Excellent transparency.

2、ノングレア性に優れる。2. Excellent non-glare properties.

3、表面硬度が高く、擦傷性に優れる。3. High surface hardness and excellent scratch resistance.

4、電磁波シールド性と静電気除去に優れている。4. Excellent electromagnetic shielding and static electricity removal.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)プラスチック透明基材の両面にオルガノポリシロ
キサンを主成分としてなるノングレア性ハードコート層
を設け、かつ該ハードコート基材の少なくとも一方の面
に透明導電膜を設けたことを特徴とする電磁波シールド
性を有する光透過板。
(1) Electromagnetic waves characterized by providing a non-glare hard coat layer mainly composed of organopolysiloxane on both sides of a plastic transparent base material, and providing a transparent conductive film on at least one side of the hard coat base material. A light transmitting plate with shielding properties.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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