JPH03288639A - 断熱材 - Google Patents
断熱材Info
- Publication number
- JPH03288639A JPH03288639A JP9105090A JP9105090A JPH03288639A JP H03288639 A JPH03288639 A JP H03288639A JP 9105090 A JP9105090 A JP 9105090A JP 9105090 A JP9105090 A JP 9105090A JP H03288639 A JPH03288639 A JP H03288639A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat insulating
- insulating material
- coating film
- sic
- filler
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 46
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 46
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 45
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 abstract description 45
- 239000000945 filler Substances 0.000 abstract description 27
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 10
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 7
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000010439 graphite Substances 0.000 abstract description 7
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 abstract 1
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910020968 MoSi2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910004166 TaN Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910033181 TiB2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000012774 insulation material Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 18
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 10
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 8
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 5
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 5
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000516 activation analysis Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011449 brick Substances 0.000 description 1
- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 239000004834 spray adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は断熱材に係り、特に耐風速性、耐摩耗性、耐久
性、断熱性等の各種特性に優れた断熱材に関する。
性、断熱性等の各種特性に優れた断熱材に関する。
[従来の技術]
従来、各種高温炉の耐火断熱材としては、セラミック繊
維の織布又は不織布を所定形状に成形してなる断熱材が
一般に使用されている。
維の織布又は不織布を所定形状に成形してなる断熱材が
一般に使用されている。
[発明が解決しようとする課題]
従来のセラミック繊維製断熱材では、次のような欠点が
あった。
あった。
■ セラミック繊維は細くて脆いので、耐風速性に劣る
。このため、含塵流体中や高速流体中では使用できない
。
。このため、含塵流体中や高速流体中では使用できない
。
■ セラミック同志が強く結合していないため、極めて
破損し易い。
破損し易い。
■ ■、■よりセラミックの短繊維や粉末が炉内を浮遊
し、炉内処理物を汚染する。この現象は減圧工程を含む
炉では特に著しい。
し、炉内処理物を汚染する。この現象は減圧工程を含む
炉では特に著しい。
■ 断熱材中には不純物が含まれており、この不純物が
炉内に拡散して被処理物を汚染する。
炉内に拡散して被処理物を汚染する。
例えば、従来の断熱材をSi単結晶引上げ装置(CZ法
)やGaAs単結晶引上げ装置(LEC法)の加熱溶融
炉の断熱材として用いた場合、断熱材中の不純物が引上
げSi単結晶やGaAs単結晶に拡散して単結晶の純度
を低下させる。
)やGaAs単結晶引上げ装置(LEC法)の加熱溶融
炉の断熱材として用いた場合、断熱材中の不純物が引上
げSi単結晶やGaAs単結晶に拡散して単結晶の純度
を低下させる。
特に、近年、超LSIのメガビット時代を迎え、基板結
晶の高純度完全性に対する要求が厳しくなっており、上
記■の問題は解決すべき重大な問題とされている。
晶の高純度完全性に対する要求が厳しくなっており、上
記■の問題は解決すべき重大な問題とされている。
上記問題を解決するために、断熱材表面にCV D (
Chemical Vapor Deposition
)又はcvr(Chemical Vapor Imp
regnation)法により、耐火性、耐摩耗性等に
優れた炭化珪素(S i C)又は窒化珪素(Si3N
+)の被覆膜を形成することも考えられるが、この場合
には、新たに次のような問題が生起する。
Chemical Vapor Deposition
)又はcvr(Chemical Vapor Imp
regnation)法により、耐火性、耐摩耗性等に
優れた炭化珪素(S i C)又は窒化珪素(Si3N
+)の被覆膜を形成することも考えられるが、この場合
には、新たに次のような問題が生起する。
■ 繊維質断熱材は気孔率の大きな材料であるため、S
iC又はSi3N4が断熱材内部まで深(浸透し、熱伝
導性の良いSiC又はSi3N4の連続膜層が断熱材内
部にまで形成されることとなり、断熱材の断熱性が低下
する。
iC又はSi3N4が断熱材内部まで深(浸透し、熱伝
導性の良いSiC又はSi3N4の連続膜層が断熱材内
部にまで形成されることとなり、断熱材の断熱性が低下
する。
■ 断熱材の構成繊維がSiC又はSi3N4と熱膨張
係数が大きく異なる繊維の場合、健全な被ill!を形
成することができず、SiC又はSi3N+被覆膜の割
れや剥離か生じる。
係数が大きく異なる繊維の場合、健全な被ill!を形
成することができず、SiC又はSi3N+被覆膜の割
れや剥離か生じる。
本発明は上記従来の問題点を解決し、耐風速性、耐摩耗
性、耐久性、断熱性等の各種特性に優れ、また、使用系
内を汚染することかない断熱材を提供することを目的と
する。
性、耐久性、断熱性等の各種特性に優れ、また、使用系
内を汚染することかない断熱材を提供することを目的と
する。
[課題を解決するための手段]
本発明の断熱材は、セラミック繊維で構成された断熱材
本体の表層部に、セラミック及び耐熱金属よりなる群か
ら選ばれる少なくとも1種の粉末及び/又は短繊維が充
填されており、更にその表面にSiC被覆膜又はSi3
N4被覆膜が形成されていることを特徴とする。
本体の表層部に、セラミック及び耐熱金属よりなる群か
ら選ばれる少なくとも1種の粉末及び/又は短繊維が充
填されており、更にその表面にSiC被覆膜又はSi3
N4被覆膜が形成されていることを特徴とする。
以下に本発明を図面を参照して詳細に説明する。
第1図は本発明の断熱材の一実施例を示す断面の模式図
、第2図は第1図の11部の拡大図である。
、第2図は第1図の11部の拡大図である。
なお、以下においては、SiC被覆膜を設りる場合につ
いて説明するか、Si3N4被覆膜を設ける場合につい
ても同様である。
いて説明するか、Si3N4被覆膜を設ける場合につい
ても同様である。
図示の如く、本発明の断熱材1は、セラミック繊維2で
構成された断熱材本体3の表層部に、セラミック及び耐
熱金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の粉末及
び/又は短繊維(以下「充填材」という。)4が充填さ
れており(充填層5)、更にその表面にSiC被覆膜6
が形成されているものである。
構成された断熱材本体3の表層部に、セラミック及び耐
熱金属よりなる群から選ばれる少なくとも1種の粉末及
び/又は短繊維(以下「充填材」という。)4が充填さ
れており(充填層5)、更にその表面にSiC被覆膜6
が形成されているものである。
本発明において、断熱材本体3を構成するセラミック繊
維の材質としては、ジルコニア系、シリカ系、アルミナ
系、アルミナ・シリカ系、炭素系、黒鉛系、炭化珪素系
等のセラミックが挙げられる。また、断熱材の形態とし
ては特に制限はなく、フェルト状、ボード状、ブランケ
ット状、ペーパー状、ブロック状等、各種形態を採り得
る。
維の材質としては、ジルコニア系、シリカ系、アルミナ
系、アルミナ・シリカ系、炭素系、黒鉛系、炭化珪素系
等のセラミックが挙げられる。また、断熱材の形態とし
ては特に制限はなく、フェルト状、ボード状、ブランケ
ット状、ペーパー状、ブロック状等、各種形態を採り得
る。
本発明において、断熱材本体3は、後述の充填材の充填
効率面から、その気孔率が70〜99%程度であること
が好ましい。
効率面から、その気孔率が70〜99%程度であること
が好ましい。
このような断熱材本体3の表層に充填する充填材として
は、黒鉛、炭素、SiC,B4C。
は、黒鉛、炭素、SiC,B4C。
Aj2N、 T i B2 、 MoS
i 2 、 TaN、 WCW2C等のセラミ
ック、及びW、Mo等の耐熱金属よりなる群から選ばれ
る1種又は2種以上の粉末及び/又は短繊維が挙げられ
る。本発明においては、特に、これらのうち断熱材本体
3と形成するSiC被覆膜6との熱膨張差を緩和し得る
もの、例えば、等方性黒鉛、SiC,B4C1A fl
N y T iB 2 、M o S 12 、M o
、W等が好ましい。なお、Si3N+被覆膜の場合の
充填材としては、Si3N+が好ましい。充填材4が粉
末である場合、その平均粒径は0.2〜100μm程度
とするのが好ましい。また、短繊維である場合、その平
均繊維径は0.2〜30μm、平均繊維長さは20〜2
00μmであることが好ましい。
i 2 、 TaN、 WCW2C等のセラミ
ック、及びW、Mo等の耐熱金属よりなる群から選ばれ
る1種又は2種以上の粉末及び/又は短繊維が挙げられ
る。本発明においては、特に、これらのうち断熱材本体
3と形成するSiC被覆膜6との熱膨張差を緩和し得る
もの、例えば、等方性黒鉛、SiC,B4C1A fl
N y T iB 2 、M o S 12 、M o
、W等が好ましい。なお、Si3N+被覆膜の場合の
充填材としては、Si3N+が好ましい。充填材4が粉
末である場合、その平均粒径は0.2〜100μm程度
とするのが好ましい。また、短繊維である場合、その平
均繊維径は0.2〜30μm、平均繊維長さは20〜2
00μmであることが好ましい。
このような充填材4を断熱材本体3の表層に充填する方
法としては特に制限はないが、次のA。
法としては特に制限はないが、次のA。
B等の方法が挙げられる。
A:接着法1
■−■ 充填材を断熱材本体の表面へふりかける。
■−■ へヶ又はヘラで余分の充填材を除去する。
■−〇 フェノール樹脂等の接着材をスプレーガン等で
吹きつける。
吹きつける。
■−■ 接着剤を硬化させる。
■−■ 接着剤を無機化する。
B:接着法2
■−〇 断熱材本体表面へフェノール樹脂等の接着剤を
スプレーガン又はへヶにて塗布する。
スプレーガン又はへヶにて塗布する。
■−■ 充填材をふりかける。
■−■ へケ又はヘラで余分の充填材を除去する。
■−■ 接着剤を硬化させる。
■−■ 接着剤を無機化する。
本発明において、充填材4の充填量には特に制限はない
が、断熱材本体3の表層に形成される充填層5の厚さt
が001〜0.2mm程度となるようにするのが好まし
い。充填層5の厚さtが0.01mm未満では本発明に
よる十分な効果が得られず、0.2mmを超えても効果
に差異はなく、コストが高騰し好ましくない。
が、断熱材本体3の表層に形成される充填層5の厚さt
が001〜0.2mm程度となるようにするのが好まし
い。充填層5の厚さtが0.01mm未満では本発明に
よる十分な効果が得られず、0.2mmを超えても効果
に差異はなく、コストが高騰し好ましくない。
なお、断熱材本体3に充填材4を充填すると、断熱材本
体3の表面から充填材が若干はみ出した状態となる。こ
の充填材のはみ出し厚さδが1mm以上となると後述の
SiC被覆膜の形成にあたり、SiCを断熱材本体3の
内部まで密着して形成し難くなり、膜剥離等が生起し易
くなる。このため、この断熱材本体3からの充填材4の
はみ出し厚さδは1.0mm未満となるようにするのが
好ましい。
体3の表面から充填材が若干はみ出した状態となる。こ
の充填材のはみ出し厚さδが1mm以上となると後述の
SiC被覆膜の形成にあたり、SiCを断熱材本体3の
内部まで密着して形成し難くなり、膜剥離等が生起し易
くなる。このため、この断熱材本体3からの充填材4の
はみ出し厚さδは1.0mm未満となるようにするのが
好ましい。
このようにして充填層5が形成された断熱材本体3の表
面にSiC被覆膜6を形成する方法としては特に制限は
ないが、緻密で高純度、高特性の膜を容易に得ることが
できることからCVD法又はCVI法を採用するのが好
ましい。
面にSiC被覆膜6を形成する方法としては特に制限は
ないが、緻密で高純度、高特性の膜を容易に得ることが
できることからCVD法又はCVI法を採用するのが好
ましい。
CVI法又はCVD法の好適なSiCの蒸着条件の一例
を下記第1表に示す。
を下記第1表に示す。
このようなSiC被覆膜6の形成にあたり、SiCは充
填層5の充填材4や断熱材本体3の表層部のセラミック
繊維2間にも蒸着されるため、SiC被覆ll16は断
熱材本体3の表面に極めて強固に密着形成される。
填層5の充填材4や断熱材本体3の表層部のセラミック
繊維2間にも蒸着されるため、SiC被覆ll16は断
熱材本体3の表面に極めて強固に密着形成される。
なお、SiC被覆膜6の厚さTは、用いる充填材4の大
きさとの関係で十分に緻密な被覆膜を得るために、次の
ような厚さとするのが好ましい。
きさとの関係で十分に緻密な被覆膜を得るために、次の
ような厚さとするのが好ましい。
充填材4が粉末の場合
平均粒径の10倍以上
充填材4が短繊維の場合:
平均繊維径の20倍以上
SiC被覆膜6の厚さTは厚過ぎてもコスト高騰、膜の
割れや剥離、断熱性紙下等の不具合をひき起こすため、
厚さTの上限は2mm以下とするのが好ましい。
割れや剥離、断熱性紙下等の不具合をひき起こすため、
厚さTの上限は2mm以下とするのが好ましい。
本発明の断熱材は、例えば次のような使用形態で使用す
るのが好適である。
るのが好適である。
■ 断熱材の耐風速性、耐摩耗性のみを向上させる場合
: 高速流体、含塵流体が衝突、接触する面のみ又は全面に
設ける。
: 高速流体、含塵流体が衝突、接触する面のみ又は全面に
設ける。
11 断熱材中の不純物の炉内拡散を防止する場合:
全面に設ける。
全面に設ける。
ただし、■、11のいずれにおいても、全面に設ける場
合には温度変化、圧力変化によりSiC被覆膜に圧力が
作用しないように、一部分例えば炉の排気口周辺はSi
C被覆膜を形成しないものとする。
合には温度変化、圧力変化によりSiC被覆膜に圧力が
作用しないように、一部分例えば炉の排気口周辺はSi
C被覆膜を形成しないものとする。
[作用コ
以下においてはSiC被覆を行なう場合について述べる
が、3i3N+被覆についても同様である。
が、3i3N+被覆についても同様である。
前述の如く、繊維質断熱材は気孔率の大きな材料である
ため、CVD法又はCVI法でSiC被覆を行なうと、
断熱材内部にまで熱伝導性の良いSiC膜が形成され、
断熱性が低下するが、本発明によれは、断熱材の表層部
のみSiC被覆を行なうことができ、断熱材の断熱性を
低下させることがない。
ため、CVD法又はCVI法でSiC被覆を行なうと、
断熱材内部にまで熱伝導性の良いSiC膜が形成され、
断熱性が低下するが、本発明によれは、断熱材の表層部
のみSiC被覆を行なうことができ、断熱材の断熱性を
低下させることがない。
また、SiCと熱膨張係数が大きく異なる繊維から構成
される断熱材本体表面に直接SiC被覆膜を形成すると
膜に剥離、割れなどの欠陥が発生するか、断熱材本体の
表層部に充填材の充填層を形成することにより、表面に
健全なSiC被覆膜を形成することが可催とされる。
される断熱材本体表面に直接SiC被覆膜を形成すると
膜に剥離、割れなどの欠陥が発生するか、断熱材本体の
表層部に充填材の充填層を形成することにより、表面に
健全なSiC被覆膜を形成することが可催とされる。
更に、繊維質の断熱材本体へ直接SiC被覆膜を形成す
ると、熱膨張係数の差や繊維の異方性によりSiC被覆
膜に剥離や割れが発生するが、本発明では、極めて変形
能の大きい繊維質断熱材本体の表層へ、上述のような健
全なSiC被覆膜を形成すると共に、充填材により熱膨
張差を緩和することができるので、SiC被覆膜に割れ
、剥離が発生しない。
ると、熱膨張係数の差や繊維の異方性によりSiC被覆
膜に剥離や割れが発生するが、本発明では、極めて変形
能の大きい繊維質断熱材本体の表層へ、上述のような健
全なSiC被覆膜を形成すると共に、充填材により熱膨
張差を緩和することができるので、SiC被覆膜に割れ
、剥離が発生しない。
[実施例コ
以下にSiC被N膜を形成する場合について実施例、比
較例及び参考例を挙げて本発明をより具体的に説明する
。
較例及び参考例を挙げて本発明をより具体的に説明する
。
実施例1〜4.比較例1
1
第2表に示す断熱材本体の表層部に、第2表に示す充填
材の充填層を第2表に示す方法にて形成した後、第2表
に示す方法により第2表に示す厚さのSiC被覆膜を形
成し、本発明の断熱材を製造した。
材の充填層を第2表に示す方法にて形成した後、第2表
に示す方法により第2表に示す厚さのSiC被覆膜を形
成し、本発明の断熱材を製造した。
2
各断熱材を供試材として、第3図に示す試験装置にて熱
サイクルテストを行なった。また、比較のため「ファイ
バーキャスト#1000Jを50mmx50mmX20
mm厚さに成形したもの(比較例1)についても同様に
熱サイクルテストを行なった。
サイクルテストを行なった。また、比較のため「ファイ
バーキャスト#1000Jを50mmx50mmX20
mm厚さに成形したもの(比較例1)についても同様に
熱サイクルテストを行なった。
なお、第3図において、11は耐火断熱レンガてあり、
12は燃焼器、13は燃焼器内筒である。14はテスト
セクションてあり供試材15を耐火レンガ11に埋め込
んでセットした。
12は燃焼器、13は燃焼器内筒である。14はテスト
セクションてあり供試材15を耐火レンガ11に埋め込
んでセットした。
テストは、配管16よりプロパンを燃焼器12に導入し
て燃焼させて1200℃の燃焼ガスを50 m / S
で1時間テストセクション14に送給した後、冷却した
。この加熱、冷却を10回繰返した。
て燃焼させて1200℃の燃焼ガスを50 m / S
で1時間テストセクション14に送給した後、冷却した
。この加熱、冷却を10回繰返した。
その結果、実施例1〜4のものはいずれも表面のSiC
被覆膜に剥離や割れは認められなかったか、比較例1の
ものは表面に割れが発生し、数ケ所に剥離か詔められた
。
被覆膜に剥離や割れは認められなかったか、比較例1の
ものは表面に割れが発生し、数ケ所に剥離か詔められた
。
実施例5〜8.参考例1
第3表に示す断熱材本体の表層部に、第3表に示す充填
材の充填層を第3表に示す方法にて形成した後、第3表
に示す方法により第3表に示す厚さのSiC被N膜を形
成し、本発明の断熱材を製造した。
材の充填層を第3表に示す方法にて形成した後、第3表
に示す方法により第3表に示す厚さのSiC被N膜を形
成し、本発明の断熱材を製造した。
得られた断熱材を試料として、下記方法により断熱材本
体の不純物拡散テストを行ない、結果を第4表に示した
。
体の不純物拡散テストを行ない、結果を第4表に示した
。
試験方法
■ CVD−3iC被覆膜を形成した高純度黒鉛製容器
の中へ各試料を入れ、蓋をする。
の中へ各試料を入れ、蓋をする。
■ 1300℃の電気炉内て5000時間保持する。
■ 10xtommのサンプルを切り出し、SiC被覆
膜の断熱材側から50μm、表面側から50μm研削除
去する。
膜の断熱材側から50μm、表面側から50μm研削除
去する。
■ 10xlOx0.1mmのS i C?皮覆lI負
中の不純物量を放射化分析によって求める。
中の不純物量を放射化分析によって求める。
同様の不純物拡散テストを、高純度黒鉛の全面に第1表
に示すCVD法てSiC被覆膜を200μm形成したも
の(参考例1)についても行ない、結果を第4表に示し
た。なお、この場合、テスト後のSiC被覆膜の研削は
黒鉛側からのみ100μm行なった。
に示すCVD法てSiC被覆膜を200μm形成したも
の(参考例1)についても行ない、結果を第4表に示し
た。なお、この場合、テスト後のSiC被覆膜の研削は
黒鉛側からのみ100μm行なった。
(ppm)
第4表より、実施例5〜8の断熱材のSiC被覆膜はい
ずれも参考例1のものと同程度の純度であり、SiC被
覆膜が断熱材本体中の不純物拡散のバリヤーとして十分
に機能していることが明らかである。
ずれも参考例1のものと同程度の純度であり、SiC被
覆膜が断熱材本体中の不純物拡散のバリヤーとして十分
に機能していることが明らかである。
参考例2
SiC被NIIMの膜厚を第5表に示す厚さとしたこと
以外は、それぞれ実施例1〜8のうちの第5表に示す実
施例(第5表においては、「供試実施例」と記す。)と
同様にして断熱材を製造し、各断熱材について下記方法
によりSiC被覆膜の緻密性を調べ、結果を第5表に示
した。
以外は、それぞれ実施例1〜8のうちの第5表に示す実
施例(第5表においては、「供試実施例」と記す。)と
同様にして断熱材を製造し、各断熱材について下記方法
によりSiC被覆膜の緻密性を調べ、結果を第5表に示
した。
試験方法
■ 各々の断熱材を直径20mmの円板に切断しく厚さ
はもとの断熱材と同じ)、実施例1〜8と同様にしてS
iC被覆膜を形成する。
はもとの断熱材と同じ)、実施例1〜8と同様にしてS
iC被覆膜を形成する。
ただし、円筒面には、直径5mmの未被覆部がある。
■ 第4図に示す如く、N2導入管21と圧力計22及
び排気バルブ27とを備えるSU3円管20の一端のS
USフランジ23にSUS蓋24をボルトとナツト25
を用いて取り付けて密封し、他端に試料26を挿入して
蓋着する。試料26は、エポキシ系接着剤でSU3円管
20に接着した後室温、常圧で乾燥し、更に室温、IT
orrで24時間乾燥する。
び排気バルブ27とを備えるSU3円管20の一端のS
USフランジ23にSUS蓋24をボルトとナツト25
を用いて取り付けて密封し、他端に試料26を挿入して
蓋着する。試料26は、エポキシ系接着剤でSU3円管
20に接着した後室温、常圧で乾燥し、更に室温、IT
orrで24時間乾燥する。
■ N2導入管21よりSU’S円管20内に0.1k
gf/cm’のN2圧を封入する。
gf/cm’のN2圧を封入する。
■ 圧力変化を調べる。
■ 圧力低下の有無から、緻密性を下記基準で評価した
。
。
△:圧力低下あり、緻密性に若干問題あり。
○・圧力低下なし、緻密性良好。
20
第5表
第5表より、SiC被覆膜の厚さを充填材が粉末の場合
にはその平均粒径の10倍以上、充填材が短繊維の場合
にはその平均繊維径の20倍以上の厚さとすることによ
り、極めて緻密なSiC被覆膜を形成することができる
ことが明らかである。
にはその平均粒径の10倍以上、充填材が短繊維の場合
にはその平均繊維径の20倍以上の厚さとすることによ
り、極めて緻密なSiC被覆膜を形成することができる
ことが明らかである。
1
「発明の効果」
以上詳述した通り、本発明の断熱材によれば、耐風速性
、耐摩耗性等に優れ、かつ緻密で高特性のSiC被覆膜
又はSi3N4被覆膜を、割れ、剥離等の問題を生起す
ることなく、また、断熱性を損なうことなく、断熱材本
体に密着性良く形成することができるため、 ■ 断熱材の耐風速性、耐摩耗性を向上させることがで
きる。
、耐摩耗性等に優れ、かつ緻密で高特性のSiC被覆膜
又はSi3N4被覆膜を、割れ、剥離等の問題を生起す
ることなく、また、断熱性を損なうことなく、断熱材本
体に密着性良く形成することができるため、 ■ 断熱材の耐風速性、耐摩耗性を向上させることがで
きる。
■ 断熱材本体の不純物の拡散を防ぎ、不純物による系
内の汚染を防止することができる。
内の汚染を防止することができる。
■ 断熱材の断熱性は著しく高く、しかも軽量である。
等の優れた効果が奏される。
本発明の断熱材は、熱風炉、バーナ・ノズル等に用いて
、その耐風速性、耐摩耗性、軽量性、断熱性の向上を図
ることができる。また、St単結晶やGaAs単結晶の
引上げ装置に用いた場合には、不純物による汚染が防止
され、St単結晶やGaAs単結晶の高純度化が可能と
なり、メガビット時代を迎えた超LSI用基板として適
した単結晶を得ることを可能とする。
、その耐風速性、耐摩耗性、軽量性、断熱性の向上を図
ることができる。また、St単結晶やGaAs単結晶の
引上げ装置に用いた場合には、不純物による汚染が防止
され、St単結晶やGaAs単結晶の高純度化が可能と
なり、メガビット時代を迎えた超LSI用基板として適
した単結晶を得ることを可能とする。
第1図は本発明の断熱材の一実施例を示す断熱材の模式
図、第2図は第1図の11部の拡大図である。第3図は
実施例1〜4で用いた試験装置を示す概略断面図、第4
図は参考例2て用いた試験装置を示す概略断面図である
。 1・・・断熱材、 2・・・セラミック繊維、3
・・・断熱材本体、 4・・・充填材、5・・・充填
層、 6・・・SiC被覆膜(又はSi3N4被覆膜)。
図、第2図は第1図の11部の拡大図である。第3図は
実施例1〜4で用いた試験装置を示す概略断面図、第4
図は参考例2て用いた試験装置を示す概略断面図である
。 1・・・断熱材、 2・・・セラミック繊維、3
・・・断熱材本体、 4・・・充填材、5・・・充填
層、 6・・・SiC被覆膜(又はSi3N4被覆膜)。
Claims (1)
- (1)セラミック繊維で構成された断熱材本体の表層部
に、セラミック及び耐熱金属よりなる群から選ばれる少
なくとも1種の粉末及び/又は短繊維が充填されており
、更にその表面にSiC又はSi_3N_4よりなる被
覆膜が形成されていることを特徴とする断熱材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2091050A JPH0681713B2 (ja) | 1990-04-05 | 1990-04-05 | 断熱材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2091050A JPH0681713B2 (ja) | 1990-04-05 | 1990-04-05 | 断熱材 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03288639A true JPH03288639A (ja) | 1991-12-18 |
JPH0681713B2 JPH0681713B2 (ja) | 1994-10-19 |
Family
ID=14015680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2091050A Expired - Lifetime JPH0681713B2 (ja) | 1990-04-05 | 1990-04-05 | 断熱材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0681713B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006115102A1 (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Kureha Corporation | 断熱材用コーティング層、断熱材用積層体、断熱材用コーティング剤、並びに、断熱材用コーティング剤の製造方法 |
WO2008149435A1 (ja) * | 2007-06-06 | 2008-12-11 | Ibiden Co., Ltd. | 焼成用治具及びハニカム構造体の製造方法 |
JP2011136904A (ja) * | 2003-03-03 | 2011-07-14 | Hemlock Semiconductor Corp | 高温ガスとの接触に適した装置 |
WO2014123801A1 (en) * | 2013-02-05 | 2014-08-14 | Sachsisolar, Inc. | Crucible liner |
CN108660617A (zh) * | 2018-06-21 | 2018-10-16 | 滁州市三和纤维制造有限公司 | 一种陶瓷纤维毯 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58167482A (ja) * | 1982-03-24 | 1983-10-03 | 昭和電工株式会社 | 溶射被覆された炭化硅素質成形体 |
JPS6345190A (ja) * | 1986-06-19 | 1988-02-26 | サンドビック アクティエボラーグ | 被覆されたウィスカ−強化セラミックス焼結体 |
JPH0274670A (ja) * | 1988-09-08 | 1990-03-14 | Kawasaki Steel Corp | 耐酸化性炭素織維強化炭素材料およびその制造方法 |
-
1990
- 1990-04-05 JP JP2091050A patent/JPH0681713B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58167482A (ja) * | 1982-03-24 | 1983-10-03 | 昭和電工株式会社 | 溶射被覆された炭化硅素質成形体 |
JPS6345190A (ja) * | 1986-06-19 | 1988-02-26 | サンドビック アクティエボラーグ | 被覆されたウィスカ−強化セラミックス焼結体 |
JPH0274670A (ja) * | 1988-09-08 | 1990-03-14 | Kawasaki Steel Corp | 耐酸化性炭素織維強化炭素材料およびその制造方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011136904A (ja) * | 2003-03-03 | 2011-07-14 | Hemlock Semiconductor Corp | 高温ガスとの接触に適した装置 |
WO2006115102A1 (ja) * | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Kureha Corporation | 断熱材用コーティング層、断熱材用積層体、断熱材用コーティング剤、並びに、断熱材用コーティング剤の製造方法 |
WO2008149435A1 (ja) * | 2007-06-06 | 2008-12-11 | Ibiden Co., Ltd. | 焼成用治具及びハニカム構造体の製造方法 |
WO2014123801A1 (en) * | 2013-02-05 | 2014-08-14 | Sachsisolar, Inc. | Crucible liner |
CN104969019A (zh) * | 2013-02-05 | 2015-10-07 | 萨克斯索勒有限公司 | 坩埚衬垫 |
CN108660617A (zh) * | 2018-06-21 | 2018-10-16 | 滁州市三和纤维制造有限公司 | 一种陶瓷纤维毯 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0681713B2 (ja) | 1994-10-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Roy et al. | Oxidation behaviour of silicon carbide-a review | |
JP4748826B2 (ja) | 被覆物品及びその製造方法 | |
CN109354506B (zh) | 一种高温抗氧化碳陶复合材料及其制备方法 | |
EP0447630B1 (en) | Coated welding cups | |
EP1044943B1 (en) | Silicon based substrate with environmental/thermal barrier layer | |
CN108530110A (zh) | 一种c/c复合材料的超高温陶瓷涂层及其制备方法 | |
US8986845B2 (en) | Ceramic composite article having laminar ceramic matrix | |
KR20010014740A (ko) | 이트륨 실리케이트의 열적/환경적 배리어 층이 구비된실리콘 함유 서브스트레이트가 포함된 제조물 | |
KR20050042071A (ko) | 연마제 입자를 위한 경사 기능 코팅 및 유리질 매트릭스복합체에서의 경사 기능 코팅의 사용 방법 | |
JPH04231386A (ja) | セラミツク・マトリツクス複合物構造体 | |
EP0810305B1 (en) | An apparatus for pulling silicon single crystal | |
Zhi-Qiao et al. | A multilayer coating of dense SiC alternated with porous Si–Mo for the oxidation protection of carbon/carbon silicon carbide composites | |
Jiang et al. | A dense structure Si-SiC coating for oxidation and ablation protection of graphite fabricated by impregnation-pyrolysis and gaseous silicon infiltration | |
Filipuzzi et al. | Oxidation kinetics of SiC deposited from CH 3 SiCl 3/H 2 under CVI conditions | |
CN106567246A (zh) | 化学气相渗透法制备SiC增强的低密度多孔碳纤维隔热复合材料的方法 | |
JPH03288639A (ja) | 断熱材 | |
JP2004175605A (ja) | 耐酸化性c/c複合材及びその製造方法 | |
KR100727639B1 (ko) | 탄소/탄소 복합체의 내산화성 다층 코팅막 및 그 제조방법 | |
JPH11236286A (ja) | 炭化硼素皮膜の製造方法 | |
JP4394345B2 (ja) | 非酸化物セラミックス焼結用焼成炉と非酸化物セラミックス焼結体の製造方法 | |
JP2812019B2 (ja) | 炭素繊維/炭素複合材 | |
JPH11314985A (ja) | 耐熱・耐酸化性炭素繊維強化炭素材料 | |
JP3220730B2 (ja) | 常圧cvd装置のための黒鉛製ウエハ保持治具 | |
Pochet et al. | Practical aspects of deposition of CVD SiC and boron silicon carbide onto high temperature composites | |
JPH09256168A (ja) | グラファイトへのコーティング法 |