JPH03287155A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、導電層上に脱色性の良いベンジリデン型また
はンンナミリデン型染料を含む層を設け、鮮鋭性の良好
なハロゲン化銀写真感光材料に関する。

〔従来の技術〕

近午、ハロゲン化銀写真感光材料は、静電気の発生しな
い、いわゆる帯電防止処理を行い、優れた鮮鋭性や色再
現性を有するように改良されてきている。そのために表
面比抵抗の低い導電層上にハレーンヨン防止層を設ける
方法がとられるようになってきた。そのためには、導電
層と染料を含有する層の接着性か良いこと、そして染料
が写真処理によって脱色が良いことか要求される。

接着性を良くすることは、物理的にも化学的にも染料を
含有する層との親和力を高めることであり、このことは
染料を導電層上に染着し易くしてしま■ い、脱色性を劣化するという問題を生じている。

〔発明の目的〕

従って本発明の目的は、帯電防止性能を有し、かつハレ
ーション防止層と導電層との接着性も良好で、鮮鋭性及
び色再現性の優れたハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ることにある。

〔発明の構成〕

本発明者等は上記問題点に鑑みて鋭意検討を行なった結
果、本発明の上記目的は、支持体上にイオン性ポリマー
または金属酸化物を含有する導電層を設け、該層の上層
に下記一般式（Ｉ）で示される化合物の固体微粒子分散
体を含有する写真構成層を少なくとも１層有することを
特徴とするハロゲン化銀写真感光材料により遠戚される
ことを見い出した。

般式（Ｉ） 原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、
アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｌｌ、Ｒ２、Ｒ３、
Ｌ　、、Ｌ　５はメチン基を表し、ｎｌ、Ｒ２は０又は
ｌを表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ，の少なくと
も一つはスルホンアミド基及び／又はスルファモイル基
を有し、かつ化合物中にスルホンアミド基及び／又はス
ルファモイル基を少なくとも二つ有する。

以下に本発明を更に詳細に説明する。

本発明のイオン性導電性ポリマーは、単独で使用するこ
とによっても透明な層を形成し得るが、少しの乾燥条件
のブレによって層のひび割れを弓き起こしてしまう。本
発明の構成ではそのひび割れを防ぐために疎水性ポリマ
ー粒子を含有しているが、その効果は大きい。

本発明のイオン性導電性ポリマーについては、スルホン
酸基、硫酸エステル基、４級アンモニウム塩、３級アモ
ニウム塩、カルボキシル基、ポリエチレンオキント基か
ら選はれる少なくとも１つの導電性基を有するポリマー
が挙げられる。これらの基のうちスルホン酸基、硫酸エ
ステル基、４級アンモニウム塩基が好ましい。導電性基
はポリマー１分子当たり５重量％以上を必要とする。イ
オン性の導電性ポリマー中に含まれるカルボキノ基、ヒ
ドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、アジリジン基、活
性メチレン基、スルフィン酸基、アルデヒド基、ビニル
スルホン基のうち、カルボキシ基、ヒドロキン基、アミ
ノ基、エポキシ基、アジリジン基、アルデヒド基が好ま
しい。これらの基はポリマー１分子当たり５重量％以上
必要とする。ポリマーの分子量は、３０００〜１０００
００であり、好ましくは３５００〜５００００である。

以下、本発明に用いられるイオン性導電性ポリマーの化
合物例を挙げるがこれに限定されるものホ モポリマー− ホモポリマー −３ −４ ５ Ｓｏ　、　Ｎａ Ｈ３ Ｓｏ　３Ｎａ ０３Ｎａ ３ Ｈ３ ４ ５ Ｈ３ Ｏ３Ｎａ ０ Ｈ３ ＋１ Ｑ ２ ７ Ｈ３ ９ ０ Ｍ辷１万 ０ ２１ ２ ３ デキストランサルフェイト 置換度 ２．０ １０万 ４ Ｍ＃１０万 １ ９ ０ １ ２ ３ ５ ７ ８ ３ ４ ５ ６ ２ ４ ４１ ２ Ｏ３Ｎａ Ｍ；３万 ３ ４ Ｍ４−６万 ６ ９ ０ 尚、上記（１）〜（５０）において、Ｘ＋Ｙ＋Ｚはそれ
ぞれ単量体成分のモル％を、又Ｍは平均分子量（本明細
書中、平均分子量とは数平均分子量を示す。）を表す。

これらのポリマーは市販又は常法によって得られるモノ
マーを重合することにより合皮することが出来る。これ
らの化合物の添加量は０．０１ｇ　−ｌｏｇ／ｍ２か好
ましく、特に好ましくは０．１ｇ〜５ｇ／ｍ２である。

８ これらの化合物は単独或いは種々の親水性バインダー又
は疎水性バインダーと混合させて層を形成させることが
できる。親水性バインダーとして特に有利に用いられる
ものはゼラチン又はポリアクリルアミドであるかぐ他の
ものとしては、コロイド状アルブミン、セルロールアセ
テ−１・、セルロースニ１−レート、ポリビニルアルコ
ール、加水分解されたポリビニルアセテート、フタル化
ゼラチンが挙げられる。疎水性バインダーとしては分子
量２万〜１００万以上のポリマーが含まれ、スチレン−
ブチルアクリレート−アクリル酸３元共重合ポリマー　
ブチルアクリレ−１・−アクリロニトリル−アクリル酸
３元共重合ポリマー　メチルメタクリレート−エチルア
クリレート−アクリル酸３元共重合ポリマーが挙げられ
る。

次に本発明の水溶性導電性ポリマー層中に含有させる疎
水性ポリマー粒子は、実質的に水に溶解しない所謂ラテ
ックス状で含有されている。この疎水性ポリマーは、ス
チレン、スチレン誘導体、アルキルアクリレート、アル
キルメタクリレート、オレフィン誘導体、ハロゲン化エ
チレン誘導体、アクリルアミド誘導体、メタクリルアミ
ド誘導体、ビニルエステル誘導体、アクリロニＩ・リル
等の中から任意の組み合わせで選ばれたモノマーを重合
して得られる。特にスチレン誘導体、アルキルアクリレ
ート、アルキルメタクリレートが少なくとも３０モル％
含有されているのが好ましい。特に５０モル％以上が好
ましい。

疎水性ポリマーをラテックス状にするには乳化重合をす
る、固体状のポリマーを低沸点溶媒に溶かして微分散後
、溶媒を留去するという２つの方法があるが粒径か細か
く、しかもそろったものができるという点で乳化重合す
ることが好ましい。

乳化重合の際に用いる界面活性剤としては、アニオン性
、ノニオン性を用いるのが好ましく、七ツマ−に対し１
０重量％以下が好ましい。多量の界面活性剤は導電性層
をくもらせる原因となる。

疎水性ポリマーの分子量は３０００以上であれば良く、
分子量による透明性の差はほとんどない。

本発明の疎水性ポリマーの具体例を挙げる。

９ ０ ■ ＣＩ。

−４ １ ２ １０ ＣＨ３ ａ ４ Ｃ１１゜ （ＣＨｚＣｈ　５　　　　イＣＨ７ＣＩ（テロＣ００Ｃ
，Ｈ３−ｎ　　　　ＣｏｏＢ １ ３−１５ Ｃｔ（３Ｃｌ（３ （ＣＩ。ＣＩ＋）、、　　（ＣＩ（２Ｃ−）−、。−（
ＣＨ２Ｏテ、５ＣＮ　　　　　　　Ｃ００Ｃ，１１，−
ｎ　　　Ｃｏｏｌ（Ｃ１１。

イＣＨ，Ｃ汎。　イＣＨ２ＣＨｈ ズＣ８２ＣＨ］ ０ＯＣＨ３ ＣＯＯＣ，Ｈ，−ｎ　　　Ｃｏｏｌ ３ ＣＨ。

ＣＨ３ 本発明では導電性層が透明支持体上に塗設される。透明
支持体は写真用のもの全てが使えるが好ましくは、可視
光を９０％以上透過するように作られたポリエチレンテ
レフタレート又はセルローストリアセテートである。

これらの透明支持体は、当業者に良く知られた方法で作
成されるものであるか、場合によっては光透過を実質的
に阻害しないように染料を若干添加して青味付けしたり
しても良い。

本発明の支持体は、コロナ放電処理をした後ラテックス
ポリマーを含有する下引層か塗設されて３ ４ いてもよい。コロナ放電処理は、エネルギー値としてｌ
　ｍＷ−Ｉ　ＫＷ／ｍ２ｍ１ｎが特に好ましく適用され
る。

又特に好ましくは、ラテックス下引層塗布後導電性層を
塗設する前にコロナ放電処理を再度行うと良い。

本発明の導電性層を硬化する化合物としては、多官能の
アジリジン系化合物、トリアジン系化合物、ビニルスル
ホン化合物、アルデヒド系化合物、シアノアクリレート
系化合物、ペプチド系化合物、エポキシ系化合物等が好
ましい。特に２官能、３官能で分子量が６００以下のも
のが好ましい。

本発明の導電性層は感光性層より支持体側にあってもよ
いし、感光層に対し支持体の反対側、いわゆる背面にあ
ってもよい。

好ましい添加量は架橋剤に対して、５〜２００ｗｔ％で
ある。

本発明において導電層中に用いる金属酸化物は、酸化イ
ンジウム、酸化スズ或はアンチモン原子又はリン原子を
ドープした金属酸化物のいづれか又はこれらの組み合わ
せを用いることができる。

酸化インジウムとしては、酸化第１インジウム、（Ｉｎ
２０）と酸化第２インジウム（１ｎ２０．）とが知られ
ているが、本発明では、酸化第２インジウムを用いるの
が好ましい。

又、酸化スズとしては、酸化第１スズ（５ｎＯ）と酸化
第２スズ（ＳｎＯ２）か知られているか、本発明で好ま
しく用いられるのは酸化第２スズである。

アンチモン原子又はリン原子をドープした金属酸化物と
しては具体的には、酸化スズ及び酸化インジウムを挙げ
ることかできる。前記金属酸化物にアンチモン又はリン
をドーピングするにはスズやインジウムのハロゲン化物
、アルコキシ化物或は硝酸塩化合物とアンチモン又はリ
ンのハロゲン化物、アルコキシ化物或は硝酸塩化物と混
合して酸化燃成して得ることができる。これらの金属化
合物は、容易に入手することができる。又アンチモン又
はリンをドープする際の好ましい含有率は、スズやイン
ジウムに対して０．５〜ｌＯ％の重量％が好ましい。こ
れらの無機化合物の添加方法は、ゼラチンなとの親水性
コロイドに分散、或はアクリ５ ６ ル酸やマレイン酸などの高分子化合物に分散して添加す
ることが好ましい。バインダー当たりの担持の割合は１
−１００重量％が好ましい。

次に一般式（１）について説明する。

般式（Ｉ） 上記一般式〔■〕において、Ｒ，、Ｒ２で表される置換
基としては、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、アリール基、ヘテロ環基、アルキルカルボニル基
、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、ア
リールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリー
ルスルフィニル基、カルバモイル基、スルファモイル基
、シアノ基、アミノ基、スルホンアミド基、アミド基、
ウレイド基、チオウレイド基、アルコキシ基、アリール
オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、カルボキ
シル基、ヒドロキシル基が好ましいものとして挙げるこ
とができる。

Ｒ１、Ｒ２で表される置換基としてのアルキル基として
は、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−フロ
ビル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基、２−エチルヘキシル基、Ｆ　７’シル基、ペン
タデシル基、エイコシル基等が挙げられる。該アルキル
基は置換基を有するものを含み、該置換基としては、例
えばハロゲン原子（例えば塩素、臭素、沃素、弗素等の
各原子）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基
等）、ヘテロ環基（例えばピロリジル基、ピリジル基等
）スルフィン酸基、カルボキシル基、二１・四基、ヒド
ロキシル基、メルカプト基、アミン基（例えばアミノ基
、ジエチルアミノ基等）、アルコキシ基（例えば７１−
キシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルアミド基、
１−フロポキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキン
基、ナフチルオキシ基等）カルバモイル基（例えはアミ
ノカルボニル基、メチルカルバモイル基、ペンチルカル
バモイル基、モルホリノカルボニル ７ ８ 基等）、アミド基（例えばメチルアミド基、ベンズアミ
ド基、オクチルアミド基等）、スルファモイル基（例え
ばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、フェニ
ルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、ブチル
スルファモイル基等）、スルホンアミド基（例えばメタ
ンスルホンアミド基、ヘプタンスルホンアミド基、ベン
ゼンスルホンアミド基等）、スルフィニル基（例えばメ
チルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニル
スルフィニル基、オクチルスルフィニル基等のアルキル
スルフィニル基、フェニルスルフィニル基等のアリール
スルフィニル基等）、アルコキシカルボニル基（例えば
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２−ヒ
ドロキシエトキシカルボニル基、オクチルオキシカルボ
ニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェ
ノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）
、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基
、ヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニ
ルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルキルカルボニル基
（例えばアセチル基、エチルカルボニル基、ブチルカル
ボニル基、オクチルカルボニル基等）、アリールカルボ
ニル基（例えばベンゾイル基、ｐ−メタンスルホンアミ
トヘンゾイル基、ｐ−カルボキシベンゾイル基、ナフト
イル基等）シアン基、ウレイド基（例えばメチルウレイ
ド基、フェニルウレイド基等）、チオウレイド基（例え
ばメチルチオウレイド基、フェニルチオウレイド基等）
等が挙げられる。

Ｒ１、Ｒ２で表される置換基としてのアリール基として
は、例えばフェニル基、ナフチル基か挙げられる。該ア
リール基は置換基を有するものを含み、該置換基として
は、例えば前記のＲ１、Ｒ２で表される置換基としての
アルキル基、又はＲ１１Ｒ２で表される置換基としての
アルキル基の置換基として挙げた前述の基が挙げられる
。

Ｒ１、Ｒ２で表される置換基としてのアルケニル基とし
ては、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、１，３
−ブタジェニル基、２−ペンテニル基等か挙げられ、該
アルケニル基は置換基を有するものを９ ０ 含み、該置換基としては前記のＲ１、Ｒ２で表される置
換基としてのアルキル基の置換基として挙げたものが挙
げられる。

Ｒ１、Ｒ２で表される置換基としてのへテロ環基として
は、例えばピリジル基（２−ピリジル基、３ピリジル基
、４−ピリジル基、５−カルボキシ−２−ピリジル基、
３．５−ジクロロ−２−ピリジル基、４．６−シメチル
ー２−ピリジル基、６−ヒドロキシ−２−ピリジル基、
２，３，５．６−チトラフルオロー４−ピリジル基、３
ニトロ−２−ピリジル基等）、オキサシリル基（５−力
ルボキシ−２−ベンゾオキサシリル基、２−ベンゾオキ
サシリル基、２−オキサシリル基等）、チアゾリル基（
５−スルファモイル−２−ベンゾチアゾリル基、２−ベ
ンゾチアゾリル基、２−チアゾリル基等）、イミダゾリ
ル基（ｌ−メチル−２−イミダゾリル基、ｌ−メチル−
５−カルボキシ−２−ベンゾイミダゾリル基等）、フリ
ル基（３−フリル基等）、ピロリル基（３−ピロリル基
等）、チエニル基（２−チエニル基等）、ピラジニル基
（２−ピラジニル基等）、ピリミジニル基（２ピリミジ
ニル基、４−クロロ−２−ピリミジニル基等）、ピリダ
ジニル基（２−ピリダジニル基等）、プリニル基（８−
プリニル基等）、インオキサシリル基（３−インオキサ
シリル基等）、セレナゾリル基（５−カルボキシ−２−
セレナゾリル基等）、スルホラニル基（３スルホラニル
基等）、ピペリジル基（ｌ−メチル−３ピペリジル基等
）、ピラゾリル基（３−ピラゾリル基等）、テトラゾリ
ル基（１−メチル−５−テトラゾリル基等）等が挙げら
れ、該ヘテロ環基は置換基を有するものを含み、該置換
基としては前記のＲ１、Ｒ２で表される置換基としての
アルキル基及びＲ１、Ｒ２で表される置換基としてのア
ルキル基の置換基として例示したものか挙げられる。

Ｒ１、Ｒ２で表される置換基としてのシクロアルキル基
としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が、 アルキルカルボニル基としては、例えばメチルカルボニ
ル基、エチルカルボニル基、１−プロピルカルボニル基
、ｔ−ブチルカルボニル基、オクチルカルボニル基、ド
デシルカルボニル基等、１ ２ アリールカルボニル基としては、例えばフェルカルボニ
ル基、ナフチルカルボニル基等、アルコキシカルボニル
基としては、例えばエトキシカルボニル基、１−プロポ
キシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ペンチ
ルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等
、アリールオキシカルボニル基としては、例えばフェニ
ルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等
、 アルキルスルホニル基としては、例えばメチルスルホニ
ル基、エチルスルホニル基、五−プロビルスルホニル基
、ｔ−ブチルスルホニル基、オクチルスルホニル基、オ
クタデシルスルホニル基等、アリールスルホニル基とし
ては、例えば７エルスルホニル基、ナフチルスルホニル
基等、アルキルスルフィニル基としては、例えばメチル
スルフィニル基、エチルスルフィニル基、１−プロピル
スルフィニル基、ｔ−ブチルスルフィニル基、オクチル
スルフィニル基、ドデシルスルフィニル基等、 アリールスルフィニル基としては、例えばフェニルスル
フィニル基、ナフチルスルフィニル基等、カルバモイル
基としては、例えばアミノカルボニル基、メチルカルバ
モイル基、エチルカルバモイル基、ｌ−プロピルカルバ
モイル基、ｔ−ブチルカルバモイル基、ドデシルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基、２−ピリジルカル
バモイル基、４−ピリジルカルバモイル基、ベンジルカ
ルバモイル基、モルホリノカルボニル基、ピペラジノカ
ルボニル基等、スルファモイル基としては、例えばアミ
ノスルホニル基、メチルスルファモイル基、ｉ−’７’
ロピルスルファモイル基、ｔ−ブチルスルファモイル基
、ドデシルスルファモイル基、フェニルスルファモイル
基、２−ピリジルスルファモイル基、４−ピリジルスル
ファモイル基、モルホリノスルホニル基、ピペラジノス
ルホニル基等、 アミノ基としては、例えばアミノ基、メチルアミノ基、
エチルアミノ基、１−プロピルアミノ基、ｔ−ブチルア
ミノ基、オクチルアミノ基、ドデシルアミノ基、ジメチ
ルアミノ基、アニリノ基、ナフ３ ４ チルアミノ基、モルホリノ基、ピペラジノ基等、スルホ
ンアミド基としては、例えはメチルスルホンアミド基、
エチルスルホンアミド基、ｌ−プロピルスルホンアミド 基、ドデシルスルホンアミド基、フェニルスルホンアミ
ド基、ナフチルスルホンアミド基等、アミド基としては
、例えばメチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニル
アミノ基、ｉ−プロピルカルボニルアミノ基、ｔ−メチ
ルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、
フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミ
ノ基等、ウレイド基としては、例えばメチルウレイド基
、エチルウレイド基、ｉ−プロピルウレイド基、ｔ−ブ
チルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイ
ド基、２−ピリジルウレイド基、チアゾリルウレイド基
等、 チオウレイド基としては、例えばメチルチオウレイド基
、ｌ−プロピルチオウレイド基、ｔ−ブチルチオウレイ
ド基、ドデシルチオウレイド基、フェニルチオウレイド
基、２−ピリジルチオウレイド基、チアゾリルチオウレ
イド基等、 アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基
、１−プロポキシ基、Ｌ−ブチルオキシ基、ドデシルオ
キシ基等、 アリールオキシ基としては、例えはフェノキシ基、ナフ
チルオキシ基等、 アルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチル
チオ基、ｌ−プロピルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ドデ
シルチオ基等、 アリールチオ基としては、例えばフェニルチオ基、ナフ
チルチオ基等、 が挙げられる。これらＲ．、Ｒ２として好ましい各基は
、置換基を有するものを含み、該置換基としては前述の
Ｒ１で表される置換基としてのアルキル基及びＲ１で表
される置換基としてのアルキル基の置換基として例示し
たものが挙げられる。

これらＲ１、Ｒ２で表される基の内、好ましくはアルキ
ル基、アリール基、アルキルカルボニル基、アリールカ
ルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基
、アミン基、アルコキン基、ンア５ ６ ノ基、カルボキシル基であり、特に好ましくはアルキル
基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、
カルバモイル基、アミノ基、アルコキン基、カルボキシ
ル基である。

般式〔Ｉ〕において、Ｒ３、Ｒ，で表される各基及びそ
の置換基としては前述のＲ１、Ｒ２で表される置換基及
びその置換基として例示したものが挙げられる。

一般式〔Ｉ〕において、Ｌ１〜Ｌ，で表されるメチン基
は置換基を有するものを含み、該置換基としては、例え
はアルキル基（例えばメチル基、エチル基、１−プロピ
ル基、ｔ−ブチル基、３−ヒドロキシプロピル基、ベン
ジル基等）、アリール基（例えはフェニル基）、ハロゲ
ン原子（例えば塩素、臭素、沃素、弗素原子等）、アル
コキシ基（例えはメトキシ基、エトキシ基等）、アシル
オキシ基（例えばメチルカルポー；ルオキシ基、フェニ
ルカルボニルオキシ基等）等か挙げられる。

以下に本発明の具体的化合物例を示すか、本発明はこれ
らに限定されない。

７ ８ １ ３９ ２ ０ ５ ４３ ６ ４ ４７− 本発明の化合物は、例えば特開昭４８−６２８２６号、
同４９−５１２５号、同５１−７７３２７号、同５Ｂ−
１４３３４２号、同５９−１１１６４１号、同６４−４
０８２７号等に示された合成法と同様に、ピラゾロン誘
導体とメチン鎖供給源を反応させることにより容易に合
皮できる。以下、本発明の具体的合成例を示すが、他の
染料も同様に合皮することができる。

合成例１（化合物例１の合皮） （１）　　　　　　　　　　　（２） （１）　２５．３ｇ、　　（２）　８．４ｇ及びジメチ
ルホルムアミドｌｏＯｍｆｆを混合し、室温でトリエチ
ルアミン２５．３ｇをゆっくりと滴下した。室温で１２
時間撹拌した後、２００Ｉ１１１２の濃塩酸を加え酸析
し、得られた固体をジメチルスルホキシド３００ｍ１２
に加熱溶解し室温まで冷却した後、濃塩酸１００ＩＩＩ
ａを加えて再び酸析した。

この精製操作を４回繰り返した後、乾燥することにより
目的物を得た。収量１６．３ｇ、収率７０％。

目的物はマススペクトルにより親ピークを確認しＩこ。

合皮例２（化合物例４６の合皮） （３）　　　　　　　　　　（４） （３）　２８．１ｇ、　　（４）　１１．６ｇ、　−Ｉ
−タノール２００ｍ１２及びトリエチルアミン２５．３
ｇを混合し、８時間加熱還流した後、反応液を室温まで
冷却し濃塩酸２００ｍ（２を加えて酸析した。濾過して
得られた粗結晶を水１５０ｍ０．に分散し、水酸化ナト
リウム１５ｇを加えて溶解させた。濾過して不溶物を除
いた後、濃塩酸を用いて水溶液ｐＨを２以下に調整、酸
析を行つｔこ。

この操作を３回繰り返して得られた固体をジメチルスル
ホキシド３００ｍｆｆに加熱分散し、濃塩酸２００９ ０ ｍＱを加えて酸析した。得られた固体を乾燥することに
より目的物を得た。収量１６．２ｇ、収率６０％。

目的物はマススペクトルにより親ピークを確認しＩこ。

本発明の化合物はハロゲン化銀写真感光材料中に目的に
応じて光学濃度が０．０５〜３，０の範囲になるように
使用される。

本発明の化合物の固体微粒子分散体を感光材料中に添加
させる方法としては、例えば米国持許４゜８５７．４４
６号に示される方法等が、その具体例として挙けられる
。

本発明において写真構成層とは、例えば青感性乳剤層、
緑感性乳剤層及び赤感性乳剤層、中間層、保護層、フィ
ルター層、ハレーション防止層、イラジェーション防止
層等の感光性層あるいは非感光性層を示す。

本発明の化合物は好ましくは非感光性層中に含有される
。

本発明の感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤としては、
通常のハロゲン化銀乳剤の任意のものを用いることかで
きる。

該乳剤は、常法により化学増感することができ、又、増
感色素を用いて所望の波長域に光学的に増感できる。

ハロゲン化銀乳剤には、カブリ防止剤、安定剤等公知の
各種添加剤を加えることができる。該乳剤のバインダー
としては、ゼラチンを用いるのが有利である。

乳剤層、その他の親水性コロイド層は硬膜することがで
き、又、可塑剤、水不溶性又は水難溶性合成ポリマーの
分散物（ラテックス）を含有させることかできる。

感光材料の支持体としては、ポリエチレン等をラミイ、
−トシた紙、ポリエチレンテレフタレ−］・フィルム、
バライタ紙、三酢酸セルロース等を用いることができる
。

本発明の感光材料を用いて画像を得るには露光後、通常
知られている写真処理を行うことができる。

〔実施例〕

１ ２ 以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本発明の実施
の態様はこれらに限定されない。

実施例−１ コロナ放電処理（２５ｗ／ｍ２・ｍ１ｎ−’）　したポ
リエチレンテレフタレート上に塩化ビニリデン／メチル
メタアクリレート／グリシジルアクリレート／メタアク
リル酸−９０／　６　／　３　／　１の比率の共重合体
の水性分散液を両面に塗設し、２００°Ｃで乾燥した。

一方の側にはポリグリセロールとエピクロルヒドリンの
反応物、ノニルフェノキシ−ポリエチレングリコール、
平均粒径２μｍの合成シリカマット剤をゼラチン水溶液
に分散した液をゼラチンの付量が０°３ｇ／ｍ２となる
よう塗布し、２００°Ｃで乾燥した。

もう一方には イオン性ポリマー（表＝１に示す）　　　Ｉｇ／ｍ２ラ
テックス　　　　　　　　　　　　０．３ｇ／ｍ２０−
１ｇ／ｍ２ ビスフェノールＡとエピクロルヒドリンの反応物　　　
　　　　　　　　　　０．１ｇ／ｍ２となるよう上記成
分を有する水性分散液を塗布し１２０℃で乾燥した。

染料含有層の塗布 上記イオン性ポリマーの塗設された導電層上にゼラチン
　　　　　　　　　　　　　２−０ｇ／ｍ２本発明の微
粒子固体分散染料（表−１）０−１ｇ／ｍ２ ポリエチレングリコールとエピクロルヒドリンとの反応
物　　　　　　　　　　　　０．１ｇ／ｍ２二酸ケイ素
（平均粒径２μｍ） ０．０６ｇ／ｍ２ フン素化オクチルベンゼンスルホン酸 すトリウム塩　　　　　　　　　　　０．０６ｇ／ｍ２
ビスビニルスルホンメチルエーテル　０．０３ｇ／ｍ２
上記付量になるように、上記成分を含有するｐＨ４，５
の水性塗布液を２０μｍの厚さで塗布し、４６℃で乾燥
した。

３ ４ 得られた試料を市販のＰＯ現像液（ｐＨ１０，８）で３
５０Ｃ］２秒間で現像処理した。

（脱色性の評価） 色素の脱色性は、現像処理後のピースを５枚重ね目視で
視察し、５段階ランク式で評価した。ランク「５」は、
最も良くランク「ｌ」は最も悪い。

（接着性の評価） 導電性と色素含有層の接着性は、キズ付は法で評価した
。キズ付は法は１ｃｍ真四角中にタテに１０本、ヨコに
１０本の切り込み線を入れ、その上にセロテープをはり
付けて剥ぐことにより評価する方法である。これも５段
階ランク法で最も良いときを「５」ランクとし、悪いと
きをｒｌＪ　とした。

（静電防止能の評価） 静電防止能は、現像処理後のピースをネオプレンゴムロ
ーラーで１０回こすり、このピースの上に５ｍｍφの紙
片をかざし、紙片のピースへの吸い付き度を５段階ラン
ク法で評価した。最も良いときを「５」ランク、悪いと
きを「１」ランクとした。

結果を表−１に示す。

比較染料ａ 比較試料ｂ ５ 表１の結果から本発明の試料は、比較試料に対して脱色
性、接着性、静電防止能において著しく改良されている
ことが分かる。

〔本発明の効果〕

上記の結果から、本発明の染料を用いることにより、イ
オン性ポリマーまたは金属酸化合物を含有する導電層上
に染料層を設けても、脱色性がよく、しかも、導電層と
色素含有層との層間接着性もよく、静電防止効果も保持
されているハロゲン化銀写真感光材料を提供することが
できた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 支持体上にイオン性ポリマーまたは金属酸化物を含有す
   る導電層を設け、該層の上層に下記一般式〔 I 〕で示
   される化合物の固体微粒子分散体を含有する写真構成層
   を少なくとも１層有することを特徴とするハロゲン化銀
   写真感光材料。 一般式〔 I 〕 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は置換基を表し、Ｒ＿３、Ｒ＿
   ４は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケ
   ニル基、アリール基又はヘテロ環基を表し、Ｌ＿１、Ｌ
   ＿２、Ｌ＿３、Ｌ＿４、Ｌ＿５はメチン基を表し、ｎ＿
   １、ｎ＿２は０又は１を表す。ただし、Ｒ＿１、Ｒ＿２
   、Ｒ＿３、Ｒ＿４の少なくとも一つはスルホンアミド基
   及び／又はスルファモイル基を有し、かつ化合物中にス
   ルホンアミド基及び／又はスルファモイル基を少なくと
   も二つ有する。〕