JPH03286601A - マイクロ波共振器 - Google Patents
マイクロ波共振器Info
- Publication number
- JPH03286601A JPH03286601A JP2088441A JP8844190A JPH03286601A JP H03286601 A JPH03286601 A JP H03286601A JP 2088441 A JP2088441 A JP 2088441A JP 8844190 A JP8844190 A JP 8844190A JP H03286601 A JPH03286601 A JP H03286601A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductor layer
- resonant circuit
- region
- circuit region
- microwave
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 78
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 31
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 26
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 229910002244 LaAlO3 Inorganic materials 0.000 description 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N Beryllium oxide Chemical compound O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P7/00—Resonators of the waveguide type
- H01P7/08—Strip line resonators
- H01P7/082—Microstripline resonators
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/70—High TC, above 30 k, superconducting device, article, or structured stock
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/70—High TC, above 30 k, superconducting device, article, or structured stock
- Y10S505/701—Coated or thin film device, i.e. active or passive
Landscapes
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、マイクロ波共振器に関する。より詳細には、
本発明は、マイクロ波あるいはミリ波等の波長の短い電
磁波を取り扱うデバイスであって、特にその導体層の一
部を酸化物超電導材料によって形成した新規なマイクロ
波共振器の構成に関する。
本発明は、マイクロ波あるいはミリ波等の波長の短い電
磁波を取り扱うデバイスであって、特にその導体層の一
部を酸化物超電導材料によって形成した新規なマイクロ
波共振器の構成に関する。
従来の技術
数十cmから数mmまでの波長を有し、マイクロ波ある
いはミリ波等と呼ばれる電磁波は、理論的には電磁波ス
ペクトルの一部の範囲に過ぎないが、工学的にはこれを
取り扱うための独特の手法やデバイスが開発されている
ことから、特に独立した分野として検討される場合が多
い。
いはミリ波等と呼ばれる電磁波は、理論的には電磁波ス
ペクトルの一部の範囲に過ぎないが、工学的にはこれを
取り扱うための独特の手法やデバイスが開発されている
ことから、特に独立した分野として検討される場合が多
い。
マイクロ波やミリ波は、電波の直進性、導体板による反
射、障害物による回折、電波どうしの干渉、異なる媒質
間を伝播する際の光学的な振る舞い等の特徴がある他、
低周波や光の場合には効果が小さすぎて実用にならなか
った物理現象が顕著に顕れている場合があり、フェライ
トのジャイロ磁気効果を利用したアイソレータ/サーキ
ュラや気体プラズマとマイクロ波との干渉を利用したプ
ラズマ診断等の医療装置に利用されている。また、周波
数が極めて高いことから、高速/高密度な信号伝送媒体
としても期待されている。
射、障害物による回折、電波どうしの干渉、異なる媒質
間を伝播する際の光学的な振る舞い等の特徴がある他、
低周波や光の場合には効果が小さすぎて実用にならなか
った物理現象が顕著に顕れている場合があり、フェライ
トのジャイロ磁気効果を利用したアイソレータ/サーキ
ュラや気体プラズマとマイクロ波との干渉を利用したプ
ラズマ診断等の医療装置に利用されている。また、周波
数が極めて高いことから、高速/高密度な信号伝送媒体
としても期待されている。
この帯域の電磁波を誘導させるためには、低周波用の平
行線等では伝送損失が極端に大きい。また、特に線間距
離と波長とが同程度の長さになると、線路の僅かな屈曲
や接続部の僅かな寸法の不一致により反射や放射が発生
し、隣接物の影響を受は易くなる。そこで、実際には、
波長と同程度の断面寸法を有する管状の導波管を使用す
る。このような導波管およびそれによって構成された回
路は、その立体的な形状から立体回路などと呼ばれてい
るが、通常の電気/電子回路の構成要素に比較すると寸
法が大きく、実際の利用は特殊な分野に限られていた。
行線等では伝送損失が極端に大きい。また、特に線間距
離と波長とが同程度の長さになると、線路の僅かな屈曲
や接続部の僅かな寸法の不一致により反射や放射が発生
し、隣接物の影響を受は易くなる。そこで、実際には、
波長と同程度の断面寸法を有する管状の導波管を使用す
る。このような導波管およびそれによって構成された回
路は、その立体的な形状から立体回路などと呼ばれてい
るが、通常の電気/電子回路の構成要素に比較すると寸
法が大きく、実際の利用は特殊な分野に限られていた。
ところが、マイクロ波帯で動作する能動素子として半導
体を使用した小型のものが開発され、また、集積回路技
術の進歩に伴い、導波路間隔の極めて小さいストリップ
線路が使用されるようになってきている。
体を使用した小型のものが開発され、また、集積回路技
術の進歩に伴い、導波路間隔の極めて小さいストリップ
線路が使用されるようになってきている。
、発明が解決しようとする課題
一方、1986年にベドノーツ、ミューラー等によって
、30にで超電導状態を示す(La、 Ba) 2CL
l○、が報告され、更に、1987年には、チュー等に
よって90に台の超電導臨界温度Tcを有するY B
a 2 Cu 30゜報告され、続いて、1988年に
は前置等によって100に以上の臨界温度を示す所謂B
i系の複合酸化物系超電導材料が報告された。これらの
一連の複合酸化物系超電導材料は、廉価な液体窒素によ
る冷却でも超電導現象を実現することができるものがあ
り、超電導技術の実用的な応用の可能性が取り沙汰され
るようになった。
、30にで超電導状態を示す(La、 Ba) 2CL
l○、が報告され、更に、1987年には、チュー等に
よって90に台の超電導臨界温度Tcを有するY B
a 2 Cu 30゜報告され、続いて、1988年に
は前置等によって100に以上の臨界温度を示す所謂B
i系の複合酸化物系超電導材料が報告された。これらの
一連の複合酸化物系超電導材料は、廉価な液体窒素によ
る冷却でも超電導現象を実現することができるものがあ
り、超電導技術の実用的な応用の可能性が取り沙汰され
るようになった。
超電導特有の現象が有利に作用するという点ではマイク
ロ波部品も例外ではない。即ち、一般に、ス) IJツ
ブ線路では、周波数の平方根に比例して導体の抵抗によ
る減衰定数が増大する。また、周波数の増大に比例して
誘電体損も増加するが、近年のストリップ線路ては、誘
電体材料の改良により、特にマイクロ波、ミリ波の領域
では、ストリップ線路の損失は、専ら導体層の抵抗に起
因するものが大部分を占めている。従って、ストリップ
線路における導体層の抵抗を低減することは、ストリッ
プ線路の性能を著しく向上することになる。
ロ波部品も例外ではない。即ち、一般に、ス) IJツ
ブ線路では、周波数の平方根に比例して導体の抵抗によ
る減衰定数が増大する。また、周波数の増大に比例して
誘電体損も増加するが、近年のストリップ線路ては、誘
電体材料の改良により、特にマイクロ波、ミリ波の領域
では、ストリップ線路の損失は、専ら導体層の抵抗に起
因するものが大部分を占めている。従って、ストリップ
線路における導体層の抵抗を低減することは、ストリッ
プ線路の性能を著しく向上することになる。
尚、ス)IJツブ線路は、単純な伝送路としての用途の
他に、適切なパターニングを行うことによって、インダ
クタンス素子、フィルタ、共振器、方向性結合器、ハイ
ブリッド等のマイクロ波部品を構成することができる。
他に、適切なパターニングを行うことによって、インダ
クタンス素子、フィルタ、共振器、方向性結合器、ハイ
ブリッド等のマイクロ波部品を構成することができる。
しかしながら、有利な特性を有する酸化物超電導材料を
マイクロ波分野の技術に実際に応用した例はまだない。
マイクロ波分野の技術に実際に応用した例はまだない。
そこで、本発明の目的は、酸化物超電導材料を利用した
高性能なマイクロ波部品を提供することにある。
高性能なマイクロ波部品を提供することにある。
課題を解決するための手段
即ち、本発明に従うと、誘電体層と、該誘電体層に隣接
して形成されて接地に結合された第1の導体層と、該誘
電体層j=隣接し且つ該接地導体層と分離して形成され
た第2の導体層とを少なくとも備え、該第2導体層が共
振回路を形成する共振回路領域と該共振回路領域に対し
てマイクロ波を誘導する少なくとも1つの誘導線路領域
とを形成するようにパターニングされて構成されたマイ
クロ波共振器であって、該第2導体層の該共振回路領域
と該共振回路領域に対応する該第1導体層の所定領域と
が複合酸化物超電導材料により形成され、該第1導体層
の残余の領域および該第2導体層の該誘導線路領域が常
電導金属材料により形成されていることを特徴とするマ
イクロ波共振器が提供される。
して形成されて接地に結合された第1の導体層と、該誘
電体層j=隣接し且つ該接地導体層と分離して形成され
た第2の導体層とを少なくとも備え、該第2導体層が共
振回路を形成する共振回路領域と該共振回路領域に対し
てマイクロ波を誘導する少なくとも1つの誘導線路領域
とを形成するようにパターニングされて構成されたマイ
クロ波共振器であって、該第2導体層の該共振回路領域
と該共振回路領域に対応する該第1導体層の所定領域と
が複合酸化物超電導材料により形成され、該第1導体層
の残余の領域および該第2導体層の該誘導線路領域が常
電導金属材料により形成されていることを特徴とするマ
イクロ波共振器が提供される。
尚、上記本発明に係るマイクロ波共振器における導体層
は、基板温度が全工程を通じて800 tを越えない工
程によって薄膜として形成されることが好ましい。
は、基板温度が全工程を通じて800 tを越えない工
程によって薄膜として形成されることが好ましい。
作用
本発明に係るマイクロ波共振器は、マイクロストリップ
線路により構成されており、且つ、その導体層の材料と
して、共振回路を形成する部分にのみ酸化物超電導材料
を使用し、他の導体層は常電導金属により形成している
ことをその主要な特徴としている。
線路により構成されており、且つ、その導体層の材料と
して、共振回路を形成する部分にのみ酸化物超電導材料
を使用し、他の導体層は常電導金属により形成している
ことをその主要な特徴としている。
マイクロ波共振器は、共振回路を構成する共振回路領域
とこの共振回路領域に対してマイクロ波を誘導する誘導
線路領域とを含むひとつの導体層と、この導体層から分
離して形成された接地導体層との少なくとも1対の導体
層を備えている。
とこの共振回路領域に対してマイクロ波を誘導する誘導
線路領域とを含むひとつの導体層と、この導体層から分
離して形成された接地導体層との少なくとも1対の導体
層を備えている。
これらの導体層のうち、パターニングされた導体層の共
振回路領域を超電導化することによって、共振器を構成
するマイクロ波線路の伝播損失が著しく低減すると共に
、適用可能な周波数帯域が高周波数側に拡張される等の
利点がある。
振回路領域を超電導化することによって、共振器を構成
するマイクロ波線路の伝播損失が著しく低減すると共に
、適用可能な周波数帯域が高周波数側に拡張される等の
利点がある。
また、超電導材料として酸化物超電導材料を使用するこ
とによって、廉価な液体窒素により超電導状態を実現す
ることができるので、より広い分野でこの高性能なマイ
クロ波共振器を使用することが可能になる。
とによって、廉価な液体窒素により超電導状態を実現す
ることができるので、より広い分野でこの高性能なマイ
クロ波共振器を使用することが可能になる。
一方、共振回路領域以外の導体層、即ち、マイクロ波信
号を外部から共振回路へ、また共振回路から外部へ供給
するための誘導線路領域に常電導金属材料を使用するこ
とにより、他の回路やパッケージへの接続に既存の部材
並びに方法をそのまま利用することが可能となる。尚、
共振回路領域と誘導線路領域とは、通常間隙容量によっ
て接続されているので、異なる材料でパターニングされ
た導体層を形成することは容易である。
号を外部から共振回路へ、また共振回路から外部へ供給
するための誘導線路領域に常電導金属材料を使用するこ
とにより、他の回路やパッケージへの接続に既存の部材
並びに方法をそのまま利用することが可能となる。尚、
共振回路領域と誘導線路領域とは、通常間隙容量によっ
て接続されているので、異なる材料でパターニングされ
た導体層を形成することは容易である。
このような本発明に係るマイクロ波共振器において、各
導体層は、厚膜としであるいは薄膜として形成すること
ができるが、特に共振回路領域の導体層を形成する超電
導材料層は薄膜の方が品質に優れている。
導体層は、厚膜としであるいは薄膜として形成すること
ができるが、特に共振回路領域の導体層を形成する超電
導材料層は薄膜の方が品質に優れている。
即ち、導体層としての酸化物超電導薄膜は、公知の種々
の成膜法により作製できるが、マイクロ波共振回路の導
体層として超電導薄膜を作製する場合は、特に、誘電体
層と超電導薄膜との界面の性状が良好に保たれるように
留意する必要がある。
の成膜法により作製できるが、マイクロ波共振回路の導
体層として超電導薄膜を作製する場合は、特に、誘電体
層と超電導薄膜との界面の性状が良好に保たれるように
留意する必要がある。
というのは、マイクロ波線路の場合、導体層の表面を電
流が伝播するので、この領域で、物理的な形状および電
磁気的な特性が擾乱されると、導体層として超電導材料
を使用したことのメリントが失われてしまうからである
。また、導体層下地材料として、Al2O3やSiO2
を使用した場合、超電導薄膜を成膜する過程で必要な加
熱処理に際してAl2O3や5102と複合酸化物系超
電導材料とが反応して信号線路の超電導特性が劣化ある
いは消失してしまう場合がある。
流が伝播するので、この領域で、物理的な形状および電
磁気的な特性が擾乱されると、導体層として超電導材料
を使用したことのメリントが失われてしまうからである
。また、導体層下地材料として、Al2O3やSiO2
を使用した場合、超電導薄膜を成膜する過程で必要な加
熱処理に際してAl2O3や5102と複合酸化物系超
電導材料とが反応して信号線路の超電導特性が劣化ある
いは消失してしまう場合がある。
従って、特に、導体層の成膜時に留意しなければならな
いことは、導体層の材料と誘電体層または基板材料とが
、互いに反応性の低い材料の組合せであること、また、
成膜時および成膜後に基板を高温に加熱して相互の材料
が拡散するような処理は極力避けること等である。具体
的には、導体層としての超電導薄膜の成膜過程では、基
板温度が800℃を越えないように留意する必要がある
。
いことは、導体層の材料と誘電体層または基板材料とが
、互いに反応性の低い材料の組合せであること、また、
成膜時および成膜後に基板を高温に加熱して相互の材料
が拡散するような処理は極力避けること等である。具体
的には、導体層としての超電導薄膜の成膜過程では、基
板温度が800℃を越えないように留意する必要がある
。
このような観点からは、成膜時の基板温度に対する制約
が少なく、基板温度の制御がし易い真空蒸着法またはレ
ーサ蒸着法が有利である。また、他の成膜法も含めて、
成膜後のボストアニール処理を行うことは不利なので、
成膜中の基板雰囲気に活性の高い酸素を導入する等して
、成膜したままの状態で薄膜が超電導薄膜となっている
ような成膜法を選択することが重要である。
が少なく、基板温度の制御がし易い真空蒸着法またはレ
ーサ蒸着法が有利である。また、他の成膜法も含めて、
成膜後のボストアニール処理を行うことは不利なので、
成膜中の基板雰囲気に活性の高い酸素を導入する等して
、成膜したままの状態で薄膜が超電導薄膜となっている
ような成膜法を選択することが重要である。
尚、誘電体層の材料としては、公知の誘電体材料をいず
れも使用することができるが、超伝導薄膜の形成に関し
てのみ有利なMgO1SrT i○3あるいはYSZを
使用した場合、これらの材料の誘電体損失が非常に大き
く、超電導線路による導体損失の低減が活かされない。
れも使用することができるが、超伝導薄膜の形成に関し
てのみ有利なMgO1SrT i○3あるいはYSZを
使用した場合、これらの材料の誘電体損失が非常に大き
く、超電導線路による導体損失の低減が活かされない。
従って、線路のマイクロ波線路としての特性を向上させ
るためには、誘電正接tanδの小さいAl2O3、L
aAIC)+、ベリリア、硼珪酸ガラス等を使用するこ
とが有利である。
るためには、誘電正接tanδの小さいAl2O3、L
aAIC)+、ベリリア、硼珪酸ガラス等を使用するこ
とが有利である。
特に、LaAlO3は、かなり高温まで安定で、複合酸
化物系超電導材料との反応性が低く、また、誘電体損失
も、MgOやYSZに比較して1桁以上低いので好まし
い。
化物系超電導材料との反応性が低く、また、誘電体損失
も、MgOやYSZに比較して1桁以上低いので好まし
い。
共振回路領域の導体層を形成する超電導材料としては、
Y系の複合酸化物の他、TIおよび/またはBiを含む
複合酸化物を、特に超電導臨界温度が高く液体窒素によ
る冷却で超電導化する酸化物超電導材料として例示する
ことができるが、これに限定されるものではない。一連
の複合酸化物超電導材料は、これを薄膜として底膜する
際に、予め基板上にレジストによるマスクを形成してお
くリフトオフ法によって任意のパターンを形成すること
ができる。また、−旦全面に形成した導体層を塩酸等に
よってエツチングするウェットエツチング法によってパ
ターニングすることもできる。
Y系の複合酸化物の他、TIおよび/またはBiを含む
複合酸化物を、特に超電導臨界温度が高く液体窒素によ
る冷却で超電導化する酸化物超電導材料として例示する
ことができるが、これに限定されるものではない。一連
の複合酸化物超電導材料は、これを薄膜として底膜する
際に、予め基板上にレジストによるマスクを形成してお
くリフトオフ法によって任意のパターンを形成すること
ができる。また、−旦全面に形成した導体層を塩酸等に
よってエツチングするウェットエツチング法によってパ
ターニングすることもできる。
このような本発明に係るマイクロ波共振器は、所定の幅
と長さを有する方形の導体層により形成される線形共振
器、あるいは所定の直径の円形の導体層により形成され
る円板共振器やリング共振器等の種々の構成に対してい
ずれも適用である。
と長さを有する方形の導体層により形成される線形共振
器、あるいは所定の直径の円形の導体層により形成され
る円板共振器やリング共振器等の種々の構成に対してい
ずれも適用である。
以下、作製例を挙げて本発明をより具体的に説明するが
、以下の開示は本発明の一実施例に過ぎず、本発明の技
術的範囲を何ら限定するものではない。
、以下の開示は本発明の一実施例に過ぎず、本発明の技
術的範囲を何ら限定するものではない。
実施例
第1図(a)〜(C)は、本発明に係るマイクロ波共振
器を構成することができるマイクロ波伝送線路の断面構
造を示す図である。
器を構成することができるマイクロ波伝送線路の断面構
造を示す図である。
第1図(a)に示すマイクロ波線路は、誘電体層3と、
誘電体層3の上面に所定のパターンに従って形成された
中心導体1と、誘電体層3の下面全体に形成された接地
導体層2とから構成されたマイクロストリップ線路であ
る。
誘電体層3の上面に所定のパターンに従って形成された
中心導体1と、誘電体層3の下面全体に形成された接地
導体層2とから構成されたマイクロストリップ線路であ
る。
第1図わ)に示すマイクロ波線路は、中心導体層1と、
中心導体層1を中心に埋設され、上面および下面に接地
導体層2mおよび2nを備えた誘電体層3により構成さ
れた平衡型ストリップ線路である。
中心導体層1を中心に埋設され、上面および下面に接地
導体層2mおよび2nを備えた誘電体層3により構成さ
れた平衡型ストリップ線路である。
また、第1図(C)に示すマイクロ波線路は、誘電体層
3と、誘電体層3上に互いに離隔して形成された中心導
体層1および1対の接地導体層2m、2nとから構成さ
れたコプレーナガイド型マイクロ波線路である。
3と、誘電体層3上に互いに離隔して形成された中心導
体層1および1対の接地導体層2m、2nとから構成さ
れたコプレーナガイド型マイクロ波線路である。
上述のような種々のマイクロ波線路は、その中心導体層
1を適切にパターニングすることによってマイクロ波共
振器を構成することができるが、本実施例においては、
特にパターニングの自由度の高さと、マイクロ波線路と
しての特性が優れているという点から、第1図山〕に示
した平衡型ストリップ線路の構造を採用してマイクロ波
共振器を作製した。
1を適切にパターニングすることによってマイクロ波共
振器を構成することができるが、本実施例においては、
特にパターニングの自由度の高さと、マイクロ波線路と
しての特性が優れているという点から、第1図山〕に示
した平衡型ストリップ線路の構造を採用してマイクロ波
共振器を作製した。
第2図は、後述するような方法で作製するマイクロ波共
振器における中心導体層のパターンを示す図であり、第
1図(b)に示す平衡型ストリップ線路のX−x断面を
表している。
振器における中心導体層のパターンを示す図であり、第
1図(b)に示す平衡型ストリップ線路のX−x断面を
表している。
同図に示すマイクロ波共振器において誘電体層3上に形
成された導体層パターンは、誘導線路領域1bおよびI
Cの間に、それぞれ間隙容量4bおよび4Cを介して結
合された共振回路領域1aにより形成されている。ここ
で、この共振回路領域1aは幅0.26mmであり、誘
導線路領域1bおよびICに対してそれぞれ0.7cm
mの間隙を介して配置されている。尚、この誘導線路領
域1bおよびlcは、10GHzにおける特性インピー
ダンスが50Ωのス) IJツブ線路となっフいる。一
方、共振回路領域1aは、幅0.26mm、長さ8.O
Qmrnノ方形ツバターンを有している。
成された導体層パターンは、誘導線路領域1bおよびI
Cの間に、それぞれ間隙容量4bおよび4Cを介して結
合された共振回路領域1aにより形成されている。ここ
で、この共振回路領域1aは幅0.26mmであり、誘
導線路領域1bおよびICに対してそれぞれ0.7cm
mの間隙を介して配置されている。尚、この誘導線路領
域1bおよびlcは、10GHzにおける特性インピー
ダンスが50Ωのス) IJツブ線路となっフいる。一
方、共振回路領域1aは、幅0.26mm、長さ8.O
Qmrnノ方形ツバターンを有している。
ここで、尚、誘電体層3はlaA]03により、共振回
路領域1aの導体層はYBa2Cu3○、薄膜により、
誘導線路領域1b、1cおよこぐ図示されていなし)接
地導体層はA1薄膜;=よりそれぞれ形成されている。
路領域1aの導体層はYBa2Cu3○、薄膜により、
誘導線路領域1b、1cおよこぐ図示されていなし)接
地導体層はA1薄膜;=よりそれぞれ形成されている。
第3図(a)〜(d)は、本実施例におけるマイクロ波
共振器の作製過程を示す図である。尚、第3図(a)〜
(d)は、第1図(b)および第2図上に示すY −Y
!:mおける断面て示されている。
共振器の作製過程を示す図である。尚、第3図(a)〜
(d)は、第1図(b)および第2図上に示すY −Y
!:mおける断面て示されている。
まず、厚さQ、 5mmのLa八へ03板3aを基板と
して、その上面に中心導体の共振回路領域1aとして、
下面に接地導体層2aとしてYBa2Cu30y薄膜を
、それぞれ電子ビーム蒸着法により形成した。
して、その上面に中心導体の共振回路領域1aとして、
下面に接地導体層2aとしてYBa2Cu30y薄膜を
、それぞれ電子ビーム蒸着法により形成した。
次に、塩酸をエッチ剤としたウェットエツチング法によ
り、第3図(a)に示すように、共振回路領域1aおよ
び接地導体層2aををパターニングした。
り、第3図(a)に示すように、共振回路領域1aおよ
び接地導体層2aををパターニングした。
尚、YBazCu30 y薄膜の厚さは6000人とし
、接地導体層2aは、幅および長さをそれぞれ共振回路
領域1aの3倍および1.2倍とした。
、接地導体層2aは、幅および長さをそれぞれ共振回路
領域1aの3倍および1.2倍とした。
続いて、リフトオフ法により、中心導体層の誘導線路領
域1b、ICおよび接地導体層2bとして、第3図わ)
に示すように、厚さ6000人のAI薄膜を形成した。
域1b、ICおよび接地導体層2bとして、第3図わ)
に示すように、厚さ6000人のAI薄膜を形成した。
尚、接地導体層2bは基板3aの下面全体に形成した。
次に、第3図(C)に示すように、共振回路領域1aお
よび誘導線路領域1b、IC上を、それぞれマスク層5
によりマスクしながら、残余の領域に厚さ6000人の
laA]03薄膜3bを成長させた。
よび誘導線路領域1b、IC上を、それぞれマスク層5
によりマスクしながら、残余の領域に厚さ6000人の
laA]03薄膜3bを成長させた。
一方、第3図(a)および(b)に示した工程と同様の
方法で、上面に接地導体層2Cおよび2dを装荷したL
aAlO3板3Cを作製した後、第3図(d)に示すよ
うに、マスク層5を除去した導体層1a、1b、lcお
よびLaAlO3薄膜3b上に密着させた。
方法で、上面に接地導体層2Cおよび2dを装荷したL
aAlO3板3Cを作製した後、第3図(d)に示すよ
うに、マスク層5を除去した導体層1a、1b、lcお
よびLaAlO3薄膜3b上に密着させた。
以上のようにして、第1図ら)に示した断面構造と実質
的に同じ構成のマイクロ波共振器が完成した。
的に同じ構成のマイクロ波共振器が完成した。
尚、共振回路領域1a、接地導体層2a、2Cおよび誘
電体層3bの成膜条件は下記の第1表に示す通りである
。
電体層3bの成膜条件は下記の第1表に示す通りである
。
第1表
尚、上記の各YBa2Cυ30.薄膜の成膜に際しては
、成膜面近傍に配置したリング状ノズルによって成膜面
に対して03ガスの吹きつけを行った。
、成膜面近傍に配置したリング状ノズルによって成膜面
に対して03ガスの吹きつけを行った。
吹きつけた03ガスは、肢体窒素によって冷却した液体
オゾンを気化させたもので、実質的に純粋な03ガスで
ある。03ガスの供給量は40cc/分とした。
オゾンを気化させたもので、実質的に純粋な03ガスで
ある。03ガスの供給量は40cc/分とした。
以上のようにして作製したマイクロ波共振器をネットワ
ークアナライザに接続して、2Gl(zから20GI(
zまての透過電力の周波数特性を測定した。
ークアナライザに接続して、2Gl(zから20GI(
zまての透過電力の周波数特性を測定した。
また、マイクロ波共振器の周波数選択性の評価≧して、
透過電力の大きさがその最大値から3dB以上低下し?
よい範囲の帯域幅Bと共振周波数f。
透過電力の大きさがその最大値から3dB以上低下し?
よい範囲の帯域幅Bと共振周波数f。
との比[f[l/BlをQ値として示すことが一般的で
ある。そこで、全ての導体層をAI薄膜により形成した
同じ仕様のマイクロ波共振器を作製し、比較例として本
実施例に係るマイクロ波共振器と共にQ値を測定した。
ある。そこで、全ての導体層をAI薄膜により形成した
同じ仕様のマイクロ波共振器を作製し、比較例として本
実施例に係るマイクロ波共振器と共にQ値を測定した。
測定結果は、第2表に併せて示す。
第2表
発明の効果
以上詳述のように、本発明によれば、ストリップ線路の
導体層のうち共振回路に相当する部分を超電導材料によ
って構成することにより、液体窒素温度で動作する画期
的にQlの高−・)マイクロ波共振器を実現することが
できる。
導体層のうち共振回路に相当する部分を超電導材料によ
って構成することにより、液体窒素温度で動作する画期
的にQlの高−・)マイクロ波共振器を実現することが
できる。
また、共振回路に相当する部分以外の導体層を常電導金
属で構成することにより既存のパンケージや、マイクロ
波に関する部品に従来の手法で接続することが可能とな
った。
属で構成することにより既存のパンケージや、マイクロ
波に関する部品に従来の手法で接続することが可能とな
った。
第1図(a)〜(C)は、本発明を適用可能なマイクロ
波共振器の断面構造を示す図であり、 第2図は、実施例において作製したマイクロ波共振器の
導体層パターンを示す図であり、第3図(a)〜(d)
は、第1図に示したス) IJツブ線路の作製過程を示
す図である。 〔主な参照番号〕 ■・・・中心導体、 2.2m、2n・・・接地導体層、 3・・・誘電体層、 4a、4b・・・間隙容量、 la・・・共振回路領域 (YBazCu30y薄膜導体層)、 1b、IC・・誘導線路領域(AI薄膜導体層)、2a
、2c・・・接地導体層 (YBa2Cu30.薄膜)、 2b、2d・・・接地導体層(A+薄膜)、3a、3b
、3C・・・誘電体層(LaAlO3)、5・・・マス
ク層
波共振器の断面構造を示す図であり、 第2図は、実施例において作製したマイクロ波共振器の
導体層パターンを示す図であり、第3図(a)〜(d)
は、第1図に示したス) IJツブ線路の作製過程を示
す図である。 〔主な参照番号〕 ■・・・中心導体、 2.2m、2n・・・接地導体層、 3・・・誘電体層、 4a、4b・・・間隙容量、 la・・・共振回路領域 (YBazCu30y薄膜導体層)、 1b、IC・・誘導線路領域(AI薄膜導体層)、2a
、2c・・・接地導体層 (YBa2Cu30.薄膜)、 2b、2d・・・接地導体層(A+薄膜)、3a、3b
、3C・・・誘電体層(LaAlO3)、5・・・マス
ク層
Claims (1)
- 誘電体層と、該誘電体層に隣接して形成されて接地に
結合された第1の導体層と、該誘電体層に隣接し且つ該
接地導体層と分離して形成された第2の導体層とを少な
くとも備え、該第2導体層が共振回路を形成する共振回
路領域と該共振回路領域に対してマイクロ波を誘導する
少なくとも1つの誘導線路領域とを形成するようにパタ
ーニングされて構成されたマイクロ波共振器であって、
該第2導体層の該共振回路領域と該共振回路領域に対応
する該第1導体層の所定領域とが複合酸化物超電導材料
により形成され、該第1導体層の残余の領域および該第
2導体層の該誘導線路領域が常電導金属材料により形成
されていることを特徴とするマイクロ波共振器。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2088441A JPH03286601A (ja) | 1990-04-03 | 1990-04-03 | マイクロ波共振器 |
CA002039593A CA2039593C (en) | 1990-04-03 | 1991-04-02 | Microwave resonator composed of oxide superconductor material |
US07/679,704 US5219827A (en) | 1990-04-03 | 1991-04-03 | Microwave resonator having a ground conductor partially composed of oxide superconductor material |
EP91400911A EP0455527B1 (en) | 1990-04-03 | 1991-04-03 | Microstrip line resonator composed of oxide superconductor material |
DE69114762T DE69114762T2 (de) | 1990-04-03 | 1991-04-03 | Mikrostreifenleiter-Resonator aus supraleitendem Oxid. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2088441A JPH03286601A (ja) | 1990-04-03 | 1990-04-03 | マイクロ波共振器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03286601A true JPH03286601A (ja) | 1991-12-17 |
Family
ID=13942891
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2088441A Pending JPH03286601A (ja) | 1990-04-03 | 1990-04-03 | マイクロ波共振器 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5219827A (ja) |
EP (1) | EP0455527B1 (ja) |
JP (1) | JPH03286601A (ja) |
CA (1) | CA2039593C (ja) |
DE (1) | DE69114762T2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006208070A (ja) * | 2005-01-26 | 2006-08-10 | Kyocera Corp | 導電率測定方法 |
JP2006214833A (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Kyocera Corp | 共振器の励振方法及び電磁気的物性値の測定方法 |
JP2007503107A (ja) * | 2003-07-28 | 2007-02-15 | セントレ ナショナル デ ラ レチャーチェ シャーティフィック | 薄い超伝導層を含んだ誘導素子を製造する方法及びシステム並びに同素子を含む装置 |
JP2016515202A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-05-26 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフトSiemens Aktiengesellschaft | 媒体の誘電特性を求めるためのセンサおよび方法 |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6335622B1 (en) * | 1992-08-25 | 2002-01-01 | Superconductor Technologies, Inc. | Superconducting control elements for RF antennas |
US5594342A (en) * | 1992-06-01 | 1997-01-14 | Conductus, Inc. | Nuclear magnetic resonance probe coil with enhanced current-carrying capability |
DE4218635C2 (de) * | 1992-06-05 | 1996-05-23 | Siemens Ag | Hochfrequenz-Empfangsantenne einer Einrichtung zur Kernspintomographie mit mindestens einem Kondensator |
US5329225A (en) * | 1992-11-02 | 1994-07-12 | General Electric Co. | Thin film superconductor inductor with shield for high frequency resonant circuit |
US5543386A (en) * | 1994-02-28 | 1996-08-06 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Joint device including superconductive probe-heads for capacitive microwave coupling |
US5538941A (en) * | 1994-02-28 | 1996-07-23 | University Of Maryland | Superconductor/insulator metal oxide hetero structure for electric field tunable microwave device |
US5604375A (en) * | 1994-02-28 | 1997-02-18 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Superconducting active lumped component for microwave device application |
US5567673A (en) * | 1994-10-17 | 1996-10-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process of forming multilayered Tl-containing superconducting composites |
GB9426294D0 (en) * | 1994-12-28 | 1995-02-22 | Mansour Raafat | High power soperconductive circuits and method of construction thereof |
CA2148341C (en) * | 1995-05-01 | 1997-02-04 | Shen Ye | Method and structure for high power hts transmission lines using strips separated by a gap |
US5693595A (en) * | 1995-06-06 | 1997-12-02 | Northrop Grumman Corporation | Integrated thin-film terminations for high temperature superconducting microwave components |
SE506313C2 (sv) * | 1995-06-13 | 1997-12-01 | Ericsson Telefon Ab L M | Avstämbara mikrovågsanordningar |
US6021337A (en) * | 1996-05-29 | 2000-02-01 | Illinois Superconductor Corporation | Stripline resonator using high-temperature superconductor components |
RU2137256C1 (ru) * | 1996-09-26 | 1999-09-10 | Самсунг Электроникс Ко., Лтд | Гибридная интегральная схема свч-диапазона |
US6163713A (en) * | 1997-03-07 | 2000-12-19 | Nec Corporation | High frequency transmission line capable of improving an intermodulation distortion characteristic in a high frequency device |
ATE286623T1 (de) * | 1998-07-22 | 2005-01-15 | Du Pont | Verfahren zur doppelseitigen strukturierung von supraleitenden hochtemperatur-schaltungen |
US6727535B1 (en) * | 1998-11-09 | 2004-04-27 | Paratek Microwave, Inc. | Ferroelectric varactor with built-in DC blocks |
WO2001056107A1 (fr) * | 2000-01-28 | 2001-08-02 | Fujitsu Limited | Filtre a microrubans supraconducteurs |
US6501278B1 (en) * | 2001-06-29 | 2002-12-31 | Intel Corporation | Test structure apparatus and method |
US20110287663A1 (en) * | 2010-05-21 | 2011-11-24 | Gailus Mark W | Electrical connector incorporating circuit elements |
US9496731B2 (en) * | 2012-01-20 | 2016-11-15 | Samsung Electronics Co., Ltd | Apparatus and method for transmitting wireless power by using resonant coupling and system for the same |
US11031774B2 (en) * | 2018-01-19 | 2021-06-08 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Superconducting fault current limiter having improved energy handling |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5639703B2 (ja) * | 1978-11-13 | 1981-09-16 | ||
JPH01125101A (ja) * | 1987-11-10 | 1989-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 超高周波用共振器 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2220929B1 (ja) * | 1973-02-20 | 1976-06-11 | Minet Roger | |
JP2608088B2 (ja) * | 1988-02-19 | 1997-05-07 | 三菱電機株式会社 | フェリ磁性体薄膜共振器 |
-
1990
- 1990-04-03 JP JP2088441A patent/JPH03286601A/ja active Pending
-
1991
- 1991-04-02 CA CA002039593A patent/CA2039593C/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-03 EP EP91400911A patent/EP0455527B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-04-03 DE DE69114762T patent/DE69114762T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-03 US US07/679,704 patent/US5219827A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5639703B2 (ja) * | 1978-11-13 | 1981-09-16 | ||
JPH01125101A (ja) * | 1987-11-10 | 1989-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 超高周波用共振器 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007503107A (ja) * | 2003-07-28 | 2007-02-15 | セントレ ナショナル デ ラ レチャーチェ シャーティフィック | 薄い超伝導層を含んだ誘導素子を製造する方法及びシステム並びに同素子を含む装置 |
JP2006208070A (ja) * | 2005-01-26 | 2006-08-10 | Kyocera Corp | 導電率測定方法 |
JP4628116B2 (ja) * | 2005-01-26 | 2011-02-09 | 京セラ株式会社 | 導電率測定方法 |
JP2006214833A (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Kyocera Corp | 共振器の励振方法及び電磁気的物性値の測定方法 |
JP2016515202A (ja) * | 2013-03-15 | 2016-05-26 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフトSiemens Aktiengesellschaft | 媒体の誘電特性を求めるためのセンサおよび方法 |
US10317444B2 (en) | 2013-03-15 | 2019-06-11 | Siemens Aktiengesellschaft | Sensor and method for determining a dielectric property of a medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0455527B1 (en) | 1995-11-22 |
EP0455527A1 (en) | 1991-11-06 |
DE69114762D1 (de) | 1996-01-04 |
US5219827A (en) | 1993-06-15 |
DE69114762T2 (de) | 1996-06-27 |
CA2039593C (en) | 1995-01-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH03286601A (ja) | マイクロ波共振器 | |
US6057271A (en) | Method of making a superconducting microwave component by off-axis sputtering | |
Tsuzuki et al. | Superconducting filter for IMT-2000 band | |
Konishi | Novel dielectric waveguide components-microwave applications of new ceramic materials | |
US6216020B1 (en) | Localized electrical fine tuning of passive microwave and radio frequency devices | |
CN111641397B (zh) | 一种约瑟夫森行波放大器及其制备方法 | |
Huang | Ultra-compact superconducting narrow-band filters using single-and twin-spiral resonators | |
US5543386A (en) | Joint device including superconductive probe-heads for capacitive microwave coupling | |
JP3071093B2 (ja) | 特性変調可能な超電導マイクロ波素子構造 | |
JPH05299712A (ja) | マイクロ波部品 | |
JPH03205904A (ja) | マイクロ波遅延線 | |
JP2567517B2 (ja) | 超電導マイクロ波部品 | |
JPH03194979A (ja) | マイクロ波共振器 | |
JP2596400B2 (ja) | 超伝導フィルタ | |
US5504059A (en) | Superconducting microwave parts having a package, three substrates, and line and grounding conductors | |
Das et al. | Compact high-selectivity wide stopband microstrip cross-coupled bandpass filter with spurline | |
Ma et al. | A low-loss 5GHz bandpass filter using HTS coplanar waveguide quarter-wavelength resonators | |
JPH0414302A (ja) | 超電導マイクロストリップ線路の作製方法 | |
Swanson et al. | An HTS end-coupled CPW filter at 35 GHz | |
JPH05299914A (ja) | 超伝導高周波共振器およびフィルター | |
US20080269062A1 (en) | Bandpass filter and forming method of the same | |
JPH07336113A (ja) | 高周波電極及び高周波伝送線路 | |
KR100199019B1 (ko) | 마이크로파용 듀플렉서 및 그 제조방법 | |
KR0155309B1 (ko) | 마이크로스트립 분기선 방식의 고온초전도 3-dB 직각 하이브리드 결합기 및 그의 제조방법 | |
JP2850562B2 (ja) | 超電導基板の製造方法 |