JPH03283338A - Electron gun heated type steam generator - Google Patents

Electron gun heated type steam generator

Info

Publication number
JPH03283338A
JPH03283338A JP2085178A JP8517890A JPH03283338A JP H03283338 A JPH03283338 A JP H03283338A JP 2085178 A JP2085178 A JP 2085178A JP 8517890 A JP8517890 A JP 8517890A JP H03283338 A JPH03283338 A JP H03283338A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
irradiation position
irradiation
steam generator
electron gun
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2085178A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0795435B2 (en
Inventor
Tsutomu Tetsuka
勉 手束
Kimio Yamada
山田 喜美雄
Kazuteru Tsuchida
一輝 土田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2085178A priority Critical patent/JPH0795435B2/en
Publication of JPH03283338A publication Critical patent/JPH03283338A/en
Publication of JPH0795435B2 publication Critical patent/JPH0795435B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electron Beam Exposure (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

PURPOSE:To adjust an application position of an electron beam to an aimed position by detecting the spacial radiation intensity distribution of X-rays, and comparing the peak position of the distribution to a preset aimed position, and controlling an electron-beam application position setting means so that the difference between the peak position and the aimed position is zero. CONSTITUTION:A detection signal output from an X-ray two dimensional detector 11 is input to a detector control device 15 and radiation intensity distribution obtained is transmitted to a picture processing device 16. The picture processing device 16 compares the input measured radiation intensity distribution to a preset aimed reference radiation position and reference radiation intensity distribution and calculates the distance Y from the reference radiation position to the center position of the measured radiation intensity distribution and an electron beam deflecting coil control device 17 controls action of an electron beam deflecting coil 16 by which the application position of an electron beam is decided, so that an error signal Y is zero. The radiation position of the electron beam is thus set to the aimed position.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子銃加熱型蒸気発生装置に関し、特に、加熱
対象である例えば金属に電子ビームを照射して蒸気を発
生させることにおいて電子ビームの照射位置と照射領域
形状と軌道を目標と一致するように適切に制御できる装
置を備えた電子銃加熱型蒸気発生装置に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to an electron gun-heated steam generator, and in particular, the present invention relates to an electron gun-heated steam generator, and in particular, to a device for generating steam by irradiating an object to be heated, such as a metal, with an electron beam. The present invention relates to an electron gun heated steam generator equipped with a device that can appropriately control the irradiation position, irradiation area shape, and trajectory so that they match the target.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

電子銃加熱型蒸気発生装置の従来の応用例の一例として
、第143回レーザ学会研究報告RTM−88−10の
項目に記載された装置がある。この文献に記載される電
子銃加熱型蒸気発生装置でも、るつぼに収容された加熱
対象である金属に対して電子ビームを照射し且つ電子ビ
ームの集束性を向上させることが期待されている。そこ
で、電子ビームの軌道と形状を測定する目的で、電子ビ
ーム軌道上に金網を設置し、電子ビームを照射して金網
の溶融跡を観察するようにしている。
An example of a conventional application of an electron gun heated steam generator is a device described in the 143rd Laser Society Research Report RTM-88-10. The electron gun heated steam generator described in this document is also expected to irradiate the metal to be heated, which is housed in a crucible, with an electron beam and to improve the convergence of the electron beam. Therefore, in order to measure the trajectory and shape of the electron beam, a wire mesh is placed on the electron beam trajectory, and the melting traces of the wire mesh are observed by irradiating the electron beam.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

前記の従来の電子銃加熱型蒸気発生装置では、電子ビー
ムの軌道及び形状を測定することを試みているものの、
電子ビームの照射位置及び照射領域形状を検出し、この
検出データを用いて電子ビームの照射位置及び照射領域
形状を目標に合致した適切なものに制御することについ
ては考慮されていない。従って、電子銃加熱型蒸気発生
装置を長時間の間使用した時に電子ビームの照射位置と
照射領域形状が経時的に変化した場合、蒸気発生効率が
低下するという問題が起きる。また電゛子ビームの照射
位置が大きく変動した場合には、るつぼが損傷するとい
う問題が起きる。
Although the conventional electron gun heated steam generator mentioned above attempts to measure the trajectory and shape of the electron beam,
No consideration is given to detecting the irradiation position and the shape of the irradiation area of the electron beam and using this detection data to control the irradiation position and the shape of the irradiation area to suit the target. Therefore, if the irradiation position and the shape of the irradiation area of the electron beam change over time when the electron gun heated steam generator is used for a long period of time, a problem arises in that the steam generation efficiency decreases. Furthermore, if the irradiation position of the electron beam changes significantly, a problem arises in that the crucible is damaged.

本発明の目的は、加熱対象における電子ビームの照射位
置と照射領域形状と軌道を検出し制御できる構成を有し
、電子ビームの照射位置と照射領域形状と軌道が目標か
ら変動した場合に目標の状態に調整することのできる制
御系統を備えた電子銃加熱型蒸気発生装置を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to have a configuration that can detect and control the irradiation position, irradiation area shape, and trajectory of an electron beam on a heating target, and to detect and control the irradiation position, irradiation area shape, and trajectory of an electron beam on a heating target. It is an object of the present invention to provide an electron gun heated steam generator equipped with a control system that can be adjusted according to the state.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明に係る第1の電子銃加熱型蒸気発生装置は、電子
銃から電子ビームを出力し、この電子ビームの照射位置
を照射位置設定手段で定めることにより前記電子ビーム
を蒸発物に照射して蒸気を発生させる電子銃加熱型蒸気
発生装置において、蒸発物における電子ビームの照射領
域を見込む位置に配設され、蒸発物から放射されるX線
の空間的放射強度分布を検出する検出手段と、電子ビー
ムに関して目標とする照射位置の情報を有し、検出手段
の検出信号を入力して前記の目標となる照射位置と比較
し、照射位置の差の情報を求める画像処理手段と、照射
位置の差の情報に基づき、画像処理手段で求められる照
射位置の差がOになるように照射位置設定手段を操作す
る電子ビーム照射位置制御手段を備えることを特徴点と
して有する。
A first electron gun-heated steam generator according to the present invention outputs an electron beam from an electron gun, and irradiates the evaporated material with the electron beam by determining the irradiation position of the electron beam with an irradiation position setting means. In an electron gun-heated steam generator for generating steam, a detection means is disposed at a position looking into the irradiation area of the electron beam on the evaporated material, and detects a spatial radiation intensity distribution of X-rays emitted from the evaporated material; an image processing means that has information on a target irradiation position with respect to the electron beam, inputs the detection signal of the detection means, compares it with the target irradiation position, and obtains information on the difference in the irradiation position; A feature of the present invention is that it includes an electron beam irradiation position control means that operates the irradiation position setting means so that the difference in the irradiation positions determined by the image processing means becomes O based on the difference information.

本発明に係る第2の電子銃加熱型蒸気発生装置は、電子
銃から電子ビームを出力し、この電子ビームの照射位置
を照射位置設定手段で定め且つ照射領域形状を照射領域
形状設定手段で定めることにより電子ビームを蒸発物に
照射して蒸気を発生させる電子銃加熱型蒸気発生装置に
おいて、蒸発物における電子ビームの照射領域を見込む
位置に配設され、蒸発物から放射されるX線の空間的放
射強度分布を検出する検出手段と、電子ビームに関して
目標とする照射位置と照射領域形状の情報を有し、検出
手段の検出信号を入力して前記の目標となる照射位置及
び照射領域形状と比較し、照射位置の差と照射領域形状
の差の各情報を求める画像処理手段と、照射位置の差の
情報に基づき、画像処理手段で求められる照射位置の差
が0゛になるように照射位置設定手段を操作する電子ビ
ーム照射位置制御手段と、照射領域形状の差の情報に基
づき、画像処理手段で求められる照射領域形状の差が0
になるように照射領域形状設定手段を操作する電子ビー
ム照射領域形状制御手段とを備えることを特徴点として
有する。
A second electron gun heated steam generator according to the present invention outputs an electron beam from an electron gun, determines the irradiation position of the electron beam by an irradiation position setting means, and determines the shape of an irradiation area by an irradiation area shape setting means. In an electron gun-heated steam generator that generates steam by irradiating an evaporated material with an electron beam, a space where the X-rays emitted from the evaporated material is placed in a position that looks into the electron beam irradiation area of the evaporated material. It has a detection means for detecting the target radiation intensity distribution, information on the target irradiation position and the shape of the irradiation area regarding the electron beam, and inputs the detection signal of the detection means to detect the target irradiation position and the shape of the irradiation area. An image processing means compares and obtains information on the difference in irradiation position and a difference in the shape of the irradiation area, and irradiation is performed so that the difference in irradiation position determined by the image processing means becomes 0゛ based on the information on the difference in irradiation position. Based on the information of the electron beam irradiation position control means that operates the position setting means and the difference in the shape of the irradiation area, the difference in the shape of the irradiation area determined by the image processing means is 0.
A feature of the present invention is that the electron beam irradiation area shape control means is provided for operating the irradiation area shape setting means so that the electron beam irradiation area shape setting means is controlled so that

前記第2の電子銃加熱型蒸気発生装置において、照射領
域形状設定手段としては例えば静電レンズが使用される
In the second electron gun heating type steam generator, for example, an electrostatic lens is used as the irradiation area shape setting means.

本発明に係る第3の電子銃加熱型蒸気発生装置は、電子
銃から電子ビームを出力し、この電子ビームの照射位置
を照射位置設定手段で定めること(ごより電子ビームを
蒸発物に照射して蒸気を発生させる電子銃加熱型蒸気発
生装置において、蒸発物における電子ビームの照射領域
を見込む位置に配設される少なくとも2個の検出素子と
各検出素子の観測領域を規定するスリット部材を備え、
各検出素子の観測領域は、電子ビームを制御する方向に
おいて目標とする電子ビーム照射位置を中心に対称位置
に設定されるX線検出手段と、X線検出手段の各検出素
子の検出信号を入力して検出信号の強度から電子ビーム
の照射位置変動の情報を求める差動増幅手段と、照射位
置変動の情報に基づき、差動増幅手段で求められる照射
位置変動が0になるように照射位置設定手段を操作する
電子ビーム照射位置制御手段を備えることを特徴点とし
て有する。
The third electron gun heated steam generator according to the present invention outputs an electron beam from an electron gun, and determines the irradiation position of the electron beam with an irradiation position setting means (by irradiating the electron beam onto the evaporated material). An electron gun-heated steam generator for generating steam, comprising at least two detection elements disposed at a position looking into the irradiation area of the electron beam on the evaporated material, and a slit member defining the observation area of each detection element. ,
The observation area of each detection element is an X-ray detection means set at a symmetrical position with respect to the target electron beam irradiation position in the direction of controlling the electron beam, and a detection signal of each detection element of the X-ray detection means is input. differential amplification means for obtaining information on fluctuations in the irradiation position of the electron beam from the intensity of the detection signal, and setting the irradiation position so that the fluctuation in the irradiation position determined by the differential amplification means becomes 0 based on the information on the fluctuation in the irradiation position. A feature of the present invention is that it includes an electron beam irradiation position control means for operating the means.

前記第1〜第3の電子銃加熱型蒸気発生装置において、
前記検出手段で検出されるX線は制動X線を利用するこ
とができる。
In the first to third electron gun heated steam generators,
Braking X-rays can be used as the X-rays detected by the detection means.

本発明に係る第4の電子銃加熱型蒸気発生装置は、前記
第1又は第2の構成において、蒸発物から放射されるX
線の代りに、電子ビーム軌道で電子ビームによる励起で
蒸気が放射するX線の空間的放射強度分布を測定し、測
定された放射強度分布から電子ビーム軌道の情報を求め
、画像処理手段と電子ビーム照射位置制御手段と照射位
置設定手段とによって電子ビームの軌道を制御すること
を特徴点として有する。
In the fourth electron gun heated steam generator according to the present invention, in the first or second configuration,
Instead of X-rays, the spatial radiation intensity distribution of the X-rays emitted by the steam due to excitation by the electron beam is measured in the electron beam trajectory, and information on the electron beam trajectory is obtained from the measured radiation intensity distribution. The feature is that the trajectory of the electron beam is controlled by a beam irradiation position control means and an irradiation position setting means.

前記第1〜第4の電子銃加熱型蒸気発生装置において、
照射位置設定手段には電子ビーム偏向装置又は電子ビー
ム加速装置が使用される。
In the first to fourth electron gun heated steam generators,
An electron beam deflector or an electron beam accelerator is used as the irradiation position setting means.

また前記第1〜第4の電子銃加熱型蒸気発生装置におい
て、X線を検出する検出手段の代りに光を検出する検出
手段を用いることができる。
Further, in the first to fourth electron gun heated steam generators, a detection means for detecting light may be used instead of a detection means for detecting X-rays.

〔作用〕[Effect]

本発明による第1の電子銃加熱型蒸気発生装置では、蒸
発物の表面に照射される電子ビームによって放射される
X線の空間的放射強度分布を検出手段で検出し、画像処
理手段でその分布のピーク位置を予め設定された目標位
置と比較してその差を求め、その差が0になるように電
子ビーム照射位置制御手段が電子ビーム照射位置設定手
段を操作し、照射位置を常に目標位置に調整する。
In the first electron gun heated steam generator according to the present invention, the detection means detects the spatial radiation intensity distribution of X-rays emitted by the electron beam irradiated onto the surface of the evaporated material, and the image processing means detects the spatial radiation intensity distribution. The electron beam irradiation position control means operates the electron beam irradiation position setting means so that the peak position is compared with a preset target position to find the difference, and the difference becomes 0, and the irradiation position is always set to the target position. Adjust to.

本発明による第2の電子銃加熱型蒸気発生装置では、蒸
発物の表面に照射される電子ビームによって放射される
X線の空間的放射強度分布を検出手段で検出し、画像処
理手段でその分布のピーク位置及び分布幅のそれぞれを
予め設定された目標位置及び目標幅と比較してその差を
求め、それぞれの差が0になるように電子ビーム照射位
置制御手段が電子ビーム照射位置設定手段を操作し且つ
照射領域形状制御手段が照射領域形状設定手段を操作し
、蒸発物の表面における電子ビームの照射位置と照射領
域形状を常に目標状態に調整する。
In the second electron gun heated steam generator according to the present invention, the detection means detects the spatial radiation intensity distribution of X-rays emitted by the electron beam irradiated onto the surface of the evaporated material, and the image processing means detects the spatial radiation intensity distribution. The electron beam irradiation position control means controls the electron beam irradiation position setting means to compare each of the peak position and distribution width with a preset target position and target width to determine the difference, and to make each difference zero. The irradiation area shape control means operates the irradiation area shape setting means to constantly adjust the irradiation position of the electron beam and the irradiation area shape on the surface of the evaporated material to a target state.

本発明による第3の電子銃加熱型蒸気発生装置では、少
なくとも2個の検出素子を含む検出手段と差動増幅手段
を用いて、中心位置に対するX線放射強度分布の偏りを
検出し、この偏りがなくなるように電子ビーム照射位置
制御手段が電子ビーム照射位置設定手段を操作し、照射
位置を常に目標位置に調整する。
In the third electron gun heated steam generator according to the present invention, a detection means including at least two detection elements and a differential amplification means are used to detect the deviation of the X-ray radiation intensity distribution with respect to the center position, and The electron beam irradiation position control means operates the electron beam irradiation position setting means so that the irradiation position is always adjusted to the target position.

本発明による第4の電子銃加熱型蒸気発生装置では、前
記の第1又は第2の装置構成を利用して、更に蒸気と電
子ビームとの空中における衝突で発生するX線を検出す
るように構成することにより、電子ビームの軌道を検出
し、この電子ビームを目標軌道に調整するものである。
A fourth electron gun-heated steam generator according to the present invention utilizes the first or second device configuration, and further detects X-rays generated by the collision between the steam and the electron beam in the air. By configuring this, the trajectory of the electron beam is detected and the electron beam is adjusted to the target trajectory.

前記の各電子銃加熱型蒸気発生装置では、蒸発物の表面
又はその近傍で放射されるX線の空間的放射強度分布を
利用するように構成されたが、同様にして放射される光
を利用して信号処理系統及び制御系統を構成し、X線を
利用した場合と同様な制御機能を持たせることも可能で
ある。
Each of the above-mentioned electron gun heated steam generators was configured to utilize the spatial radiation intensity distribution of X-rays emitted at or near the surface of the evaporated material, but it is also possible to utilize the light emitted in the same way. It is also possible to configure a signal processing system and a control system using the X-rays, and provide the same control function as when using X-rays.

〔実施例〕〔Example〕

以下に、本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

第1図は本発明に係る電子銃加熱型蒸気発生装置の第1
実施例の構成図である。1は金属製のるつぼであり、縦
断面で示している。るつぼ1は図面紙葉の直角方向に長
形の形態を有している。るつば1の中には蒸発させる対
象である例えば金属の如き蒸発物2が、電子ビーム3で
加熱されることにより部分的に溶融状態で収容されてい
る。電子ビーム3は通常Y方向に関し、蒸発物2の中央
位置に照射されるように設定されている。蒸発物2の中
央位置は目標位置として設定されている。
FIG. 1 shows a first example of an electron gun heated steam generator according to the present invention.
It is a block diagram of an Example. 1 is a metal crucible, shown in longitudinal section. The crucible 1 has an elongated shape in the direction perpendicular to the drawing sheet. In the crucible 1, an evaporated material 2, such as a metal, to be evaporated is heated by an electron beam 3, thereby being accommodated in a partially molten state. The electron beam 3 is normally set to irradiate the center of the evaporated material 2 in the Y direction. The center position of the evaporated material 2 is set as a target position.

4は電子ビーム3で加熱されることにより蒸発した蒸発
物2の蒸気流を示す。5は電子銃であり、電子銃5はる
つぼ1に近接して配設されている。
4 shows the vapor flow of the evaporated material 2 evaporated by being heated by the electron beam 3. 5 is an electron gun, and the electron gun 5 is disposed close to the crucible 1.

電子銃5には例えばリニアフィラメント有したものが使
用され、電子銃5はリニアフィラメントがるっぽ1の長
手方向に平行になるように配置される。電子銃1の電子
ビーム出力部には、蒸発物2の表面における電子ビーム
3の照射位置を決定するための電子ビーム偏向コイル6
と、蒸発物2の表面における電子ビームの照射領域形状
を決定するための静電レンズ7とが備えられている。
For example, an electron gun 5 having a linear filament is used, and the electron gun 5 is arranged so that the linear filament is parallel to the longitudinal direction of the roof 1. The electron beam output section of the electron gun 1 includes an electron beam deflection coil 6 for determining the irradiation position of the electron beam 3 on the surface of the evaporator 2.
and an electrostatic lens 7 for determining the shape of the electron beam irradiation area on the surface of the evaporated material 2.

上記の構成を有する電子銃加熱型蒸気発生装置のるつぼ
周辺部分は蒸発室8内に収容されている。
A portion around the crucible of the electron gun-heated steam generator having the above configuration is housed in the evaporation chamber 8.

蒸発室8の上部は図中省略されているが、通常、蒸気流
4の中から所要の成分を回収する装置が配設される。
Although the upper part of the evaporation chamber 8 is omitted in the figure, a device for recovering desired components from the vapor flow 4 is usually provided.

蒸発室8の側壁の一部には連通部9を設け、この連通部
9を介して検出器ボックス10を設けている。検出器ボ
ックス10の内部には所定の位置に、蒸発物2における
電子ビーム3の照射領域に臨むような姿勢でX線2次元
検出器11が配設される。X線2次元検出器11はX線
カメラとして機能するものであり、多数の検出素子を2
次元においてアレイ状に配設してなり、蒸発物2の表面
における電子ビーム3が照射される領域から放射される
X線を検出するものである。X線2次元検出器11によ
る視野14はその前の位置に配設されたピンホール12
によって定められる。このピンホール12によってX線
2次元検出器11が見込む蒸発物2の表面上の領域が決
定される。また13はフィルタであり、検出器11で検
出するX線の波長領域を所定の領域に設定する作用を有
する。フィルタ13の透過特性は任意に変更することが
でき、この場合には適当な透過特性を有したフィルタを
選択することによって変更が行われる。
A communication section 9 is provided in a part of the side wall of the evaporation chamber 8, and a detector box 10 is provided via this communication section 9. Inside the detector box 10, an X-ray two-dimensional detector 11 is arranged at a predetermined position so as to face the irradiation area of the electron beam 3 on the evaporated material 2. The two-dimensional X-ray detector 11 functions as an X-ray camera, and includes a large number of detection elements.
They are arranged in an array in terms of dimensions, and detect X-rays emitted from a region on the surface of the evaporated material 2 that is irradiated with the electron beam 3. The field of view 14 of the two-dimensional X-ray detector 11 has a pinhole 12 placed in front of it.
determined by. This pinhole 12 determines the area on the surface of the evaporated material 2 that the two-dimensional X-ray detector 11 sees. Further, 13 is a filter, which has the function of setting the wavelength range of X-rays detected by the detector 11 to a predetermined range. The transmission characteristics of the filter 13 can be changed arbitrarily, and in this case, the change is made by selecting a filter with appropriate transmission characteristics.

上記の検出器の構成では、電子ビーム3が蒸発物2の表
面に照射されることによって放射されるX線を検出する
ように構成されている。電子ビームの照射によって生じ
るX線の放射強度は電子ビーム強度に比例している。従
って、蒸発物2の表面の照射部分周辺のX線の放射強度
分布を測定すれば電子ビーム3の照射位置と照射領域形
状の情報を得ることができる。なお、放射されるX線に
は、電子によって蒸発元素が励起されることによって生
じるX線と、電子が蒸発物2の表面で減速されるときに
生じる制動放射X線とが含まれる。
The detector configuration described above is configured to detect X-rays emitted when the surface of the evaporated material 2 is irradiated with the electron beam 3. The radiation intensity of X-rays generated by electron beam irradiation is proportional to the electron beam intensity. Therefore, by measuring the X-ray radiation intensity distribution around the irradiated portion of the surface of the evaporated material 2, information on the irradiation position of the electron beam 3 and the shape of the irradiation area can be obtained. Note that the emitted X-rays include X-rays generated when the evaporated element is excited by electrons, and bremsstrahlung X-rays generated when the electrons are decelerated on the surface of the evaporated material 2.

これらのX線はいずれも電子ビーム3の強度に比例して
発生するので、全体として検出される放射X線は照射さ
れた電子ビームの強度に比例している。また制動X線の
みに着目して、これのみを検出して以後の制御のための
測定データとして用いることも可能である。
Since all of these X-rays are generated in proportion to the intensity of the electron beam 3, the detected emitted X-rays as a whole are proportional to the intensity of the irradiated electron beam. It is also possible to focus only on the braking X-rays, detect them alone, and use them as measurement data for subsequent control.

また上記の構成では検出器としてX線検出器を用いたが
、電子ビーム3が照射されるときにX線と共に発生する
光を利用して電子ビーム3の照射位置と照射領域形状を
測定することも可能である。
Further, in the above configuration, an X-ray detector is used as a detector, but the irradiation position and the shape of the irradiation area of the electron beam 3 can be measured using the light generated together with the X-rays when the electron beam 3 is irradiated. is also possible.

この場合の検出器としては光検出器を使用することにな
るが、基本的な構成はX線検出器の場合と同じである。
A photodetector is used as the detector in this case, but the basic configuration is the same as that of the X-ray detector.

次に信号処理系統と制御系統について説明する。Next, the signal processing system and control system will be explained.

X線2次元検出器11から出力される検出信号は、検出
器制御装置15に入力され、ここで信号処理され、Y方
向に関してのX線の放射強度分布を求める。X線検出器
制御装置15で得られた放射線強度分布は画像処理装置
16に送られる。画像処理装置16では、入力された測
定放射強度分布を、予め設定された目標とする基準放射
位置(通常Y方向に関してるつぼ1の中央位置である)
と基準放射強度分布と比較し、基準放射位置からの測定
放射強度分布の中心位置のずれΔYと基準放射強度分布
の判値幅と測定放射強度分布の判値幅との差ΔWをそれ
ぞれ誤差信号として算出し、出力する。基準放射位置か
らの測定放射強度分布の中心位置のずれに関する誤差信
号ΔYは、電子ビーム偏向コイル制御装置17に与えら
れる。また基準放射強度分布の判値幅と測定放射強度分
布の判値幅との差異に関する誤差信号でΔWは静電レン
ズ制御装置18に与えられる。電子ビーム偏向コイル制
御装置17は、入力された誤差信号ΔYに基づいて、画
像処理装置16から出力される誤差信号ΔYが0になる
ように、電子ビームの照射位置を決定する電子ビーム偏
向コイル6の動作を操作する。静電レンズ制御装置18
は、入力された誤差信号ΔWに基づいて、画像処理装置
から出力される誤差信号ΔWがOになるように、電子ビ
ームの照射領域を決定する静電レンズ7の動作を操作す
る。
The detection signal output from the two-dimensional X-ray detector 11 is input to the detector control device 15, where the signal is processed and the X-ray radiation intensity distribution in the Y direction is determined. The radiation intensity distribution obtained by the X-ray detector control device 15 is sent to the image processing device 16. The image processing device 16 converts the input measurement radiation intensity distribution into a preset target reference radiation position (usually the center position of the crucible 1 in the Y direction).
and the reference radiant intensity distribution, and calculate the deviation ΔY of the center position of the measured radiant intensity distribution from the reference radiant position and the difference ΔW between the judgment value width of the reference radiant intensity distribution and the judgment value width of the measured radiant intensity distribution as error signals. and output. An error signal ΔY regarding the deviation of the center position of the measured radiation intensity distribution from the reference radiation position is given to the electron beam deflection coil controller 17. Further, ΔW is an error signal related to the difference between the threshold width of the reference radiant intensity distribution and the threshold width of the measured radiant intensity distribution, and is provided to the electrostatic lens control device 18. The electron beam deflection coil control device 17 determines the electron beam irradiation position based on the input error signal ΔY so that the error signal ΔY output from the image processing device 16 becomes 0. Manipulate the behavior of Electrostatic lens control device 18
operates the electrostatic lens 7 that determines the irradiation area of the electron beam, based on the input error signal ΔW, so that the error signal ΔW output from the image processing device becomes O.

ここで、蒸発物2の表面における電子ビーム3の照射位
置と照射領域形状の制御について具体的に説明する。
Here, control of the irradiation position and the shape of the irradiation area of the electron beam 3 on the surface of the evaporated material 2 will be specifically explained.

照射位置の制御として、先ず前記の画像処理装置16で
は、検出器制御装置15から与えられる測定されたX線
放射強度分布を用いて、第3図に示す如くX線強度分布
19がピークとなるY方向の位置P2を求め、目標とす
るるっぽ1の中央位置P1からのずれ、すなわち位置の
差を誤差信号ΔYとして算出する。次いで電子ビーム偏
向コイル制御装置17は、入力された誤差信号ΔYに基
づいて電子ビーム偏向コイル6の発生する磁場を増減す
ることにより電子ビーム3の軌道を変え、画像処理装置
16で算出される誤差信号ΔYが0になるように制御を
行う。
To control the irradiation position, first, the image processing device 16 uses the measured X-ray radiation intensity distribution given from the detector control device 15, so that the X-ray intensity distribution 19 reaches a peak as shown in FIG. The position P2 in the Y direction is determined, and the deviation of the target Lupo 1 from the center position P1, that is, the difference in position, is calculated as an error signal ΔY. Next, the electron beam deflection coil control device 17 changes the trajectory of the electron beam 3 by increasing or decreasing the magnetic field generated by the electron beam deflection coil 6 based on the input error signal ΔY, and adjusts the error calculated by the image processing device 16. Control is performed so that the signal ΔY becomes 0.

また照射領域形状の制御して、先ず、上記と同様に画像
処理装置16で検出器制御装置15がら与えられる測定
されたX線強度分布を用いて、第4図に示す如く目標と
する照射領域20の判値幅Woと測定されたX線強度分
布19の判値幅Wとの差を誤差信号ΔW (=’W−W
、)として算出する。次いで静電レンズ制御装置18は
、入力された誤差信号ΔWに基づいて静電レンズ7を操
作することにより、画像処理装置16で算出される誤差
信号ΔWがOになるように電子ビームを制御し、その照
射領域の判値幅Wを目標の判値幅W。に−致させる。こ
うして電子ビーム3の照射領域形状を制御する。
In addition, the shape of the irradiation area is controlled, and first, the image processing device 16 uses the measured X-ray intensity distribution given from the detector control device 15 in the same way as described above, to form a target irradiation area as shown in FIG. The difference between the judgment value width Wo of 20 and the judgment value width W of the measured X-ray intensity distribution 19 is expressed as an error signal ΔW (='W-W
, ). Next, the electrostatic lens control device 18 controls the electron beam so that the error signal ΔW calculated by the image processing device 16 becomes O by operating the electrostatic lens 7 based on the input error signal ΔW. , the judgment value width W of the irradiation area is the target judgment value width W. make it happen. In this way, the shape of the irradiation area of the electron beam 3 is controlled.

上記の実施例によれば、蒸発物2の表面における電子ビ
ーム3の照射位置と照射領域形状を、予め設定された目
標に一致するように制御でき、最適な状態で電子ビーム
3を制御することができる。
According to the above embodiment, the irradiation position and irradiation area shape of the electron beam 3 on the surface of the evaporated material 2 can be controlled to match a preset target, and the electron beam 3 can be controlled in an optimal state. I can do it.

なお、特に電子ビームの照射位置制御に関しては、電子
銃5の電子銃制御装置(図示せず)における電子ビーム
の加速装置を操作し加速電圧を制御するように構成する
ことも可能である。また、第1図に示された制御装置の
構成では、電子ビームの照射位置と照射領域形状を目標
状態に制御するように構成したが、2つの制御系統を設
ける必要はなく、照射位置の制御系統を設けるだけでも
良い。
In particular, regarding the control of the irradiation position of the electron beam, it is also possible to configure the electron beam accelerator in the electron gun control device (not shown) of the electron gun 5 to control the acceleration voltage. In addition, although the configuration of the control device shown in Fig. 1 is configured to control the electron beam irradiation position and irradiation area shape to the target state, it is not necessary to provide two control systems, and the irradiation position can be controlled. It's good to just have a system.

更に上記の実施例による装置構成の説明では、蒸発物2
の表面における電子ビーム3の照射位置と照射領域形状
の制御という観点で説明したが、本発明による制御に従
えば、電子ビーム3の軌道が目標軌道になるように制御
することも可能である。ただしこの場合には、X線2次
元検出器11で検出する対象は、蒸発物2の表面及びそ
の近傍で放射されるX線ではなく、電子ビーム3の軌道
上で電子と蒸気4が衝突することによって発生するX線
を検出し、測定するように構成され、また画像処理装置
16にも電子ビームについての目標とする基準データが
記憶されている必要がある。
Furthermore, in the description of the device configuration according to the above embodiment, the evaporated material 2
Although the explanation has been made from the viewpoint of controlling the irradiation position and the shape of the irradiation area of the electron beam 3 on the surface of the substrate, according to the control according to the present invention, it is also possible to control the trajectory of the electron beam 3 so that it follows the target trajectory. However, in this case, what is detected by the two-dimensional X-ray detector 11 is not the X-rays emitted on and near the surface of the evaporated substance 2, but the collision between electrons and vapor 4 on the trajectory of the electron beam 3. The image processing device 16 must also be configured to detect and measure the X-rays generated by the electron beam, and the image processing device 16 must also store target reference data for the electron beam.

本発明の電子銃加熱型蒸気発生装置の第2実施例につい
て説明する。第2図において第1図に示された同一要素
には同一の符号を付す。この実施例では検出器の構成を
変えている。前記の実施例で使用されていたX線2次元
検出器11では、検出素子が2次元においてアレイの如
く配置されていたのに対して、本実施例の場合には2個
の検出素子21A、21Bを使用している。22は検出
素子21A、21Bのそれぞれに所定の見込み位置でX
線を入力させるためのスリット部材である。
A second embodiment of the electron gun heated steam generator of the present invention will be described. In FIG. 2, the same elements shown in FIG. 1 are given the same reference numerals. In this embodiment, the configuration of the detector is changed. In the X-ray two-dimensional detector 11 used in the above embodiment, the detection elements were arranged two-dimensionally like an array, whereas in the case of the present embodiment, there are two detection elements 21A, I am using 21B. 22 indicates X at a predetermined expected position on each of the detection elements 21A and 21B.
This is a slit member for inputting a line.

このスリット部材22によって検出素子21Aの視野2
3Aと検出素子21Bの視野23Bが定まる。各検出素
子22A、22Bが出力する検出信号は、それぞれX線
検出器制御装置15A、15Bで処理され、その後に差
動増幅器24に入力される。X線検出器制御装置15A
、15Bのそれぞれは、対応する検出素子19A、19
Bのそれぞれの視野23A、23Bで検出されたX線放
射強度の信号を得ることができる。差動増幅器24は、
検出器制御装置15A、15Bの各出力信号の差をとり
、これを誤差信号として電子ビーム偏向コイル制御装置
17に供給する。ここで、上記の検出素子21A、21
Bのそれぞれの視野23A、23Bを、目標とする照射
位置を中心としてこれについて対称になるよう設定すれ
ば、上記誤差信号は照射位置のずれに対応する。この誤
差信号に基に、電子ビーム偏向コイル制御装置17は電
子ビーム偏向コイル6の動作を制御する。制御の仕方は
前記第1の実施例の場合と同じであり、誤差信号がOに
なるように電子ビーム偏向コイル6を操作する。また前
記の実施例の場合と同様に、第2図中想像線で示すよう
に電子銃制御装置25を設けることにより、電子ビーム
の加速装置の加速電圧を制御して電子ビームの照射位置
を制御することもできる。本実施例によれば、蒸発物2
の表面における電子ビーム照射位置を目標位置に制御す
ることができる。
This slit member 22 allows the field of view 2 of the detection element 21A to
3A and the field of view 23B of the detection element 21B are determined. The detection signals output by the detection elements 22A and 22B are processed by the X-ray detector control devices 15A and 15B, respectively, and then input to the differential amplifier 24. X-ray detector control device 15A
, 15B have corresponding detection elements 19A, 19
A signal of the X-ray radiation intensity detected in each field of view 23A, 23B of B can be obtained. The differential amplifier 24 is
The difference between the output signals of the detector control devices 15A and 15B is taken, and this is supplied to the electron beam deflection coil control device 17 as an error signal. Here, the above-mentioned detection elements 21A, 21
If the respective fields of view 23A and 23B of B are set to be symmetrical with respect to the target irradiation position as the center, the above error signal corresponds to the deviation of the irradiation position. Based on this error signal, the electron beam deflection coil control device 17 controls the operation of the electron beam deflection coil 6. The control method is the same as in the first embodiment, and the electron beam deflection coil 6 is operated so that the error signal becomes O. Further, as in the case of the above embodiment, an electron gun control device 25 is provided as shown by the imaginary line in FIG. 2 to control the acceleration voltage of the electron beam accelerator and control the irradiation position of the electron beam. You can also. According to this embodiment, the evaporated material 2
The electron beam irradiation position on the surface of can be controlled to a target position.

また前記の各実施例では、蒸発物20表面又はその上部
近傍の領域において発生するX線又は光の空間的放射強
度分布に基づいて電子ビームの照射状態を検出し、電子
ビームの放射位置と放射領域形状のうち少なくともいず
れか一方を目標の状態に制御するように構成していたが
、検出対象を空中の蒸気と電子ビームとの衝突で発生す
′るX線又は光とし、目標として設定される基準情報を
電子ビーム軌道とすることにより、電子ビーム軌道を調
整するように構成することもできる。
Furthermore, in each of the above-described embodiments, the irradiation state of the electron beam is detected based on the spatial radiation intensity distribution of X-rays or light generated on the surface of the evaporator 20 or in the region near the top thereof, and the irradiation state of the electron beam is determined. The configuration was such that at least one of the area shapes was controlled to a target state, but the detection target was X-rays or light generated by the collision between vapor in the air and an electron beam, and the target was set as the target. The electron beam trajectory can also be adjusted by using the electron beam trajectory as reference information.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上の説明で明らかなように、本発明によれば、電子銃
加熱型蒸気発生装置において、電子ビームの照射によっ
て蒸発物から発生するX線又は光の空間的放射強度分布
を検出し、目標とする電子ビームの放射位置と放射領域
形状についての情報を予め設定してお(ことにより、電
子ビームの放射位置、放射領域形状を目標に一致させ、
最適な電子ビーム照射を実現することができる。また本
発明による電子銃加熱型蒸気発生装置では、電子ビーム
の軌道を制御することもできる。また、簡素な検出素子
を利用することにより、放射中心位置に対する対称性を
検出し、その偏りをなくすように調整することにより電
子ビームの放射位置を制御することも可能である。
As is clear from the above description, according to the present invention, in an electron gun-heated steam generator, the spatial radiation intensity distribution of X-rays or light generated from evaporated matter by irradiation with an electron beam is detected, and a target is detected. Information about the electron beam radiation position and radiation area shape is set in advance (by this, the electron beam radiation position and radiation area shape can be matched to the target,
Optimal electron beam irradiation can be achieved. Further, in the electron gun heated steam generator according to the present invention, the trajectory of the electron beam can also be controlled. Furthermore, by using a simple detection element, it is also possible to detect symmetry with respect to the radiation center position and control the radiation position of the electron beam by adjusting to eliminate the bias.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は第1実施例を示す構成図、第2図は第2実施例
を示す構成図、第3図は測定された放射強度分布の中心
位置のずれを示すグラフ、第4図は測定された放射強度
分布の形状と目標形状との差を示すグラフである。 〔符号の説明〕 1・・・・・・るつぼ 2・・・・・・蒸発物 3・・・・・・電子ビーム 4・・・・・・蒸気 5・・・・・・電子銃 6・・・・・・電子ビーム偏向コイル 7・・・・・・静電レンズ 8・・・・・・蒸発室 10・・・・・検出器ボックス 11・・・・・X線2次元検出器 12・・・・・ピンホール 15.15A、15B ・・・・・検出器制御装置 16・・・・・画像処理装置 17・・・・・偏向コイル制御装置 18・・・・・静電レンズ制御装置 21A、21B 2 4 5 検出素子 スリット部材 差動増幅器 電子銃制御装置
Fig. 1 is a block diagram showing the first embodiment, Fig. 2 is a block diagram showing the second embodiment, Fig. 3 is a graph showing the deviation of the center position of the measured radiation intensity distribution, and Fig. 4 is the measurement 3 is a graph showing the difference between the shape of the radiant intensity distribution obtained and the target shape. [Explanation of symbols] 1... Crucible 2... Evaporated material 3... Electron beam 4... Steam 5... Electron gun 6. ... Electron beam deflection coil 7 ... Electrostatic lens 8 ... Evaporation chamber 10 ... Detector box 11 ... X-ray two-dimensional detector 12 ... Pinholes 15.15A, 15B ... Detector control device 16 ... Image processing device 17 ... Deflection coil control device 18 ... Electrostatic lens control Devices 21A, 21B 2 4 5 Detection element slit member differential amplifier electron gun control device

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)電子銃から電子ビームを出力し、この電子ビーム
の照射位置を照射位置設定手段で定めることにより前記
電子ビームを蒸発物に照射して蒸気を発生させる電子銃
加熱型蒸気発生装置において、前記蒸発物における前記
電子ビームの照射領域を見込む位置に配設され、前記蒸
発物から放射されるX線の空間的放射強度分布を検出す
る検出手段と、電子ビームに関して目標とする照射位置
の情報を有し、前記検出手段の検出信号を入力して前記
の目標となる照射位置と比較し、照射位置の差の情報を
求める画像処理手段と、前記照射位置の差の情報に基づ
き、前記画像処理手段で求められる照射位置の差が0に
なるように前記照射位置設定手段を操作する電子ビーム
照射位置制御手段を備えることを特徴とする電子銃加熱
型蒸気発生装置。
(1) An electron gun-heated steam generator that outputs an electron beam from an electron gun and determines the irradiation position of the electron beam with an irradiation position setting means to irradiate the evaporated material with the electron beam to generate steam, a detection means disposed at a position looking into the irradiation area of the electron beam on the evaporator and detecting a spatial radiation intensity distribution of X-rays emitted from the evaporator; and information on a target irradiation position with respect to the electron beam. an image processing means that inputs the detection signal of the detection means and compares it with the target irradiation position to obtain information on the difference in the irradiation position; An electron gun-heated steam generator, comprising an electron beam irradiation position control means for operating the irradiation position setting means so that the difference in irradiation positions determined by the processing means becomes zero.
(2)電子銃から電子ビームを出力し、この電子ビーム
の照射位置を照射位置設定手段で定め且つ照射領域形状
を照射領域形状設定手段で定めることにより前記電子ビ
ームを蒸発物に照射して蒸気を発生させる電子銃加熱型
蒸気発生装置において、前記蒸発物における前記電子ビ
ームの照射領域を見込む位置に配設され、前記蒸発物か
ら放射されるX線の空間的放射強度分布を検出する検出
手段と、電子ビームに関して目標とする照射位置と照射
領域形状の情報を有し、前記検出手段の検出信号を入力
して前記の目標となる照射位置及び照射領域形状と比較
し、照射位置の差と照射領域形状の差の各情報を求める
画像処理手段と、前記照射位置の差の情報に基づき、前
記画像処理手段で求められる照射位置の差が0になるよ
うに前記照射位置設定手段を操作する電子ビーム照射位
置制御手段と、前記照射領域形状の差の情報に基づき、
前記画像処理手段で求められる照射領域形状の差が0に
なるように前記照射領域形状設定手段を操作する電子ビ
ーム照射領域形状制御手段とを備えることを特徴とする
電子銃加熱型蒸気発生装置。
(2) An electron beam is output from the electron gun, and the irradiation position of the electron beam is determined by the irradiation position setting means, and the shape of the irradiation area is determined by the irradiation area shape setting means, so that the evaporator is irradiated with the electron beam and vaporized. In the electron gun heated steam generation device that generates a has information on the target irradiation position and irradiation area shape for the electron beam, inputs the detection signal of the detection means, compares it with the target irradiation position and irradiation area shape, and determines the difference in irradiation position. Based on the image processing means for obtaining each piece of information on the difference in the shape of the irradiation area and the information on the difference in the irradiation position, the irradiation position setting means is operated so that the difference in the irradiation position obtained by the image processing means becomes 0. Based on the electron beam irradiation position control means and information on the difference in the shape of the irradiation area,
An electron gun-heated steam generation apparatus comprising: electron beam irradiation area shape control means for operating the irradiation area shape setting means so that the difference in the irradiation area shapes determined by the image processing means becomes zero.
(3)請求項2記載の電子銃加熱型蒸気発生装置におい
て、前記照射領域形状設定手段は静電レンズであること
を特徴とする電子銃加熱型蒸気発生装置。
(3) The electron gun heated steam generator according to claim 2, wherein the irradiation area shape setting means is an electrostatic lens.
(4)電子銃から電子ビームを出力し、この電子ビーム
の照射位置を照射位置設定手段で定めることにより前記
電子ビームを蒸発物に照射して蒸気を発生させる電子銃
加熱型蒸気発生装置において、前記蒸発物における前記
電子ビームの照射領域を見込む位置に配設される少なく
とも2個の検出素子と各検出素子の観測領域を規定する
スリット部材を備え、前記各検出素子の観測領域は、電
子ビームを制御する方向において目標とする電子ビーム
照射位置を中心に対称位置に設定されるX線検出手段と
、前記X線検出手段の各検出素子の検出信号を入力して
検出信号の強度から電子ビームの照射位置変動の情報を
求める差動増幅手段と、前記照射位置変動の情報に基づ
き、前記差動増幅手段で求められる照射位置変動が0に
なるように前記照射位置設定手段を操作する電子ビーム
照射位置制御手段を備えることを特徴とする電子銃加熱
型蒸気発生装置。
(4) An electron gun-heated steam generator that outputs an electron beam from an electron gun and determines the irradiation position of the electron beam with an irradiation position setting means to irradiate the evaporated material with the electron beam to generate steam, At least two detection elements disposed at positions looking into the irradiation area of the electron beam on the evaporated material, and a slit member defining an observation area of each detection element, wherein the observation area of each detection element is An X-ray detection means is set at a symmetrical position with respect to the target electron beam irradiation position in the direction to control the electron beam. differential amplification means for obtaining information on irradiation position fluctuations; and an electron beam for operating the irradiation position setting means so that the irradiation position fluctuations determined by the differential amplification means become zero based on the information on the irradiation position fluctuations. An electron gun heated steam generator characterized by comprising irradiation position control means.
(5)請求項1、2、4のいずれか1項に記載の電子銃
加熱型蒸気発生装置において、前記検出手段で検出され
るX線は制動X線であることを特徴とする電子銃加熱型
蒸気発生装置。
(5) In the electron gun heated steam generator according to any one of claims 1, 2, and 4, the X-rays detected by the detection means are braking X-rays. type steam generator.
(6)請求項1又は2記載の電子銃加熱型蒸気発生装置
において、前記蒸発物から放射されるX線の代りに、電
子ビーム軌道で電子ビームによる励起で前記蒸気が放射
するX線の空間的放射強度分布を測定し、測定された前
記放射強度分布から電子ビーム軌道の情報を求め、前記
画像処理手段と前記電子ビーム照射位置制御手段と前記
照射位置設定手段とによって電子ビームの軌道を制御す
ることを特徴とする電子銃加熱型蒸気発生装置。
(6) In the electron gun-heated steam generator according to claim 1 or 2, instead of the X-rays emitted from the evaporated material, a space where the steam emits X-rays when excited by the electron beam in the electron beam orbit. measuring the target radiation intensity distribution, obtaining information on the electron beam trajectory from the measured radiation intensity distribution, and controlling the electron beam trajectory by the image processing means, the electron beam irradiation position control means, and the irradiation position setting means. An electron gun heated steam generator characterized by:
(7)請求項1、2、4、6のいずれか1項に記載の電
子銃加熱型蒸気発生装置において、前記照射位置設定手
段は電子ビーム偏向装置であることを特徴とする電子銃
加熱型蒸気発生装置。
(7) The electron gun heated steam generator according to any one of claims 1, 2, 4, and 6, wherein the irradiation position setting means is an electron beam deflection device. Steam generator.
(8)請求項1、2、4、6のいずれか1項に記載の電
子銃加熱型蒸気発生装置において、前記照射位置設定手
段は電子ビーム加速装置であることを特徴とする電子銃
加熱型蒸気発生装置。
(8) The electron gun heated steam generator according to any one of claims 1, 2, 4, and 6, wherein the irradiation position setting means is an electron beam accelerator. Steam generator.
(9)請求項1〜8のいずれか1項に記載の電子銃加熱
型蒸気発生装置において、前記X線を検出する検出手段
の代りに光を検出する検出手段を用いることを特徴とす
る電子銃加熱型蒸気発生装置。
(9) The electron gun heated steam generator according to any one of claims 1 to 8, characterized in that a detection means for detecting light is used in place of the detection means for detecting the X-rays. Gun-heated steam generator.
JP2085178A 1990-03-30 1990-03-30 Electron gun heating type steam generator Expired - Fee Related JPH0795435B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2085178A JPH0795435B2 (en) 1990-03-30 1990-03-30 Electron gun heating type steam generator

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2085178A JPH0795435B2 (en) 1990-03-30 1990-03-30 Electron gun heating type steam generator

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03283338A true JPH03283338A (en) 1991-12-13
JPH0795435B2 JPH0795435B2 (en) 1995-10-11

Family

ID=13851409

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2085178A Expired - Fee Related JPH0795435B2 (en) 1990-03-30 1990-03-30 Electron gun heating type steam generator

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0795435B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011196783A (en) * 2010-03-18 2011-10-06 Ulvac Japan Ltd Electron beam irradiation device, method for detecting region irradiated with electron beam and electron beam irradiation method
WO2012118129A1 (en) * 2011-03-01 2012-09-07 株式会社アルバック Vacuum processing device and vacuum processing method
JP2012207310A (en) * 2012-07-13 2012-10-25 Ulvac Japan Ltd Vapor deposition method of metal oxide film, and method for manufacturing plasma display panel

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011196783A (en) * 2010-03-18 2011-10-06 Ulvac Japan Ltd Electron beam irradiation device, method for detecting region irradiated with electron beam and electron beam irradiation method
WO2012118129A1 (en) * 2011-03-01 2012-09-07 株式会社アルバック Vacuum processing device and vacuum processing method
CN103392027A (en) * 2011-03-01 2013-11-13 株式会社爱发科 Vacuum processing device and vacuum processing method
JP2012207310A (en) * 2012-07-13 2012-10-25 Ulvac Japan Ltd Vapor deposition method of metal oxide film, and method for manufacturing plasma display panel

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0795435B2 (en) 1995-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10784069B2 (en) Structured x-ray target
US10410828B2 (en) Charged particle beam system and methods
US10919105B2 (en) Three-dimensional laminating and shaping apparatus and laminating and shaping method
US7001071B2 (en) Method and device for setting the focal spot position of an X-ray tube by regulation
US4827494A (en) X-ray apparatus
JPS61153580A (en) Device for detecting incident position of charged particle beam on target
US8693008B2 (en) Method for operating a laser scanner and processing system with laser scanner
US6025593A (en) Scanning electron microscope
JPH03283338A (en) Electron gun heated type steam generator
WO2020008492A1 (en) Scanning electron microscope
JPH0122705B2 (en)
US20130071791A1 (en) Charged particle beam irradiation apparatus, charged particle beam drawing apparatus, and method of manufacturing article
US8546775B2 (en) Method and arrangement for the stabilization of the source location of the generation of extreme ultraviolet (EUV) radiation based on a discharge plasma
US20080135786A1 (en) Adjustable aperture element for particle beam device, method of operating and manufacturing thereof
US11350512B2 (en) Method for controlling an x-ray source
TWI820158B (en) X-ray source for emitting x-ray radiation and method for generating x-ray radiation
JP5430703B2 (en) Drawing apparatus and article manufacturing method
JPH10140336A (en) Vacuum device
JPH0765989A (en) Method and device for adjusting x-ray dimension in x-ray generating device
JPH06201836A (en) Ion-beam detection apparatus
JPS6231480B2 (en)
JPH10289860A (en) Method for adjusting beam of projection optical system and projection optical system
JPH07192673A (en) Scanning type electron beam irradiation device
JPH10242031A (en) Charged beam lithography system

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees