JPH03282251A - 電子衝撃型イオン源 - Google Patents

電子衝撃型イオン源

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JPH03282251A
JPH03282251A JP2083168A JP8316890A JPH03282251A JP H03282251 A JPH03282251 A JP H03282251A JP 2083168 A JP2083168 A JP 2083168A JP 8316890 A JP8316890 A JP 8316890A JP H03282251 A JPH03282251 A JP H03282251A
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JP
Japan
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ion source
ion
gas
ions
box
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JP2083168A
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English (en)
Inventor
Gohei Toyoda
豊田 剛平
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Shimadzu Corp
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Shimadzu Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、主としてガスクロマトクラフィー質量分析計
に装備される電子衝撃型イオノ源に関する。
(ロ)従来の技術 ガスクロマトグラフィー質量分析計においては、ガスク
ロマトグラフで成分分離された試料の成分ガスがイオン
化された後、質量分析部に導入される。この成分ガスの
イオン化には、電子衝撃法(El)によるイオン源、も
しくは化学イオン化法(CI)によるイオン源か用いら
れる。
このうち、Elによる電子衝撃型イオン源は、試料ガス
を熱電子により直接的に衝撃してイオン化するものであ
って、第3図の構成図に示すように、イオン源ホックス
01.フィラメント02およびトラップ電極03等から
なる。
イオン源ホックス01は、真空室04内に設置されてお
り、試料ガスの導入口05と、イオン出射孔06と、電
子入射孔07と、トラップ孔o8とを有する。
フィラメント02は、イオン源ボックスo1の外側で電
子入射孔07の近傍に配置され、トラップ電極o3はト
ラップ孔08の外側に配置される。
そして、フィラメント02に点灯用の電力が供給される
とともに、トラップ電極03との間に加速電圧が印加さ
れる。この加速電圧は、通常、70e■もしくは20e
Vに設定される。
この状態で、ガス導入口05を通じてイオン源ボっクス
01の内部に試料ガスが導入されると、このガスの分子
は、フィラメント02から放射される熱電子に衝撃され
てイオン化し、出射孔06からイオン源ボックス01の
外部に出射され、レンズ系09によりイオンビームに集
束されて後段の質量分析部に供給される。
(ハ)発明が解決しようとする課題 ところで、電子衝撃型イオン源では、フラグメンテーシ
ョン(分子開裂)が起こりやすく、この傾向は加速電圧
が高いほど大きい。
加速電圧が70eV程度の高電圧である場合、フラグメ
ンテーションの傾向が大で、多量のフィラメントイオン
が発生し、分子イオンは少ない。
したがって、後段の質量分析部で検出されるマススペク
トルには、フラグメントイオンピークが明確に現れ、こ
のフラグメントイオンピークから構造解析情報が得られ
る。
一方、加速電圧が20eV程度の低電圧である場合は、
分子イオンの発生量が多く、フラグメントイオンの発生
は少ない。したがって、後段の質量分析部で検出される
マススペクトルでは、分子イオンピークが明確に現れ、
この分子イオンピークから分子情報が得られる。
この点に関して、従来の電子衝撃型イオン源では、フィ
ラメント02の加速電圧を70eV、もしくは20eV
のいずれか一方の値に設定していた。
そのため、このイオン源で生成されるのは、フラグメン
トイオンを多量に含むイオンビームが、分子イオンを多
量に含むイオンビームのいずれか一方であって、後段の
質量分析部では、フラグメントイオンピークによる構造
解析情報が、あるいは分子イオンピークによる分子情報
のいずれか一方の情報しか得ることができなかった。
これに対しては、単一のフィラメントに印加する加速電
圧を高低2段に切り換えたり、あるいは、単一のイオン
源ボックスに2つのフィラメントを設け、一方のフィラ
メントには高い加速電圧を、他方のフィラメントには低
い加速電圧を印加することが考えられている。
しかしながら、フィラメントへの印加電圧を切り換える
ようにした場合は、高加速電圧によるイオン化作用と低
加速電圧によるイオン化作用との間に時間的なずれが生
しるので、同一の試料ガスについて同時的にフラグメン
トイオンピークと分子イオンピークとが得られず、ガス
クロマトグラフィー質量分析計におけるイオン源として
は好ましくない。
というのは、ガスクロマトグラフで成分分離された成分
ガスが導入されるタイミングは、各成分毎に所定の時間
内に限定されているからで、このような成分ガスを後段
の質量分析部で質量分析するには、所定の導入時間内に
イオン化する必要がある。この段階で、高低両加速電圧
によるイオン化作用の間に時間的なずれがあると、高低
いずれかの加速電圧のイオン化作用の結果のみか顕著と
なり、結局、フラグメントイオンもしくは分子イオンの
いずれか一方を多量に含むイオンビームしか得られない
また、同一のイオン源ボックス内で高加速電圧と低加速
電圧とを同時に作用させると、高加速電圧によるイオン
化か支配的となり、低加速電圧により生成された分子イ
オンも分解されることになり、分子イオンの発生量か少
なくなる。
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされfこものであっ
て、同一の試料ガスに対して別個のボックス内で高加速
電圧によるイオン化と、低加速電圧によるイオノ比表を
同時的に行わせることて、フラグメントイオンも分子イ
オンも共に多量に含むイオンビームが生成されるように
して、質量分析部で同一の試料ガスについて構造解析情
報と分子情報とか一挙に得られるようにすることを課題
とする。
(ニ)課題を解決するための手段 本発明は、上記の課題を達成するために、第1イオン源
ボックスと、第2イオン源ボックスとからなるイオン源
であって、各イオン源ボックスはそれぞれ、フィラメン
トと、ガス導入路と、イオン出射孔とを備え、第1イオ
ン源ボックスのフィラメントには、所定高電圧の加速電
圧が、また第2イオン源ボックスのフィラメントには、
所定低電圧の加速電圧が、それぞれ印加され、両イオン
源ボックスのガス導入路は、単一のガス供給路から分岐
したものであり、両イオン源ボックスのイオン出射孔は
、その出射イオンが1本のイオンビームを形成するよう
、互いに近接した位置に開口している電子衝撃型イオン
源を構成した。
(ホ)作用 上記の構成において、同一の試料ガスは、ガス供給路か
ら2本のガス導入路に分流して第1イオン源ボックスと
、第2イオン源ボックスとに導入される。第1イオン源
ボックスでは、高加速電圧によるイオン化が行われ、試
料ガスの分子の多くは開裂を起こし、多量のフラグメン
トイオンを発生する。
一方、第2イオン源ボックスでは、低加速電圧の作用に
より、分子イオンが多量に発生する。
第1イオン源ボックスで発生したイオンと、第2イオン
源ボックスで発生したイオンとは、互いに近接した位置
にある出射孔から出射されて、1本のイオンビームとな
って、後段の装置である質量分析部に供給される。この
イオンビームには、フラグメントイオンも分子イオンも
共に多量に含まれているから、質量分析部で検出される
マススペクトルには、フラグメントイオンピークも分子
イオンピークも明確に現れ、これらのピークから構造解
析情報と分子情報とが得られる。
(へ)実施例 以下、本発明を図面示す実施例に基づいて詳細に説明す
る。
第1図は本発明の一実施例に係る電子衝撃型イオン源の
要部の斜視図、第2図は全体の構成図である。
第1図に示すように、この実施例の電子衝撃型イオン源
は、第1イオン源ボックス1と、第2イオン源ボックス
2とを備える。両イオン源ホックス1.2は、仕切り壁
3を共有する形で並列一体止しており、真空室4内に設
置されている。
各イオン源ホックス1.2はそれぞれ、フィラメント5
.6と、電子入射孔7,8と、ガス導入管9.10と、
イオン出射孔11.12とを備えるほが、第2図に示す
ように、トラップ孔13.14と、トラップ電極1j、
!6とを備えている。
各フィラメント5.6は、それぞれ電子入射孔7.8の
外側に配設され、トラップ孔1314の外側に設けられ
たトラップ電極15.16と上下に対向している。
これらのフィラメント5.6には、第2図に示すように
、それぞれ点灯用電源17.18が接続されるとともに
、対応するトラップ電極15 16との間にそれぞれ加
速電圧電源19.20か接続されでいる。そして、第1
イオン源ボックス1の側では、対応する加速電圧電源I
9により、フィラメント5に70eV程度の高加速電圧
が印加され、第2イオン源ボックス2の側では、対応す
る加速電圧電源20により、フィラメント6に2゜eV
程度の低加速電圧か印加される。
両ガス導入管9.lOは、単一のガス供給管21から分
岐し、それぞれ開閉バルブ2223を介して、各イオン
源ボックス1.2の外側壁から内部に連通している。ガ
ス供給管21は、ガスクロマトグラフで成分分離された
ガスを導入するもので、中途部に、キャリアガスを分離
するためのジェットセパレータ24か介装されている。
両イオン源ホックス1.2のイオン出射孔1112は、
互いに近接した位置(実施例では、仕切り壁3を介して
隣合う位置)に開口しており、番孔11.12からの出
射イオンが、前方に配置されたイオンサンプリングコー
ンおよびレンズ系(いずれも図示省略)で1本のイオン
ビームに集束されるようになっている。
上記の構成において、ガスクロマトグラフで成分分離さ
れた成分ガスは、ガス供給管21によりイオン源側に導
入され、ジェットセパレータ24てキャリアガスが除去
された後、2本のガス導入管9.IOに分流し、第1イ
オン源ボックスlと第2イオン源ボックス2と同時に供
給される。
第1イオン源ボックスlでは、フィラメント5とトラッ
プ電極I5との間に70eV程度の高加速電圧が印加さ
れているから、高速に加速され几熱電子が導入ガスの分
子を衝撃することになり、ガス分子の多くが開裂を起こ
し、多量のフラグメントイオンを発生する。
一方、第2イオン源ボックス2では、フィラメント6と
トラップ電極16との間に20eV程度の低加速電圧が
印加されているから、低速の熱電子が導入ガスの分子を
衝撃することになり、多量の分子イオンを発生し、フラ
グメントイオンは余り発生しない。
第1イオン源ボックスlで発生したイオンと、第2イオ
ン源ボックス2で発生したイオンとは、互いに近接した
位置にある出射孔11.12から出射し、前方のイオン
サンプリングコーンおよびレンズ系で1本のイオンビー
ムに集束され、質量分析部に供給される。
質量分析部に供給されるイオンビームには、フラグメン
トイオンも分子イオンも共に多量に含まれているから、
この質量分析部で検出されるマススペクトルには、フラ
グメントイオンビークも分子イオンピークも明確に現れ
る。したがって、これらのピークから、同一の成分ガス
についての構造解析情報と分子情報とが得られる。
なお、ガス導入管9.IOの一方の開閉バルブ22(2
3)を閉じて、一方のイオン源ホックス2(1)にのみ
試料ガスを供給することで、高低いずれか一方の加速電
圧のみが作用するイオン源として使用しうる。
(ト)発明の効果 以上性へたように、本発明によれば、同一の試料ガスが
2つのボックスに導入され、各ボックスおいてそれぞれ
高低具なる加速電圧の作用によりイオン化された後、1
本のイオンビームに集束されるから、フラグメントイオ
ンも分子イオンも共に多量に含むイオンビームが得られ
、このイオンビームが供給される質量分析部では、フラ
グメントイオンピークも分子イオンピークも明確に現れ
るマススペクトルが検出されることになり、これらのピ
ークから、同一の成分ガスについての構造解析情報と分
子情報とが一挙に得られる。
特に、試料ガスは別個のボックスにおいて同時的に高加
速電圧によるイオン化作用と低加速電圧によるイオン化
作用とを受けるから、フィラメントへの印加電圧を切り
換えるもののように、高低両加速電圧のイオン化作用の
間に時間的なずれかなく、試料ガスの導入タイミングが
限定されるガスクロマトグラフィー質量分析計のイオン
源として好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係る電子衝撃型イオン源の
要部の斜視図、第2図は全体の構成図である。 第3図は従来例の構成図である。 ■・・第1イオン源ボックス、2・・・第2イオン源ボ
ックス、5,6・・フィラメント、9.10・・・ガス
導入管、11.12・・・イオン出射孔、21・・ガス
供給管。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)第1イオン源ボックスと、第2イオン源ボックス
    とからなるイオン源であつて、 各イオン源ボックスはそれぞれ、フィラメントと、ガス
    導入路と、イオン出射孔とを備え、第1イオン源ボック
    スのフィラメントには、所定高電圧の加速電圧が、また
    第2イオン源ボックスのフィラメントには、所定低電圧
    の加速電圧が、それぞれ印加され、 両イオン源ボックスのガス導入路は、単一のガス供給路
    から分岐したものであり、 両イオン源ボックスのイオン出射孔は、その出射イオン
    が1本のイオンビームを形成するよう、互いに近接した
    位置に開口している、 ことを特徴とする電子衝撃型イオン源。
JP2083168A 1990-03-29 1990-03-29 電子衝撃型イオン源 Pending JPH03282251A (ja)

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JP2083168A JPH03282251A (ja) 1990-03-29 1990-03-29 電子衝撃型イオン源

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ID=13794742

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JP (1) JPH03282251A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001074695A (ja) * 1999-08-31 2001-03-23 Hitachi Ltd 質量分析装置
CN105344648A (zh) * 2015-12-16 2016-02-24 上海华虹宏力半导体制造有限公司 用于清洗质谱仪中截取锥的装置
JP2020535622A (ja) * 2017-09-29 2020-12-03 パーキンエルマー・ヘルス・サイエンシーズ・カナダ・インコーポレイテッドPerkinelmer Health Sciences Canada, Inc. 軸外イオン化デバイスおよびシステム

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