CN105344648A - 用于清洗质谱仪中截取锥的装置 - Google Patents

Abstract

一种用于清洗质谱仪中截取锥的装置，截取锥包括底座和固定在所述底座的上表面的锥头，所述装置包括：本体；设置在所述本体的表面上的至少一个清洗槽，所述清洗槽用于盛放清洗液，并至少能容纳所述截取锥的锥头，且所述锥头伸入所述清洗槽内时，所述底座的上表面能与本体接触以使所述本体将底座支撑住。利用本发明所提供的用于清洗质谱仪中截取锥的装置可以实现在对截取锥的锥头进行清洗的同时，不让螺纹接口受清洗液的腐蚀，整个截取锥不会报废，延长了截取锥的使用寿命。另外，在清洗过程中，当本体将底座支撑住时，人手即可以释放截取锥，使得清洗操作非常方便。

Description

用于清洗质谱仪中截取锥的装置

技术领域

本发明涉及仪器的清洗技术领域，特别是涉及一种用于清洗质谱仪中截取锥的装置。

背景技术

电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)技术是20世纪70年代迅速发展起来的分析测试技术，其原理是利用电感耦合等离子体将分析样品中所含的元素离子化为带电离子，通过将带电离子引入质量分析器中，按不同质荷比分开，经检测器将离子电流放大后，由测控系统处理给出分析结果。与其它分析技术相比，电感耦合等离子体质谱技术已发展成本领域的一种常规分析测试技术。

采用电感耦合等离子体质谱技术的电感耦合等离子体质谱仪包括截取锥和离子透镜。其中，如图1所示，截取锥1包括底座3、固定在底座3的上表面的锥头2以及固定在底座3的下表面的螺纹接口4，所述上、下表面背对设置。螺纹接口4的外壁5设有螺纹(未图示)，螺纹接口4用于与离子透镜螺纹配合，锥头2设有锥孔6。样品经离子化所产生的离子通过截取锥1的锥孔6后在离子透镜的电场作用下聚焦成离子束并进入离子分离系统。

使用一段时间之后，截取锥1的锥头2因暴露在等离子体环境中因而表面会形成一层沉积物，需对锥头2定期进行清洗以去除该沉积物。现有清洗锥头2的方法是：如图2所示，在一容器7中倒入清洗液(未标识，图中用虚线所示)，将整个截取锥1浸泡在清洗液中，该清洗液一般为酸液。

然而，在上述清洗过程中，截取锥1的螺纹接口4也会浸泡在清洗液中，清洗液会腐蚀螺纹接口4，造成螺纹接口4无法继续与离子透镜配合使用，进而导致整个截取锥1报废。

发明内容

本发明要解决的问题是：现有电感耦合等离子体质谱仪中截取锥的锥头的清洗方法会腐蚀截取锥的螺纹接口，导致整个截取锥报废。

为解决上述问题，本发明提供了一种用于清洗质谱仪中截取锥的装置，所述截取锥包括底座和固定在所述底座的上表面的锥头，所述装置包括：

本体；

设置在所述本体的表面上的至少一个清洗槽，所述清洗槽用于盛放清洗液，并至少能容纳所述截取锥的锥头，且所述锥头伸入所述清洗槽内时，所述底座的上表面能与本体接触以使所述本体将底座支撑住。

可选地，所述清洗槽的开口大小设置为：所述锥头伸入所述清洗槽内时，所述清洗槽的开口所在的表面将所述底座的上表面支撑住。

可选地，所述清洗槽包括沿深度方向依次设置并连通的第一、二段槽，所述清洗槽的开口设置在所述第一段槽上；

所述第一段槽能容纳所述截取锥的底座，所述第二段槽能容纳所述截取锥的锥头，所述第一段槽的开口口径大于所述第二段槽的开口口径，且第二段槽的开口大小设置为：所述锥头伸入所述第二段槽内时，所述第二段槽的开口所在的表面将所述底座的上表面支撑住

可选地，还包括：设置在所述本体的表面上的导液槽，所述导液槽的开口与清洗槽的开口位于同一表面上，所述导液槽与所述清洗槽连通；

所述导液槽具有入液口和出液口，所述清洗槽内的清洗液适于自所述入液口流向所述导液槽内，最后从所述出液口倒出，所述出液口贯穿所述本体。

可选地，自所述入液口指向所述出液口的方向上，所述导液槽的深度逐渐减小。

可选地，还包括：设置在所述本体的侧面上的手持部，所述手持部供人手持拿所述本体。

可选地，所述手持部为两个背对设置的凹槽。

可选地，所述本体的材质为PFA。

可选地，所述清洗槽的大小适于同时容纳至少两个所述锥头。

可选地，所述质谱仪为电感耦合等离子体质谱仪。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

在清洗截取锥的锥头时，向清洗槽内倒入所需量的清洗液，然后，手动将锥头伸入清洗槽内，当锥头伸入至底座的上表面与本体接触时，本体将底座支撑住。通过控制清洗槽内清洗液的量，能够实现截取锥中仅有锥头浸泡在清洗液中，而截取锥的螺纹接口未浸泡在清洗液中。浸泡一段时间之后，即可以将锥头清洗干净。这样一来，利用本发明所提供的用于清洗质谱仪中截取锥的装置可以实现在对截取锥的锥头进行清洗的同时，不让螺纹接口受清洗液的腐蚀，整个截取锥不会报废，延长了截取锥的使用寿命。另外，在清洗过程中，当本体将底座支撑住时，人手即可以释放截取锥，使得清洗操作非常方便。

附图说明

图1是现有电感耦合等离子体质谱仪中截取锥的剖面图；

图2是图1所示截取锥的清洗方法示意图；

图3是本发明的第一实施例中用于清洗质谱仪中截取锥的装置的立体图；

图4是图3所示装置沿AA方向的剖面图；

图5是本发明的第二实施例中用于清洗质谱仪中截取锥的装置的立体图；

图6是图5所示装置沿BB方向的剖面图。

具体实施方式

为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。

第一实施例

如图4所示，本实施例提供了一种用于清洗质谱仪中截取锥的装置，所述质谱仪为电感耦合等离子体质谱仪，在其它实施例中，所述质谱仪也可以为其它类型。无论所述质谱仪的类型如何，截取锥1均包括底座3、固定在底座3的上表面8的锥头2以及固定在底座3的下表面(未标识)的螺纹接口4，上表面8与所述下表面背对设置。螺纹接口4的外壁设有螺纹(未图示)，螺纹接口4用于与离子透镜螺纹配合，锥头2设有锥孔(未标识)。样品经离子化所产生的离子通过截取锥1的锥孔(未标识)后在离子透镜的电场作用下聚焦成离子束并进入离子分离系统。

结合图3至图4所示，所述用于清洗质谱仪中截取锥的装置包括本体10和设置在本体10的表面11上的清洗槽12，清洗槽12用于盛放清洗液(未标识，图中用虚线所示)，并能容纳截取锥1的锥头2。在本实施例中，清洗槽12的开口大小设置为：锥头2伸入清洗槽12内时，清洗槽的开口13所在的表面11将底座3的上表面8支撑住。换言之，清洗槽12的开口大小需根据所需清洗的截取锥1中底座3的大小来设置。

在清洗截取锥1的锥头2时，向清洗槽12内倒入所需量的清洗液，然后，手动将锥头2伸入清洗槽12内，当锥头2伸入至底座3的上表面8与清洗槽的开口13所在的表面11接触时，本体10将底座3支撑住。通过控制清洗槽12内清洗液的量，能够实现截取锥1中仅有锥头2浸泡在清洗液中，而截取锥1的底座3和螺纹接口4未浸泡在清洗液中。浸泡一段时间之后，即可以将锥头2清洗干净。这样一来，利用本发明所提供的用于清洗质谱仪中截取锥的装置可以实现在对截取锥1的锥头2进行清洗的同时，不让螺纹接口4受清洗液的腐蚀，整个截取锥1不会报废，延长了截取锥1的使用寿命。另外，在清洗过程中，由于本体10能够将底座3支撑住，故人手可以释放截取锥1，使得清洗操作非常方便。

在本实施例中，清洗槽12的大小适于同时容纳至少两个锥头2，这样一来，可以同时对多个截取锥1进行清洗，节省了清洗总时间。

在本实施例中，清洗槽12的数量为一个。在本实施例的变换例中，清洗槽12的数量也可以为至少两个，这样一来，可以同时对更多的截取锥1进行清洗。

在本实施例中，本体10大体呈长方体状。但需说明的是，在本发明的技术方案中，本体10可以设置为任意形状(如圆形、椭圆形等)，并不应受所给实施例的限制。

在本实施例中，清洗槽12为矩形。但需说明的是，在本发明的技术方案中，清洗槽12可以设置为任意形状，并不应受所给实施例的限制。

如图3所示，在本实施例中，本体10的表面11上设有导液槽14，导液槽14的开口21与清洗槽12的开口13位于同一表面11上，导液槽14与清洗槽12连通。导液槽14具有入液口23和出液口22，清洗槽12内的清洗液适于自入液口23流向导液槽14内，最后从出液口22倒出。导液槽14的出液口22贯穿本体10，使得出液口22位于本体10的边缘。在清洗完之后，将本体10倾斜，使得清洗槽12内的清洗液自导液槽14的入液口23流向导液槽14内，最后从导液槽14的出液口22流出。由此可见，通过设置导液槽14，使得清洗槽12内的清洗液可以沿特定的方向倾倒，防止了倾倒清洗液时清洗液四处流窜。

进一步地，在本实施例中，自导液槽14的入液口23指向导液槽14的出液口22的方向C上，导液槽14的深度逐渐减小。这样一来，在清洗截取锥时，当清洗槽12内清洗液的液面较高时，可以防止清洗液自导液槽14的出液口22溢出。

继续结合图3至图4所示，在本实施例中，本体10的侧面16上设有手持部15，手持部15供人手持拿本体10，以方便所述装置的搬运和倾倒清洗液。在本实施例中，手持部15为两个背对设置的凹槽，所述凹槽为矩形，且所述凹槽在清洗槽12深度方向的一端贯穿本体10，所述凹槽在方向D上的一端贯穿本体10，方向D垂直于所述深度方向以及方向C。

在本实施例的变换例中，也可以是所述凹槽在方向D上的两端均贯穿本体10，或者，也可以是所述凹槽在方向D上的两端均未贯穿本体10，或者，也可以是所述凹槽在所述深度方向上的两端均未贯穿本体10。需说明的是，所述凹槽的形状可以设置为任意形状，如圆形、椭圆形等等。

在其他实施例中，手持部15也可以设置为其它形式，如把手等。

清洗槽12内盛放的所述清洗液一般为酸液(如氢氟酸)，为了延长所述装置的使用寿命，要求本体10耐所述清洗液的腐蚀。在本实施例中，本体10的材质为PFA(Polyfluoroalkoxy，可溶性聚四氟乙烯)，其具有卓越的耐化学腐蚀性能，尤其是能够耐各种酸液的腐蚀。

在本实施例的变换例中，本体10也可以利用其它材料制成，此时可以通过在清洗槽12的侧壁和底壁上涂覆一层PFA，以达到同样的目的。需说明的是，在本发明的技术方案中，本体10的材质并不应受所给实施例的限制，其材质可以根据所采用的所述清洗液的种类而做调整。

第二实施例

第二实施例与第一实施例之间的区别在于：在第二实施例中，结合图5至图6所示，清洗槽12包括沿深度方向依次设置并连通的第一段槽17和第二段槽18，清洗槽的开口13设置在第一段槽17上；第一段槽17能容纳截取锥1的底座3，第二段槽18能容纳截取锥1的锥头2，第一段槽17的开口口径大于第二段槽18的开口口径，且第二段槽18的开口大小设置为：锥头2伸入第二段槽18内时，第二段槽18的开口19所在的表面20将底座3的上表面8支撑住。换言之，第二段槽18的开口大小设置需根据所需清洗的截取锥1中底座3的大小来设置。

在清洗截取锥1的锥头2时，向清洗槽12内倒入清洗液，然后，手动将锥头2伸入清洗槽12内，当锥头2伸入至底座3的上表面8与第二段槽18的开口19所在的表面20接触时，本体10将底座3支撑住。通过控制清洗槽12内清洗液的量，能够实现截取锥1中仅有锥头2浸泡在清洗液中，而截取锥1的底座3和螺纹接口4未浸泡在清洗液中。浸泡一段时间之后，即可以将锥头2清洗干净。这样一来，利用本发明所提供的用于清洗质谱仪中截取锥的装置可以实现在对截取锥1的锥头2进行清洗的同时，不让螺纹接口4受清洗液的腐蚀，整个截取锥1不会报废，延长了截取锥1的使用寿命。另外，在清洗过程中，当本体10将底座3支撑住时，人手即可以释放截取锥1，使得清洗操作非常方便。

当然，在本实施例中，通过控制清洗槽12内清洗液的量，也能够实现在锥头2伸入第二段槽18内，且底座3的上表面8与第二段槽18的开口19所在的表面20接触时，清洗液的液面稍高于表面20，使得底座3的上表面8也浸泡清洗液中进而得到清洗。

需说明的是，在本发明的技术方案中，清洗槽的形状并不应局限于所给实施例，只要使得锥头伸入清洗槽内时，底座的上表面能与本体接触以使底座被本体支撑住即可。

本发明中，各实施例采用递进式写法，重点描述与前述实施例的不同之处，各实施例中的相同部分可以参照前述实施例。

虽然本发明披露如上，但本发明并非限定于此。任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与修改，因此本发明的保护范围应当以权利要求所限定的范围为准。

Claims (10)

1.一种用于清洗质谱仪中截取锥的装置，所述截取锥包括底座和固定在所述底座的上表面的锥头，其特征在于，所述装置包括：

本体；

设置在所述本体的表面上的至少一个清洗槽，所述清洗槽用于盛放清洗液，并至少能容纳所述截取锥的锥头，且所述锥头伸入所述清洗槽内时，所述底座的上表面能与本体接触以使所述本体将底座支撑住。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述清洗槽的开口大小设置为：所述锥头伸入所述清洗槽内时，所述清洗槽的开口所在的表面将所述底座的上表面支撑住。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述清洗槽包括沿深度方向依次设置并连通的第一、二段槽，所述清洗槽的开口设置在所述第一段槽上；

所述第一段槽能容纳所述截取锥的底座，所述第二段槽能容纳所述截取锥的锥头，所述第一段槽的开口口径大于所述第二段槽的开口口径，且第二段槽的开口大小设置为：所述锥头伸入所述第二段槽内时，所述第二段槽的开口所在的表面将所述底座的上表面支撑住。

4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：设置在所述本体的表面上的导液槽，所述导液槽的开口与清洗槽的开口位于同一表面上，所述导液槽与所述清洗槽连通；

所述导液槽具有入液口和出液口，所述清洗槽内的清洗液适于自所述入液口流向所述导液槽内，最后从所述出液口倒出，所述出液口贯穿所述本体。

5.如权利要求4所述的装置，其特征在于，自所述入液口指向所述出液口的方向上，所述导液槽的深度逐渐减小。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括：设置在所述本体的侧面上的手持部，所述手持部供人手持拿所述本体。

7.如权利要求6所述的装置，其特征在于，所述手持部为两个背对设置的凹槽。

8.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述本体的材质为PFA。

9.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述清洗槽的大小适于同时容纳至少两个所述锥头。

10.如权利要求1至9任一项所述的装置，其特征在于，所述质谱仪为电感耦合等离子体质谱仪。