JPH03281086A - レーザーマーカ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体素子製造に用いるウェハーにレーザー
を用いて印字するレーザーマーカに間する。

〔従来の技術〕

従来のレーザーマーカは、レーザー光を発生するレーザ
ー発生器と、レーザー光を試料上に走査する光走査装置
と、試料を載置する試料台とから成り、半導体素子製造
に用いるウェハーにレーザー光を空気中で照射して印字
していた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来のレーザーマーカは、半導体素子製造に用
いるウェハーにレーザー光を照射して印字をおこなうと
、レーザー光による加熱によりウェハーの一部が飛散し
てゴミとなってウェハーに付着してしまうことがある。

ウェハー上に付着したゴミは、ウェハー上に形成する半
導体素子あるいはすでに形成された半導体素子に対して
悪影響を及ぼしてしまうという欠点がある。

本発明の目的は、レーザーがウェハーに印字する時に発
生するゴミをウェハーに付着するのを防止することにあ
る。

〔課題を解決するための手段〕

本発明のレーザーマーカは、レーザーがウェハーに印字
する時に発生するゴミをウェハーに付着するのを防止さ
せる為に、ウェハーを層流中に配置する構成になってい
る。このため、レーザー光の加熱によりウェハーの一部
が飛散した際に、流水によりウェハー表面から運び去ら
れるので塵がウェハーに付着するのを防止できる。

〔実施例〕

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図は本発明の一実施例の概略図である。１はレーザ
ー発生器、２０は光走査装置で、反射鏡２と反射鏡制御
器３で構成されている。４はレーザー光、５は水、６は
整流器、７はウェハー、８はポンプ、９は流速制御器、
１０は流速計、１１は水溶器である。

ウェハー７にレーザー光４で印字するには、レーザー発
生器１でレーザー光４を発生させ反射鏡２を反射鏡制御
器３により動かしてレーザー光４のウェハー７に対する
照射方向を制御することにより印字文字をウェハー７上
に形成する。

印字されるウェハー７は、水５が入った水溶器１１の内
に入れられている。水５は、ポンプ８により水溶器１１
内を循環するが、流速計１０で水５の流速を測定して流
速制御器９に伝達し、流速制御器９はポンプ８を制御し
て水溶器１１内の水の流れを制御して流速を一定に保っ
ている。さらに、水溶器１１内の４ケ所に整流器６を配
置することによりウェハー７周辺における水５の流れの
方向がウェハーの表面と平行となる。ウェハー７の周辺
を流れる水５が流速一定でかつウェハー７と平行に流れ
ている（層流になっている）ので、レーザー光４が水５
を透過してウェハー７に照射された場合には屈折率は一
定となり水５が流れていることによるレーザー光４の照
射のみだれはない。水５を流速一定でかつウェハー７と
平行に流した場合、レーザー光４がウェハー７に照射さ
れたときにレーザー光４による加熱でウェハー７の一部
がゴミとなってウェハー７から飛散しても流速一定かつ
ウェハー７と平行に流れている水５によりウェハー７に
付着することなく流されてしまう。

なお、実施例では水は循環する構成にしたが、循環させ
ないで一方向のみに流して使い捨てにしてもよい。

〔発明の効果〕

以上説明したように本発明は、層流を成す流水中に設置
したウェハーにレーザー光で印字するので、レーザー光
の加熱によって飛散したウェハーの一部がゴミとなって
ウェハーに付着することなく、水により流しさられて、
ウェハーにゴミが付着しないという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の概略図である。 ｌ・・・レーザー発生器、２・・・反射鏡、３・・・反
射鏡制御器、４・・・レーザー光、５・・・水、６・・
・整流器、７・・・ウェハー、８・・・ポンプ、９・・
・流速制御器、１０・・・流速計。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　レーザー光を発生するレーザー発生器と、レーザー光
   を試料上に走査する光走査装置と、試料を載置する試料
   台とを備えているレーザーマーカにおいて、層流を成す
   流水中に前記試料台を配置したことを特徴とするレーザ
   ーマーカ。