JPH03280298A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH03280298A
JPH03280298A JP2079556A JP7955690A JPH03280298A JP H03280298 A JPH03280298 A JP H03280298A JP 2079556 A JP2079556 A JP 2079556A JP 7955690 A JP7955690 A JP 7955690A JP H03280298 A JPH03280298 A JP H03280298A
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Abstract

PURPOSE:To increase the capacity of a capacitor even if impressed voltage is small and to stably drive a sense amplifier by providing the semiconductor memory with a capacitor constituted of a MOS transistor (TR) itself. CONSTITUTION:When the sense amplifier 3 is not driven, charging switches 71, 72 are turned on and driving switches 81, 82 and restoring switches 91, 92 are turned off. Under this condition, the capacitor 3 is charged. Thereby, a word line is raised, data appear on bit lines 101, 102, the switches 81, 82 are turned on, and then the switches 71, 72, 91, 92 are turned off. Thus, the sense amplifier 3 is driven. Since a well area 50 in which the gate electrodes of a capacitor 4 are opposed to each other the inverse of a N type, an air lacking layer is not formed on the surface of the well area 50 and the capacity of the capacitor 4 can be held at a large stage.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は、相補型センスアンブリファイア(以下、「
アンプ」という)を有する半導体記憶装置に関し、より
詳しくは、相補型センスアンプを駆動したときに生じる
グランド電位及び電源電位の変〈従来の技術〉 多数個の相補型センスアンプを同時に駆動する半導体記
憶装置では、電源電位およびグランド電位が変動して周
囲にコモンモード雑音が発生することがある。このよう
なコモンモード雑音を低減するために、最近、本出願人
は第6図に示すようなセンスアンプ駆動系を有する半導
体記憶装置を提案した(特願昭63−332263号)
。この半導体記憶装置のセンスアンプ駆動系は、コンデ
ンサ34と、相補型センスアンプ33と、スイッチ31
と、スイッチ32を備えている。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a complementary sense amblifier (hereinafter referred to as "
Regarding a semiconductor memory device having a "amplifier"), more specifically, changes in ground potential and power supply potential that occur when a complementary sense amplifier is driven <Prior art> Semiconductor memory device that drives a large number of complementary sense amplifiers simultaneously In devices, common mode noise may occur in the surroundings due to fluctuations in the power supply potential and ground potential. In order to reduce such common mode noise, the present applicant has recently proposed a semiconductor memory device having a sense amplifier drive system as shown in FIG. 6 (Japanese Patent Application No. 332263/1982).
. The sense amplifier drive system of this semiconductor memory device includes a capacitor 34, a complementary sense amplifier 33, and a switch 31.
and a switch 32.

相補型センスアンプ33を動作させないときは、スイッ
チ31.32を制御して、プルアップトランジスタ駆動
線41.プルダウントランジスタ駆動線42をそれぞれ
非導通(オーブン)状態にする一方、電源と同電位の線
(以下「電源線」という。)21とコンデンサ34の第
一の端子35とを導通状態にするとともに、グランド線
と同電位の線(以下「グランド線」という。)22とコ
ンデンサ34の第二の端子36とを導通状態にして、上
記コンデンサ34を充電する。そして、相補型センスア
ンプ33を駆動するときは、スイッチ31.32を制御
して、上記電源線21とプルアップトランジスタ駆動線
41.グランド線22とプルダウントランジスタ駆動線
42をそれぞれ非導通状態にする一方、上記プルアップ
トランジスタ駆動線41とコンデンサ34の第一の端子
35.上記プルダウントランジスタ駆動線42とコンデ
ンサ34の第二の端子36をそれぞれ導通状態にして、
上記コンデンサ34の第一および第二の端子35゜36
間の電位差によって駆動する。このように、上記相補型
センスアンプ3と電源線11.グランド線12とをそれ
ぞれ電気的に分離した状態で駆動することによって、電
源線11およびグランド線12の電位変動を防止し、コ
モンモード雑音を低減するようにしている。
When the complementary sense amplifier 33 is not operated, the switches 31, 32 are controlled to switch the pull-up transistor drive lines 41, . While each of the pull-down transistor drive lines 42 is brought into a non-conductive (oven) state, the line 21 at the same potential as the power supply (hereinafter referred to as "power supply line") and the first terminal 35 of the capacitor 34 are brought into conduction; A line 22 having the same potential as the ground line (hereinafter referred to as "ground line") and the second terminal 36 of the capacitor 34 are brought into conduction to charge the capacitor 34. When driving the complementary sense amplifier 33, the switches 31 and 32 are controlled to connect the power supply line 21 and the pull-up transistor drive line 41. While the ground line 22 and the pull-down transistor drive line 42 are rendered non-conductive, the pull-up transistor drive line 41 and the first terminal 35 . The pull-down transistor drive line 42 and the second terminal 36 of the capacitor 34 are brought into conduction, respectively.
The first and second terminals 35°36 of the capacitor 34
It is driven by the potential difference between. In this way, the complementary sense amplifier 3 and the power supply line 11. By driving the ground line 12 while being electrically separated from each other, potential fluctuations in the power supply line 11 and the ground line 12 are prevented, and common mode noise is reduced.

上記コンデンサ34は、MOSトランジスタのゲート電
極(第1)とこの第1ゲート電極上に眉間絶縁膜を挟ん
で設けられる第2ゲート電極とで構成される。または第
5図に示すように、MOS)ランジスタ自体で構成され
る。このMOSトランジスタはP−型基板40上で、互
いに配線で接続されたN型のソース領域37.ドレイン
領域38とこの両領域37.38間の基板表面40aに
酸化膜43を介して対向するゲート電極39とで構成さ
れている。
The capacitor 34 is composed of a gate electrode (first) of a MOS transistor and a second gate electrode provided on the first gate electrode with an insulating film between the eyebrows interposed therebetween. Alternatively, as shown in FIG. 5, it is composed of a MOS transistor itself. This MOS transistor has N-type source regions 37 . It consists of a drain region 38 and a gate electrode 39 facing the substrate surface 40a between these regions 37, 38 with an oxide film 43 interposed therebetween.

〈発明が解決しようとする課題〉 ところで、上記センスアンプ駆動系のコンデンサ34は
、多数個の相補型センスアンプを同時に安定に駆動する
ために相当の容量が必要とされる。
<Problems to be Solved by the Invention> Incidentally, the capacitor 34 in the sense amplifier drive system requires a considerable capacity in order to stably drive a large number of complementary sense amplifiers at the same time.

このため、MOS)ランジスタの第1ゲート電極と第2
ゲート電極とで構成する場合、上記層間絶縁膜は厚く形
成されることから電極面積が膨大になるという問題があ
る。また、MOS)ランジスタ自体で構成する場合、ゲ
ート酸化膜は薄く形成されることから小面積で相当の容
量を形成できるけLども、容量がチャネル領域(第5図
に示した例では、P−型の基板表面40a)の表面状態
に依存することになる。すなわち、第一および第二の端
子35.36間の印加電圧がMOSl−ランジスタのし
きい値(通常0.7V)程度の値になるとチャネル領域
表面が空乏化して容量が極端に小さくなる。このため、
蓄積電荷量が極端に少なくなってセンスアンプを安定に
駆動できないという問題がある。
Therefore, the first gate electrode and the second gate electrode of the MOS transistor
When configured with a gate electrode, the interlayer insulating film is formed thickly, resulting in a problem that the electrode area becomes enormous. Furthermore, in the case of constructing the transistor itself (MOS), the gate oxide film is formed thinly, so a considerable capacitance can be formed in a small area. It will depend on the surface condition of the substrate surface 40a) of the mold. That is, when the voltage applied between the first and second terminals 35 and 36 reaches a value of about the threshold value (usually 0.7 V) of the MOS l-transistor, the surface of the channel region becomes depleted and the capacitance becomes extremely small. For this reason,
There is a problem in that the amount of accumulated charge becomes extremely small, making it impossible to drive the sense amplifier stably.

そこで、この発明の目的は、多数個の相補型センスアン
プを駆動するためにMOSトランジスタ自体で構成され
たコンデンサを備えて電源電位およびグランド電位の変
動を低減するようにした半導体記憶装置であって、印加
電圧が小さくてもコンデンサの容量を大きくすることが
でき、電荷量を多くすることができ、したがってセンス
アンプを安定に駆動できる半導体記憶装置を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor memory device which is equipped with a capacitor composed of MOS transistors to drive a large number of complementary sense amplifiers, thereby reducing fluctuations in power supply potential and ground potential. Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which the capacitance of a capacitor can be increased and the amount of charge can be increased even when an applied voltage is small, and a sense amplifier can therefore be driven stably.

〈課題を解決するための手段〉 上記目的を達成するために、この発明は、電源につなが
るプルアップトランジスタ駆動線とグランドにつながる
プルダウントランジスタ駆動線との間にコンデンサを接
続して、上記プルアップトランジスタ駆動線とプルダウ
ントランジスタ駆動線とによって相補型センス増幅器を
駆動するときに生じる電源電位およびグランド電位の変
動を低減するようにした半導体記憶装置において、上記
コンデンサは、N型ウェル領域の表面に形成され、互い
に配線でつながるN型のソース領域およびドレイン領域
と、上記ソース領域、ドレイン領域間のウェル領域表面
に絶縁膜を介して対向するゲート電極とからなることを
特徴としている。
<Means for Solving the Problems> In order to achieve the above object, the present invention connects a capacitor between a pull-up transistor drive line connected to a power supply and a pull-down transistor drive line connected to ground, and In a semiconductor memory device that reduces fluctuations in power supply potential and ground potential that occur when a complementary sense amplifier is driven by a transistor drive line and a pull-down transistor drive line, the capacitor is formed on the surface of an N-type well region. It is characterized by comprising an N-type source region and a drain region connected to each other by wiring, and a gate electrode facing the surface of the well region between the source region and the drain region with an insulating film interposed therebetween.

また、この発明は、電源につながるプルアップトランジ
スタ駆動線とグランドにつながるプルダウントランジス
タ駆動線との間にコンデンサを接続して、上記プルアッ
プトランジスタ駆動線とプルダウントランジスタ駆動線
とによって相補型センス増幅器を駆動するときに生じる
電源電位およびグランド電位の変動を低減するようにし
た半導体記憶装置において、上記コンデンサは、N型ウ
ェル領域の表面に形成され、互いに配線でつながり、か
つ上記ウェル領域と同電位となるように配線で接続され
たP型のソース領域およびドレイン領域と、上記ソース
領域、ドレイン領域間のウェル領域表面に絶縁膜を介し
て対向するゲート電極とからなることを特徴としている
Further, in the present invention, a capacitor is connected between a pull-up transistor drive line connected to a power supply and a pull-down transistor drive line connected to ground, and a complementary sense amplifier is constructed by the pull-up transistor drive line and the pull-down transistor drive line. In a semiconductor memory device designed to reduce fluctuations in power supply potential and ground potential that occur during driving, the capacitors are formed on the surface of an N-type well region, connected to each other by wiring, and at the same potential as the well region. It is characterized by consisting of a P-type source region and a drain region connected by wiring so that the gate electrode faces the surface of the well region between the source region and the drain region with an insulating film interposed therebetween.

く作用〉 上記コンデンサがN型ウェル領域の表面に形成され、互
いに配線でつながるN型のソース領域およびドレイン領
域と、上記ソース領域、ドレイン領域間のウェル領域表
面に絶縁膜を介して対向するゲート電極とからなる場合
、ゲート電極が対向するウェル領域はN型であるからウ
ェル領域表面に反転層を生じさせる電圧(以下「反転電
圧」という。)は負となる。したがって、上記ゲート電
極に印加される電圧が上記ソース領域、ドレイン領域お
よびウェル領域表面に対して零乃至正である場合、ウェ
ル領域表面に空乏層が形成されることはなく、従来に比
して上記コンデンサの容量は大きい状態に保たれる。す
なわち、印加電圧が大きいときだけでなく小さいときで
あっても容量が大きく保たれることになる。したがって
、蓄積電荷量が多くなって、多数個のセンスアンプが安
定に駆動される。
Function> The capacitor is formed on the surface of an N-type well region, and includes an N-type source region and a drain region connected to each other by wiring, and a gate facing the well region surface between the source region and the drain region with an insulating film interposed therebetween. Since the well region facing the gate electrode is of N type, the voltage that causes an inversion layer to form on the surface of the well region (hereinafter referred to as "inversion voltage") is negative. Therefore, when the voltage applied to the gate electrode is zero or positive with respect to the surfaces of the source region, drain region, and well region, a depletion layer is not formed on the surface of the well region, and compared to the conventional case, a depletion layer is not formed on the surface of the well region. The capacitance of the capacitor is kept large. In other words, the capacitance is kept large not only when the applied voltage is large but also when it is small. Therefore, the amount of accumulated charge increases, and a large number of sense amplifiers can be stably driven.

また、上記コンデンサがN型ウェル領域の表面に形成さ
れ、互いに配線でつながり、かつ上記ウェル領域と同電
位となるように配線で接続されたP型のソース領域およ
びドレイン領域と、上記ソース領域、ドレイン領域間の
ウェル領域表面に絶縁膜を介して対向するゲート電極と
からなる場合、上に述べた場合と同様に、ウェル領域表
面の反転電圧は負となる。このため、全く同様に、印加
電圧が大きいときだけでなく小さいときにも容量が大き
く保たれる。したがって、蓄積電荷量が多くなって、多
数個のセンスアンプが安定に駆動される。なお、このコ
ンデンサ4は、一般の相補型半導体装置におけるPチャ
ネルMOS)ランジスタと配線を除いて同一構成となっ
ている。したがって、わずかな設計変更を加えるだけで
簡単に作製される。
Further, the capacitor is formed on the surface of the N-type well region, and the source region and the drain region are connected to each other by wiring and are connected to each other by wiring so as to have the same potential as the well region, and the source region, When the well region surface between the drain regions is composed of a gate electrode facing the surface of the well region with an insulating film interposed therebetween, the inversion voltage on the well region surface becomes negative, as in the case described above. Therefore, in exactly the same way, the capacitance is kept large not only when the applied voltage is large but also when it is small. Therefore, the amount of accumulated charge increases, and a large number of sense amplifiers can be stably driven. Note that this capacitor 4 has the same configuration as a P-channel MOS (MOS) transistor in a general complementary semiconductor device except for wiring. Therefore, it can be easily manufactured with only slight design changes.

〈実施例〉 以下、この発明を実施例により詳細に説明する。<Example> Hereinafter, this invention will be explained in detail with reference to Examples.

第1図と第2図はそれぞれ一実施例のダイナミック型半
導体記憶装置の相補型センスアンプ駆動系のブロック構
成1ロ路構成を示している。このセンスアンプ駆動系は
、第1図に示すように第一の端子61および第二の端子
62を有するコンデンサ4と、プルアップトランジスタ
駆動線51およびプルダウントランジスタ駆動線52が
接続されたセンスアンプ3と、上記コンデンサ4の第一
の端子61と電源線11またはプルアップトランジスタ
駆動線5Iとを導通可能な第一のスイッチlと、上記コ
ンデンサ4の第二の端子62とグランド線12またはプ
ルダウントランジスタ駆動線52とを導通可能な第二の
スイッチ2を備えている。
FIGS. 1 and 2 each show a block configuration and a single-path configuration of a complementary sense amplifier drive system of a dynamic semiconductor memory device according to an embodiment. As shown in FIG. 1, this sense amplifier drive system includes a capacitor 4 having a first terminal 61 and a second terminal 62, and a sense amplifier 3 connected to a pull-up transistor drive line 51 and a pull-down transistor drive line 52. , a first switch l capable of electrically connecting the first terminal 61 of the capacitor 4 and the power line 11 or the pull-up transistor drive line 5I, and the second terminal 62 of the capacitor 4 and the ground line 12 or the pull-down transistor. A second switch 2 that can be electrically connected to the drive line 52 is provided.

第2図に示すように、第一のスイッチ1は、電源線11
とコンデンサ4の第一の端子61との間に接続されたP
チャネルMOS)ランジスタからなる充電用スイッチ7
1と、上記第一の端子61とプルアップトランジスタ駆
動線51との間に接続されたPチャネルトランジスタか
らなる駆動用スイッチ72とで構成されている。一方、
第二のスイッチ2は、グランド線12とコンデンサ4の
第二の端子62との間に接続されたNチャネルトランジ
スタからなる充電用スイッチ72と、上記第二の端子6
2とプルダウントランジスタ駆動線52との間に接続さ
れたNチャネルトランジスタからなる駆動用スイッチ8
2とで構成されている。
As shown in FIG. 2, the first switch 1 includes a power line 11
and the first terminal 61 of the capacitor 4
Charging switch 7 consisting of a channel MOS) transistor
1, and a drive switch 72 made of a P-channel transistor connected between the first terminal 61 and the pull-up transistor drive line 51. on the other hand,
The second switch 2 includes a charging switch 72 made of an N-channel transistor connected between the ground line 12 and the second terminal 62 of the capacitor 4;
2 and the pull-down transistor drive line 52.
It is composed of 2.

なお、91.92はそれぞれPチャネルトランジスタ、
Nチャネルトランジスタからなるリストア用スイッチで
ある。
Note that 91 and 92 are P-channel transistors, respectively.
This is a restore switch consisting of an N-channel transistor.

第3図に示すように、上記コンデンサ4は、MOSトラ
ンジスタからなり、P−型半導体基板lOの表面に設け
られたN−型ウェル領域50内に形成されている。この
コンデンサ4は、P+型のソース領域67およびドレイ
ン領域68と、絶縁膜13と、ゲート電極69と、N+
型コンタクト領域65および66を備えている。上記ゲ
ート電極69は絶縁膜13を介してソース領域67、ド
レイン領域68およびこの両領域の間のウェル領域表面
60aと対向している。ゲート電極69は第一の端子6
1に配線で接続されている。また、ソース領域67、ド
レイン領域68およびコンタクト領域65.66はとも
に第二の端子62に配線で接続されている。したがって
、ソース領域67およびドレイン領域68は、コンタク
ト領域65.66を介してウェル領域50と同電位とな
っている。
As shown in FIG. 3, the capacitor 4 is made of a MOS transistor and is formed in an N-type well region 50 provided on the surface of a P-type semiconductor substrate IO. This capacitor 4 includes a P+ type source region 67 and a drain region 68, an insulating film 13, a gate electrode 69, and an N+
Mold contact areas 65 and 66 are provided. The gate electrode 69 faces the source region 67, the drain region 68, and the well region surface 60a between these regions with the insulating film 13 in between. The gate electrode 69 is the first terminal 6
1 is connected by wiring. Further, the source region 67, the drain region 68, and the contact regions 65 and 66 are all connected to the second terminal 62 by wiring. Therefore, source region 67 and drain region 68 are at the same potential as well region 50 via contact regions 65 and 66.

このセンスアンプ駆動系は次のように動作する。This sense amplifier drive system operates as follows.

センスアンプ3を動作させない時は、充電用信号線17
1,172によってオンすべき信号を与えて充電用スイ
ッチ71,72をオンする一方、駆動用信号線181.
182およびリストア用信号線191,192によって
オフすべき信号を与えて駆動用スイッチ81.82およ
びリストア用スイッチ91.92を共にオフする。この
状態で上記コンデンサ3を充電する。そして、図示しな
いワード線が立ち上がり、データがビット線101゜1
02上に現れた後、駆動用信号線181.182によっ
てオンすべき信号を与えて駆動用スイッチ81.82を
オンする一方、充電用信号線171.172およびリス
トア用信号線191.192によってオフすべき信号を
与えて充電用スイッチ71.72およびリストア用スイ
ッチ91.92を共にオフする。これによって上記セン
スアンプ3を駆動する。このとき、上記センスアンプ3
と電源線11およびグランド線12とは、充電用スイッ
チ71.72およびリストア用スイッチ91.92によ
って電気的に分離されているので、上記センスアンプ3
を駆動しても、電源線11およびグランド線12の電位
はその影響を受けることがない。
When the sense amplifier 3 is not operated, the charging signal line 17
1,172 to turn on the charging switches 71, 72, while driving signal lines 181.
182 and restore signal lines 191 and 192 to turn off both the drive switch 81.82 and the restore switch 91.92. In this state, the capacitor 3 is charged. Then, the word line (not shown) rises, and the data is transferred to the bit line 101°1.
02, the drive signal line 181.182 gives a signal to turn on the drive switch 81.82, while the charging signal line 171.172 and the restore signal line 191.192 turn it off. The charging switch 71.72 and the restoring switch 91.92 are both turned off. This drives the sense amplifier 3 mentioned above. At this time, the sense amplifier 3
Since the power supply line 11 and the ground line 12 are electrically separated by the charging switch 71.72 and the restore switch 91.92, the sense amplifier 3
Even if the power supply line 11 and the ground line 12 are driven, the potentials of the power supply line 11 and the ground line 12 are not affected by it.

したがって、コモンモード雑音を低減することができる
Therefore, common mode noise can be reduced.

ここで、コンデンサ4のゲート電極69が対向している
ウェル領域50はN−型であるから、ウェル領域表面5
0aの反転電圧は負となっている。
Here, since the well region 50 facing the gate electrode 69 of the capacitor 4 is of N- type, the well region surface 5
The inversion voltage of 0a is negative.

一方、第2図に示したように上記ゲート電極69は電源
線11側の第一の端子61に接続され、またソース領域
67、ドレイン領域68およびウェル領域表面50aは
グランド線12側の第二の端子62に接続されているの
で、ゲート電極69に印加される電圧は、ウェル領域表
面50aに対して零乃至正となっている。したがって、
この場合、ウェル領域表面50aに空乏層が形成される
ことはなく、従来に比してコンデンサ4の容量は大きい
状態に保たれる。すなわち、印加電圧が大きいときだけ
でなく小さいときにも容量を大きく保つことができる。
On the other hand, as shown in FIG. 2, the gate electrode 69 is connected to the first terminal 61 on the power line 11 side, and the source region 67, drain region 68 and well region surface 50a are connected to the second terminal on the ground line 12 side. The voltage applied to the gate electrode 69 is zero to positive with respect to the well region surface 50a. therefore,
In this case, no depletion layer is formed on the well region surface 50a, and the capacitance of the capacitor 4 is kept larger than in the conventional case. That is, the capacitance can be kept large not only when the applied voltage is large but also when it is small.

したがって、蓄積電荷量を多くすることができ、この結
果、多数個のセンスアンプ3を安定に駆動することがで
きる。したがって、電源電位およびグランド電位の変動
を効率良く抑制することができ、コモンモード雑音の低
減効果を高めることができる。しかも、第3図に示した
ように、このコンデンサ4は、一般の相補型半導体装置
におけるPチャネルMOSトランジスタと配線を除いて
同一構成となっている。したがって、わずかな設計変更
を加えるだけで簡単に作製することができる。
Therefore, the amount of accumulated charge can be increased, and as a result, a large number of sense amplifiers 3 can be stably driven. Therefore, fluctuations in the power supply potential and ground potential can be efficiently suppressed, and the effect of reducing common mode noise can be enhanced. Moreover, as shown in FIG. 3, this capacitor 4 has the same structure as a P-channel MOS transistor in a general complementary semiconductor device except for the wiring. Therefore, it can be easily manufactured by making slight design changes.

また、上記コンデンサ4に代えて、第4図に示すように
、コンデンサ5を設けてもよい。このコンデンサ5は、
コンデンサ4と同様に、MOSトランジスタからなり、
P−型半導体基板10の表面のN−型ウェル領域50内
に形成される。そして、N+型のソース領域63および
ドレイン領域64と、絶縁膜13と、ゲート電極69と
を備えている。ゲート電極69は、第一の端子61に配
線で接続される一方、ソース領域63.ドレイン領域6
4はともに第二の端子62に配線で接続されている。こ
のコンデンサ5は、コンデンサ4と同様に、ウェル領域
表面50aの反転電圧が負となっている。したがって、
コンデンサ4と全く同様に、印加電圧が大きいときだけ
でなく、小さいときにも容量を大きく保つことができる
。したがって、蓄積電荷量を多くすることができ、多数
個のセンスアンプ3を安定に駆動でき、コモンモード雑
音を効果的に低減することができる。しかも、コンデン
サ4よりも構造を単純にすることができる。
Further, instead of the capacitor 4, a capacitor 5 may be provided as shown in FIG. This capacitor 5 is
Like capacitor 4, it consists of a MOS transistor,
It is formed in the N-type well region 50 on the surface of the P-type semiconductor substrate 10. It also includes an N+ type source region 63 and drain region 64, an insulating film 13, and a gate electrode 69. The gate electrode 69 is connected to the first terminal 61 by wiring, while the source region 63 . drain region 6
4 are both connected to the second terminal 62 by wiring. In this capacitor 5, like the capacitor 4, the inversion voltage at the well region surface 50a is negative. therefore,
Just like the capacitor 4, the capacitance can be maintained large not only when the applied voltage is large but also when it is small. Therefore, the amount of accumulated charge can be increased, a large number of sense amplifiers 3 can be stably driven, and common mode noise can be effectively reduced. Moreover, the structure can be made simpler than that of the capacitor 4.

〈発明の効果〉 以上より明らかなように、この発明の半導体記憶装置は
、センスアンプ駆動系のコンデンサがN型ウェル領域の
表面に形成され、互いに配線でつながるN型のソース領
域およびドレイン領域と、上記ソース領域、ドレイン領
域間のウェル領域表面に絶縁膜を介して対向するゲート
電極とからなるので、印加電圧が小さくてもコンデンサ
の容量を大きく保つことができ、したがって蓄積電荷量
を多くすることができ、多数個のセンスアンプを安定に
駆動することができる。
<Effects of the Invention> As is clear from the above, in the semiconductor memory device of the present invention, a sense amplifier driving system capacitor is formed on the surface of an N-type well region, and an N-type source region and a drain region are connected to each other by wiring. , consists of a gate electrode facing the surface of the well region between the source region and the drain region with an insulating film interposed therebetween, so that the capacitance of the capacitor can be kept large even when the applied voltage is small, thus increasing the amount of stored charge. It is possible to stably drive a large number of sense amplifiers.

また、センスアンプ駆動系のコンデンサがN型ウェル領
域の表面に形成され、互いに配線でつながり、かつ上記
ウェル領域と同電位となるように配線で接続されたP型
のソース領域およびドレイン領域と、上記ソース領域、
ドレイン領域間のウェル領域表面に絶縁膜を介して対向
するゲート電極とからなる場合、同様に多数個のセンス
アンプを安定に駆動することができる。しかも、上記コ
ンデンサは、一般の相補型半導体装置のPチャネルMO
9)ランジスタに対してわずかな設計変更を加えるだけ
で簡単に作製することができる。
Further, a sense amplifier drive system capacitor is formed on the surface of the N-type well region, and is connected to each other by wiring, and a P-type source region and a drain region which are connected to each other by wiring so as to have the same potential as the well region. The above source area,
When the well region surface between the drain regions is composed of gate electrodes facing each other with an insulating film interposed therebetween, a large number of sense amplifiers can be stably driven in the same way. Moreover, the above capacitor is a P-channel MO of a general complementary semiconductor device.
9) Can be easily manufactured by making slight design changes to the transistor.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の一実施例の半導体記憶装置のセンス
アンプ駆動系を示すブロック図、第2図は上記センスア
ンプ駆動系を示す回路図、第3図。 第4図はそれぞれ上記センスアンプ駆動系のコンデンサ
を示す断面図、第5図は従来の半導体記憶装置のセンス
アンプ駆動系のコンデンサを示す断面図、第6図は従来
の半導体記憶装置のセンスアンプ駆動系を示すブロック
図である。 1・・・第一のスイッチ、2・・・第二のスイッチ、3
・・・相補型センスアンプ、4,5・・・コンデンサ、
IO・・・P−型半導体基板、  11・・・電源線、
12・・・グランド線、  50・・N−型ウェル、5
1・・・プルアップトランジスタ駆動線、52・・・プ
ルダウントランジスタ駆動線、61・・・第一の端子、
  62・・第二の端子、63.67・・・ソース領域
、 64.68・・・ドレイン領域、 65.66・・・コンタクト領域、 69・・・ゲート電極、 71.72・・・充電用スイッチ、 81.82・・・駆動用スイッチ、 91.92・・・リストア用スイッチ、171曹79.
、、immI=sa−m181.182・・・駆動線信
号線、 191.192・・・リストア用信号線。
FIG. 1 is a block diagram showing a sense amplifier drive system of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a circuit diagram showing the sense amplifier drive system, and FIG. 4 is a sectional view showing a capacitor in the sense amplifier drive system, FIG. 5 is a sectional view showing a capacitor in the sense amplifier drive system of a conventional semiconductor memory device, and FIG. 6 is a sectional view of a capacitor in the sense amplifier drive system of a conventional semiconductor memory device. It is a block diagram showing a drive system. 1...First switch, 2...Second switch, 3
... Complementary sense amplifier, 4, 5... Capacitor,
IO...P- type semiconductor substrate, 11... Power line,
12...Ground line, 50...N-type well, 5
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Pull-up transistor drive line, 52... Pull-down transistor drive line, 61... First terminal,
62...Second terminal, 63.67...Source region, 64.68...Drain region, 65.66...Contact region, 69...Gate electrode, 71.72...For charging Switch, 81.82... Drive switch, 91.92... Restoration switch, 171 79.
,,immI=sa-m181.182...Drive line signal line, 191.192...Restore signal line.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)電源につながるプルアップトランジスタ駆動線と
グランドにつながるプルダウントランジスタ駆動線との
間にコンデンサを接続して、上記プルアップトランジス
タ駆動線とプルダウントランジスタ駆動線とによって相
補型センス増幅器を駆動するときに生じる電源電位およ
びグランド電位の変動を低減するようにした半導体記憶
装置において、 上記コンデンサは、N型ウェル領域の表面に形成され、
互いに配線でつながるN型のソース領域およびドレイン
領域と、上記ソース領域、ドレイン領域間のウェル領域
表面に絶縁膜を介して対向するゲート電極とからなるこ
とを特徴とする半導体記憶装置。
(1) When a capacitor is connected between a pull-up transistor drive line connected to a power supply and a pull-down transistor drive line connected to ground, and a complementary sense amplifier is driven by the pull-up transistor drive line and pull-down transistor drive line. In a semiconductor memory device designed to reduce fluctuations in power supply potential and ground potential occurring in
1. A semiconductor memory device comprising an N-type source region and a drain region connected to each other by wiring, and a gate electrode facing a surface of a well region between the source region and the drain region with an insulating film interposed therebetween.
(2)電源につながるプルアップトランジスタ駆動線と
グランドにつながるプルダウントランジスタ駆動線との
間にコンデンサを接続して、上記プルアップトランジス
タ駆動線とプルダウントランジスタ駆動線とによって相
補型センス増幅器を駆動するときに生じる電源電位およ
びグランド電位の変動を低減するようにした半導体記憶
装置において、 上記コンデンサは、N型ウェル領域の表面に形成され、
互いに配線でつながり、かつ上記ウェル領域と同電位と
なるように配線で接続されたP型のソース領域およびド
レイン領域と、上記ソース領域、ドレイン領域間のウェ
ル領域表面に絶縁膜を介して対向するゲート電極とから
なることを特徴とする半導体記憶装置。
(2) When a capacitor is connected between the pull-up transistor drive line connected to the power supply and the pull-down transistor drive line connected to the ground, and the complementary sense amplifier is driven by the pull-up transistor drive line and the pull-down transistor drive line. In a semiconductor memory device designed to reduce fluctuations in power supply potential and ground potential occurring in
A P-type source region and a drain region connected to each other by wiring and having the same potential as the well region, and facing the surface of the well region between the source region and the drain region with an insulating film interposed therebetween. A semiconductor memory device comprising a gate electrode.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05102426A (en) * 1990-05-31 1993-04-23 Oki Electric Ind Co Ltd Semiconductor memory device
US6191990B1 (en) 1999-02-23 2001-02-20 Hitachi, Ltd. Semiconductor integrated circuit device having stabilizing capacitors connected between power lines of main amplifiers

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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