JPH0327044A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Landscapes
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、感光性樹脂組成物に関する。
〔従来の技術]
従来、プリント配線板製造用感光性樹脂組成物としては
、ノボラック型エボキシ化合物と不飽和モノカルポン酸
との反応物と、飽和または不飽和多塩基酸無水物とを反
応せしめて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂の感光
性樹脂組成物が知られている(特開昭8 1−2438
139号公報)。
、ノボラック型エボキシ化合物と不飽和モノカルポン酸
との反応物と、飽和または不飽和多塩基酸無水物とを反
応せしめて得られる活性エネルギー線硬化性樹脂の感光
性樹脂組成物が知られている(特開昭8 1−2438
139号公報)。
[発明が解決しようとする課題コ
しかしながら、従来の感光性樹脂組成物は、水溶性フラ
ックスに対する耐性が低いなどの課題がある。
ックスに対する耐性が低いなどの課題がある。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、上記課題の改善された感光性樹脂組成物
を得るべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。
を得るべく鋭意検討した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は
(A)ポリエボキシ化合物に非対称ジアルキルヒドラジ
ンとエステル化合物と不飽 和カルポン酸及び必要によりアミン化 合物を反応してなる、分子中にアミン イミド基と不飽和カルボン酸エステル 基を各!個以上有するエポキシ変性樹脂(B)光重合開
始剤 (C)希釈剤 (D)顔料 を含んでなる水溶液現像可能な光及び/または熱硬化性
p感光性樹脂組成物である。
ンとエステル化合物と不飽 和カルポン酸及び必要によりアミン化 合物を反応してなる、分子中にアミン イミド基と不飽和カルボン酸エステル 基を各!個以上有するエポキシ変性樹脂(B)光重合開
始剤 (C)希釈剤 (D)顔料 を含んでなる水溶液現像可能な光及び/または熱硬化性
p感光性樹脂組成物である。
エボキシ変性樹脂(A)で使用されるポリエボキシ化合
物は分子中にエポキシ基を2個以上含むものなら特に制
限されず通常のもの、例えば「新エボキシ樹脂」 [垣
内弘著、(株)昭晃堂、昭和60年5月!0日発行]
Is〜97頁、「基礎合成樹脂の化学(新版)」[三羽
忠広著、技報堂、昭和50年発行]371〜392頁,
rエボキシレジンズ」[マグローヒル●コンバ二一
社l957年発行]6〜23頁に記載のものが使用でき
、具体的には下記のものが挙げられる。
物は分子中にエポキシ基を2個以上含むものなら特に制
限されず通常のもの、例えば「新エボキシ樹脂」 [垣
内弘著、(株)昭晃堂、昭和60年5月!0日発行]
Is〜97頁、「基礎合成樹脂の化学(新版)」[三羽
忠広著、技報堂、昭和50年発行]371〜392頁,
rエボキシレジンズ」[マグローヒル●コンバ二一
社l957年発行]6〜23頁に記載のものが使用でき
、具体的には下記のものが挙げられる。
(1)フェノールエーテル系エポキシ樹脂[ビスフェノ
ール類とエビクロルヒドリンとの縮合物、フェノール又
はクレゾールノボラック樹脂とエビクロルヒドリンとの
縮合物などコ:(2)エーテル系エポキシ樹脂〔ボリオ
ール、ポリエーテルポリオールナトトエビクロルヒドリ
ンとの縮合物など]=(3)エステル系エボキシ樹脂[
グリシジル(メタ)アクリレートとエチレン性不飽和単
量体(アクリロニトリルなど)との共重合体など]:(
4)グリシジルアミン系エポキシ樹脂[アミン類とエビ
クロルヒドリンとの縮合物などコ:(5)非グリシジル
型エポキシ樹脂[環状エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブ
タジエン、エポキシ化大豆油などコ:及びこれらの2種
以上の混合物が挙げられる。これらのうち好ましいもの
は(1)である。
ール類とエビクロルヒドリンとの縮合物、フェノール又
はクレゾールノボラック樹脂とエビクロルヒドリンとの
縮合物などコ:(2)エーテル系エポキシ樹脂〔ボリオ
ール、ポリエーテルポリオールナトトエビクロルヒドリ
ンとの縮合物など]=(3)エステル系エボキシ樹脂[
グリシジル(メタ)アクリレートとエチレン性不飽和単
量体(アクリロニトリルなど)との共重合体など]:(
4)グリシジルアミン系エポキシ樹脂[アミン類とエビ
クロルヒドリンとの縮合物などコ:(5)非グリシジル
型エポキシ樹脂[環状エポキシ樹脂、エポキシ化ポリブ
タジエン、エポキシ化大豆油などコ:及びこれらの2種
以上の混合物が挙げられる。これらのうち好ましいもの
は(1)である。
エポキシ変性樹脂(A)で使用される非対称ジアルキル
ヒドラジン、すなわちNJ−ジアルキルヒドラジンにお
いて、アルキル基としては同一または異なるCI”Cl
h 好ましくは、C1〜Csの直鎖または分岐のアルキ
ル基が挙げられる。その具体例としては非対称のジメチ
ルヒドラジン,ジエチルヒドラジン,ジインプロビルヒ
ドラジン,ジーnーブチルヒドラジン,ジオクチルヒド
ラジンなどが挙げられる。これらのうち好ましいのはジ
メチルヒドラジンである。
ヒドラジン、すなわちNJ−ジアルキルヒドラジンにお
いて、アルキル基としては同一または異なるCI”Cl
h 好ましくは、C1〜Csの直鎖または分岐のアルキ
ル基が挙げられる。その具体例としては非対称のジメチ
ルヒドラジン,ジエチルヒドラジン,ジインプロビルヒ
ドラジン,ジーnーブチルヒドラジン,ジオクチルヒド
ラジンなどが挙げられる。これらのうち好ましいのはジ
メチルヒドラジンである。
エボキシ変性樹脂(A)で使用されるエステル化合物と
しては下記のものがあげられる。例えば飽和脂肪族エス
テル(蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロビル、酢酸ブチル、酢酸ヘキシル、酢酸セ
ロソルフ等): α一ヒドロキシカルボン酸エステル(
乳酸メチル、乳酸エチル、マンデル酸メチル等);(メ
タ)アクリル酸エステル[ (メタ)アクリル酸メチル
、 (メタ)アクリル酸エチル、 (メタ)アクリル酸
n一ブチル、 (メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル
、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、 (メタ)ア
クリル酸ヒドロキシプロビル、 (メタ)アクリル酸ヒ
ドロキシヘキシル];芳香族エステル(安息香酸メチル
、安息香酸エチル、サリチル酸メチル、サリチル酸エチ
ル、桂皮酸エチル等);ポリカルボン酸エステル(マレ
イン酸ジメチノレ、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメ
チル、イタコン酸ジメチル、アジビン酸ジメチル、ブテ
ントリカルボン酸トリメチル、ブテンテトラカルボン酸
テトラメチル等); ラクトン(β−プロビオラクトン
、ジメチルプロピオラクトン、プチロラクトン、γ一バ
レロラクトン、γ一カブロラクトン、クロトラクトン、
δ−バレロラクトン、δ一カブロラクトン、クマリン等
)等が挙げられる。これらのうち好ましいのは、 (メ
タ)アクリル酸エステル、α−ヒドロキシカルポン酸エ
ステル及び芳香族エステルであり、とくに好ましいのは
、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル、乳酸エチル
及び桂皮酸エチルである。
しては下記のものがあげられる。例えば飽和脂肪族エス
テル(蟻酸メチル、蟻酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロビル、酢酸ブチル、酢酸ヘキシル、酢酸セ
ロソルフ等): α一ヒドロキシカルボン酸エステル(
乳酸メチル、乳酸エチル、マンデル酸メチル等);(メ
タ)アクリル酸エステル[ (メタ)アクリル酸メチル
、 (メタ)アクリル酸エチル、 (メタ)アクリル酸
n一ブチル、 (メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル
、(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル、 (メタ)ア
クリル酸ヒドロキシプロビル、 (メタ)アクリル酸ヒ
ドロキシヘキシル];芳香族エステル(安息香酸メチル
、安息香酸エチル、サリチル酸メチル、サリチル酸エチ
ル、桂皮酸エチル等);ポリカルボン酸エステル(マレ
イン酸ジメチノレ、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメ
チル、イタコン酸ジメチル、アジビン酸ジメチル、ブテ
ントリカルボン酸トリメチル、ブテンテトラカルボン酸
テトラメチル等); ラクトン(β−プロビオラクトン
、ジメチルプロピオラクトン、プチロラクトン、γ一バ
レロラクトン、γ一カブロラクトン、クロトラクトン、
δ−バレロラクトン、δ一カブロラクトン、クマリン等
)等が挙げられる。これらのうち好ましいのは、 (メ
タ)アクリル酸エステル、α−ヒドロキシカルポン酸エ
ステル及び芳香族エステルであり、とくに好ましいのは
、メタクリル酸メチル、アクリル酸メチル、乳酸エチル
及び桂皮酸エチルである。
エポキシ変性樹脂(A)で使用される不飽和カルポン酸
としては炭素数3〜22の脂肪族不飽和モノカルポン酸
、不飽和ポリカルボン酸、芳香族不飽和カルボン酸など
が挙げられる。脂肪族不飽和モノカルボン酸としては、
α,β一不飽和モノカルボン酸がありその例として、
(メタ)アクリル酸、クロトン酸の他炭素数4〜22の
オレフィンのカルボン酸が挙げられる。α,β一不飽和
ジカルポン酸としてはイタコン酸、フマール酸、マレイ
ン酸、無水マレイン酸などが挙げられる。芳香族不飽和
カルボン酸としては桂皮酸などが挙げられる。これらの
うちで好ましいものは脂肪族不飽和モノカルボン酸及び
芳香族不飽和カルボン酸であり、とくに好ましいのは(
メタ)アクリル酸である。
としては炭素数3〜22の脂肪族不飽和モノカルポン酸
、不飽和ポリカルボン酸、芳香族不飽和カルボン酸など
が挙げられる。脂肪族不飽和モノカルボン酸としては、
α,β一不飽和モノカルボン酸がありその例として、
(メタ)アクリル酸、クロトン酸の他炭素数4〜22の
オレフィンのカルボン酸が挙げられる。α,β一不飽和
ジカルポン酸としてはイタコン酸、フマール酸、マレイ
ン酸、無水マレイン酸などが挙げられる。芳香族不飽和
カルボン酸としては桂皮酸などが挙げられる。これらの
うちで好ましいものは脂肪族不飽和モノカルボン酸及び
芳香族不飽和カルボン酸であり、とくに好ましいのは(
メタ)アクリル酸である。
エポキシ変性樹脂(A)で必要により使用されるアミン
化合物としては、以下のものが挙げられる。例えば、ア
ルカノールアミン(モノエタノーノレアミン、ジエタノ
ーノレアミン、トリエタノーノレアミン、モノイソプロ
パノールアミン、ジイソプロバノールアミン、 トリイ
ソプロバノールアミン等):ケトイミン(例えばジエチ
レントリアミンをメチルエチルケトンでブロックしたも
のなど);脂肪族第一アミン(メチルアミン、エチルア
ミン、プロビノレアミン、インプロピノレアミン、プチ
ルアミン、アミノレアミン、ヘキシノレアミン、ヘブチ
ルアミン等);脂肪族第ニアミン(ジメチルアミン、ジ
エチルアミン、ジプロビルアミン、ジイソプロビノレア
ミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン等);脂肪族第
三アミン(トリメチルアミン、トリエチルアミン、 ト
リプリビルアミン、 トリブチルアミン、トリアミルア
ミン等);脂肪族不飽和アミン(アリルアミン、ジアリ
ルアミン等);脂環式アミン(シクロプロビルアミン、
シクロブチルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘ
キシルアミン等);芳香族アミン(アニリン、メチルア
ニリン、ジメチルアニリン、エチルアニリン、ジエチル
アニリン、オルトトルイジン、メタトルイジン、バラト
ルイジン、ペンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフェ
ニルアミン、トリフェニルアミン、α−ナフチルアミン
、β−ナフチルアミン等);ポリアミン化合物、例えば
脂肪族ジアミン(エチレンジアミン、トリメチレンジア
ミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、l,7−ジアミノへブタ
ン、!,8−ジアミノオクタン、!,9−ジアミノノナ
ン、1.10−ジアミノデカン);芳香族ジアミン(0
−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−
フェニレンジアミン);トリアミン(1,2.3− ト
リアミノプロパン)などである。またアミノ基含有シラ
ンカップリング剤として例えばアミノアルキノレトリア
ノレコキシシラン(γ−アミノブロビルトリメトキシシ
ラン、γ−7ミノプロビルトリエトキシシラン、アミノ
メチルトリエトキシシランなど);N−(アミノアルキ
ル)アミノアルキルトリアルコキシシラン(N−(β−
アミノエチル)アミノメチルトリメトキシシラン、N−
(β−アミノエチル)アミノメチルトリエトキシシラン
、訃(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメト
キシシランなど〕;アミノアルキルアルキルジアルコキ
シシラン (アミノメチルメチルジエトキシシラン、γ
−アミノプロビルメチルジエトキシシランなど);N−
(アミノアルキル)アミノアルキルアルキルジアルコキ
シシラン(N−(β−アミノエチル)一γ−アミノプロ
ビルメチルジメトキシシランなど〕など;およびアミノ
基含有シランカップリング剤と加水分解性シリル基を含
有する化合物の部分加水分解物、たとえば上記アミノ基
含有シランカップリング剤と加水分解性シリル基を含有
する化合物(エチルシリケート、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシランなど)と水及び必要であれば
酸性またはアルカリ性触媒を加え、部分加水分解ナるこ
とにより得られる反応物などもあげられる。これらのう
ち好ましいものは、アルカノールアミンであり、とくに
好ましくはモノエタノールアミン及びジエタノールアミ
ンでアル。
化合物としては、以下のものが挙げられる。例えば、ア
ルカノールアミン(モノエタノーノレアミン、ジエタノ
ーノレアミン、トリエタノーノレアミン、モノイソプロ
パノールアミン、ジイソプロバノールアミン、 トリイ
ソプロバノールアミン等):ケトイミン(例えばジエチ
レントリアミンをメチルエチルケトンでブロックしたも
のなど);脂肪族第一アミン(メチルアミン、エチルア
ミン、プロビノレアミン、インプロピノレアミン、プチ
ルアミン、アミノレアミン、ヘキシノレアミン、ヘブチ
ルアミン等);脂肪族第ニアミン(ジメチルアミン、ジ
エチルアミン、ジプロビルアミン、ジイソプロビノレア
ミン、ジブチルアミン、ジアミルアミン等);脂肪族第
三アミン(トリメチルアミン、トリエチルアミン、 ト
リプリビルアミン、 トリブチルアミン、トリアミルア
ミン等);脂肪族不飽和アミン(アリルアミン、ジアリ
ルアミン等);脂環式アミン(シクロプロビルアミン、
シクロブチルアミン、シクロペンチルアミン、シクロヘ
キシルアミン等);芳香族アミン(アニリン、メチルア
ニリン、ジメチルアニリン、エチルアニリン、ジエチル
アニリン、オルトトルイジン、メタトルイジン、バラト
ルイジン、ペンジルアミン、ジベンジルアミン、ジフェ
ニルアミン、トリフェニルアミン、α−ナフチルアミン
、β−ナフチルアミン等);ポリアミン化合物、例えば
脂肪族ジアミン(エチレンジアミン、トリメチレンジア
ミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、l,7−ジアミノへブタ
ン、!,8−ジアミノオクタン、!,9−ジアミノノナ
ン、1.10−ジアミノデカン);芳香族ジアミン(0
−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−
フェニレンジアミン);トリアミン(1,2.3− ト
リアミノプロパン)などである。またアミノ基含有シラ
ンカップリング剤として例えばアミノアルキノレトリア
ノレコキシシラン(γ−アミノブロビルトリメトキシシ
ラン、γ−7ミノプロビルトリエトキシシラン、アミノ
メチルトリエトキシシランなど);N−(アミノアルキ
ル)アミノアルキルトリアルコキシシラン(N−(β−
アミノエチル)アミノメチルトリメトキシシラン、N−
(β−アミノエチル)アミノメチルトリエトキシシラン
、訃(β−アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメト
キシシランなど〕;アミノアルキルアルキルジアルコキ
シシラン (アミノメチルメチルジエトキシシラン、γ
−アミノプロビルメチルジエトキシシランなど);N−
(アミノアルキル)アミノアルキルアルキルジアルコキ
シシラン(N−(β−アミノエチル)一γ−アミノプロ
ビルメチルジメトキシシランなど〕など;およびアミノ
基含有シランカップリング剤と加水分解性シリル基を含
有する化合物の部分加水分解物、たとえば上記アミノ基
含有シランカップリング剤と加水分解性シリル基を含有
する化合物(エチルシリケート、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシランなど)と水及び必要であれば
酸性またはアルカリ性触媒を加え、部分加水分解ナるこ
とにより得られる反応物などもあげられる。これらのう
ち好ましいものは、アルカノールアミンであり、とくに
好ましくはモノエタノールアミン及びジエタノールアミ
ンでアル。
エポキシ変性樹脂(A)は次の(I)、(II)の反応
と必要により(III)の反応を行なうことにより得ら
れる。すなわち、ポリエポキシ化合物またはエポキシ変
性樹脂と非対称ジアルキルヒドラジンとエステル化合物
の反応(■)、ポリエボキシ化合物またはエポキシ変性
樹脂と不飽和カルボン酸との反応(n)及びポリエポキ
シ化合物またはエポキシ変性樹脂とアミン化合物との反
応(III)である。
と必要により(III)の反応を行なうことにより得ら
れる。すなわち、ポリエポキシ化合物またはエポキシ変
性樹脂と非対称ジアルキルヒドラジンとエステル化合物
の反応(■)、ポリエボキシ化合物またはエポキシ変性
樹脂と不飽和カルボン酸との反応(n)及びポリエポキ
シ化合物またはエポキシ変性樹脂とアミン化合物との反
応(III)である。
この反応の方法には次の様なものがある。通常順を追っ
て、(I) − (II)または(II) − (I)
である。必要により(m)の反応を行なう場合の順序と
しては(I)−(n)一(m)、 (I)−(I[I)
− (n)、 (II)− (I)− (!II)、
(If)− (III) − (I)、 (III)
− (I) −(If)、 (II!) −(n) −
(I)のように反応を行うか、 (I)と(II[)
を同時に行ったのちに(II)を行ってもよいし、また
は先に(n)を行ったのちに(I)と(III)を行っ
てもよい。好ましくは、(工)一(III) − (n
)または(III) − (I) −(II)の順番に
行うか、 (工)と(■)を同時に行った後(n)を行
うのがよい。また(I)の反応を行う時は3者を同時に
反応させてもよいし、ポリエポキシ化合物と非対称ジア
ルキルヒドラジンを反応させてからエステル化合物を反
応させてもよい。
て、(I) − (II)または(II) − (I)
である。必要により(m)の反応を行なう場合の順序と
しては(I)−(n)一(m)、 (I)−(I[I)
− (n)、 (II)− (I)− (!II)、
(If)− (III) − (I)、 (III)
− (I) −(If)、 (II!) −(n) −
(I)のように反応を行うか、 (I)と(II[)
を同時に行ったのちに(II)を行ってもよいし、また
は先に(n)を行ったのちに(I)と(III)を行っ
てもよい。好ましくは、(工)一(III) − (n
)または(III) − (I) −(II)の順番に
行うか、 (工)と(■)を同時に行った後(n)を行
うのがよい。また(I)の反応を行う時は3者を同時に
反応させてもよいし、ポリエポキシ化合物と非対称ジア
ルキルヒドラジンを反応させてからエステル化合物を反
応させてもよい。
好ましくは、3者を同時に反応するのがよい。
これらの反応の一例を挙げると式(1)、 (2)の様
なものである。
なものである。
n−R●一00011
ここでks p.,rfh nは、1以上の整数で
あり、これらの間にはki= (p+m+n)の関係が
ある。
あり、これらの間にはki= (p+m+n)の関係が
ある。
また式(2)において!)/kは、通常0.1〜0.7
、好ましくは0.1−0.4である。n/kは通常0.
1〜0.95、好ましくは0.3〜OJである。m/k
は通常O〜0.3、好ましくは0.05〜0.2である
。
、好ましくは0.1−0.4である。n/kは通常0.
1〜0.95、好ましくは0.3〜OJである。m/k
は通常O〜0.3、好ましくは0.05〜0.2である
。
ここでXはポリエポキシ化合物の残基、R’NRtは非
対称ジアルキルヒドラジンのアルキル基、R3はエステ
ル化合物の酸成分残基N R4はエステル化合物のア
ルコール残基、R”, R●l R’はアミン化合
物のNを除いた残基、R●は不飽和カルボン酸の残基で
ある。
対称ジアルキルヒドラジンのアルキル基、R3はエステ
ル化合物の酸成分残基N R4はエステル化合物のア
ルコール残基、R”, R●l R’はアミン化合
物のNを除いた残基、R●は不飽和カルボン酸の残基で
ある。
非対称ジアルキルヒドラジンの使用量は、ポリエボキシ
化合物中のエボキシ基の1モル当り通常0.1−0.7
モル、好ましくは0.1−0.4モルである。
化合物中のエボキシ基の1モル当り通常0.1−0.7
モル、好ましくは0.1−0.4モルである。
非対称ジアルキルヒドラジンが0.1モルより少ないと
きは、親水性が低くなり、0.7モルより多いときは耐
水性が低くなる。
きは、親水性が低くなり、0.7モルより多いときは耐
水性が低くなる。
エステル化合物の使用量は、非対称ジアルキルヒドラジ
ンの1モル当り、通常0.9〜3モル、好ましくは、O
』5〜1.5モルである。過剰分は希釈剤として系内に
残してもよいし、蒸留等の方法で除去してもよい。エス
テル化合物が0.9モルより少ないときはアミンイミド
基の熱分解性が低くなる。
ンの1モル当り、通常0.9〜3モル、好ましくは、O
』5〜1.5モルである。過剰分は希釈剤として系内に
残してもよいし、蒸留等の方法で除去してもよい。エス
テル化合物が0.9モルより少ないときはアミンイミド
基の熱分解性が低くなる。
不飽和カルボン酸の使用量は、ポリエポキシ化合物中の
エポキシ基の1モル当り通常 0.1〜3モル、好まし
くは0.3〜2モルである。過剰分は希釈剤として系内
に残してもよいし、蒸留等の方法で除去してもよい。不
飽和カルポン酸が0.1モルより少ないときは、光硬化
性が低くなる。
エポキシ基の1モル当り通常 0.1〜3モル、好まし
くは0.3〜2モルである。過剰分は希釈剤として系内
に残してもよいし、蒸留等の方法で除去してもよい。不
飽和カルポン酸が0.1モルより少ないときは、光硬化
性が低くなる。
アミン化合物の使用量は、ポリエポキシ化合物中のエポ
キシ基の1モル当り、通常0〜0.3モル、好ましくは
、0.05〜0.2モルである。アミン化合物が0.3
モルより多いときは、光硬化性が低くなる。
キシ基の1モル当り、通常0〜0.3モル、好ましくは
、0.05〜0.2モルである。アミン化合物が0.3
モルより多いときは、光硬化性が低くなる。
反応温度はCI)については、通常0〜120℃、好ま
しくは、20〜80℃である。 (n)については、通
常O〜iso℃、好ましくは80〜120℃である。
(III)については通常0−100℃、好ましくは2
0〜80”Cである。
しくは、20〜80℃である。 (n)については、通
常O〜iso℃、好ましくは80〜120℃である。
(III)については通常0−100℃、好ましくは2
0〜80”Cである。
反応時間は、 (工)については通常30分〜30時間
、好ましくは、1〜5時間である。 (n)については
通常!〜10時間、好ましくは2〜5時間である.(I
II)については通常30分〜5時間、好ましくはI〜
3時間である。
、好ましくは、1〜5時間である。 (n)については
通常!〜10時間、好ましくは2〜5時間である.(I
II)については通常30分〜5時間、好ましくはI〜
3時間である。
圧力は、(I)、(II)、 (DI)すべてにおいて
、通常0.01〜5kg/c/、好ましくは、0.95
〜1.05kg/c一である。
、通常0.01〜5kg/c/、好ましくは、0.95
〜1.05kg/c一である。
反応は, (I), (II)、 (III)それ
ぞれ共通又は別種の溶剤の存在下に行われる。溶剤とし
ては原料を溶解し反応を阻害しなければとくに限定され
ず、例えば脂肪族アルコール(メチルアルコール、エチ
ルアルコール、 i−プロビルアルコール、n−プロビ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、tert−ブチ
ルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
メチルカービトール、エチルカービトール等);芳香族
アルコール(ベンジルアルコール等);ケトン(アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチノレケトン等); エ
ーテノレ(エチノレエーテル、エチレングリコールジメ
チノレエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ア
ニソール等):芳香族炭化水素(ベンゼン、トルエン、
キシレン等):アミド(ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、N−メチルビロリドン等
); ニトリル(アセトニトリル、プロビオニトリル等
)等及びこれらの二種以上の混合物があげられる。好ま
しくは、脂肪族アルコール及び芳香族アルコールであり
、特に好ましくはメチルアルコール、i−プロビルアル
コール、メチルセロソルブ、メチルカービトール及びベ
ンジルアルコールである。
ぞれ共通又は別種の溶剤の存在下に行われる。溶剤とし
ては原料を溶解し反応を阻害しなければとくに限定され
ず、例えば脂肪族アルコール(メチルアルコール、エチ
ルアルコール、 i−プロビルアルコール、n−プロビ
ルアルコール、n−ブチルアルコール、tert−ブチ
ルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、
メチルカービトール、エチルカービトール等);芳香族
アルコール(ベンジルアルコール等);ケトン(アセト
ン、メチルエチルケトン、ジエチノレケトン等); エ
ーテノレ(エチノレエーテル、エチレングリコールジメ
チノレエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ア
ニソール等):芳香族炭化水素(ベンゼン、トルエン、
キシレン等):アミド(ジメチルホルムアミド、N,
N−ジメチルアセトアミド、N−メチルビロリドン等
); ニトリル(アセトニトリル、プロビオニトリル等
)等及びこれらの二種以上の混合物があげられる。好ま
しくは、脂肪族アルコール及び芳香族アルコールであり
、特に好ましくはメチルアルコール、i−プロビルアル
コール、メチルセロソルブ、メチルカービトール及びベ
ンジルアルコールである。
溶剤の使用量は、ポリエポキシ化合物またはエボキシ変
性樹脂の重量に基づいて通常10%〜5 0 0%,好
ましくは、50X〜300%である。
性樹脂の重量に基づいて通常10%〜5 0 0%,好
ましくは、50X〜300%である。
また(II)の反応は、必要により触媒の存在下に行わ
れる。触媒としては、例えばトリフェニルフォスフィン
、4級アンモニウム塩(テトラメチルアンモニウムクロ
ライド、べ冫ジルトリメチルアンモニウムクロライド、
ペンジルトリエチルアンモニウムクロライド、ペンジル
トリブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアン
モニウムブロマイド、テトラプチルアンモニウムハイド
ロゲンサルフェイト、トリオクチルアンモニウムクロラ
イド、N−ラウリルピリジニウムクロライド、N一ラウ
リル−4一ピクリニウムクロライド、N−ラウリルビコ
リニウムクロライド、N−ペンジルピコリニウムクロラ
イド等);第3級アミン化合物(トリメチルアミン、
トリエチルアミン、 トリプロビルアミン、 トリブチ
ルアミン、ペンジルジメチノレアミン、ピリジン等);
イミダゾール化合物(2一メチル−4−エチルイミダ
ゾール、2−メチルイミダゾール等)があげられる。好
ましくは、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、トリ
フェニルフtスフィン及びトリエチルアミンである。
れる。触媒としては、例えばトリフェニルフォスフィン
、4級アンモニウム塩(テトラメチルアンモニウムクロ
ライド、べ冫ジルトリメチルアンモニウムクロライド、
ペンジルトリエチルアンモニウムクロライド、ペンジル
トリブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアン
モニウムブロマイド、テトラプチルアンモニウムハイド
ロゲンサルフェイト、トリオクチルアンモニウムクロラ
イド、N−ラウリルピリジニウムクロライド、N一ラウ
リル−4一ピクリニウムクロライド、N−ラウリルビコ
リニウムクロライド、N−ペンジルピコリニウムクロラ
イド等);第3級アミン化合物(トリメチルアミン、
トリエチルアミン、 トリプロビルアミン、 トリブチ
ルアミン、ペンジルジメチノレアミン、ピリジン等);
イミダゾール化合物(2一メチル−4−エチルイミダ
ゾール、2−メチルイミダゾール等)があげられる。好
ましくは、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、トリ
フェニルフtスフィン及びトリエチルアミンである。
(I)、(III)の反応は、通常撹拌下に、必要によ
り不活性気体(窒素等)雰囲気下で行われる。
り不活性気体(窒素等)雰囲気下で行われる。
(II)の反応は、通常攪拌下に、必要により空気等の
ラジカル重合禁止効果のある気体の存在下でおこなわれ
る。
ラジカル重合禁止効果のある気体の存在下でおこなわれ
る。
エポキシ変性樹脂(A)は、分子中にアミンイミド基と
不飽和カルボン酸エステル基を各1個以上有し、必要に
よりアミノ基を有する。ここでアミンイミド基とは − N” − N− − GO− J であり、アミノ基には、−1fH2、− NH−、−1
=という基が含まれる。
不飽和カルボン酸エステル基を各1個以上有し、必要に
よりアミノ基を有する。ここでアミンイミド基とは − N” − N− − GO− J であり、アミノ基には、−1fH2、− NH−、−1
=という基が含まれる。
エポキシ変性樹脂(A)の分子量は、通常280〜30
0,000, 好ましくは、500 〜too,oo
oテある。
0,000, 好ましくは、500 〜too,oo
oテある。
本発明で使用される光重合開始剤(B)としてはペンゾ
イン、ベンゾインのアルキルエーテル類(ベゾインメチ
ノレエーテ)レ、ペンゾインイソプロビルエーテル等)
;アセトフェノン類(アセトフェノン、2,2−ジメト
キシ−2−フェニルアセトフェノン、2.2−ジエトキ
シ−2−フェニルアセトフェノン、1,■−ジクロロア
セトフェノン等): アントラキノン類(2−メチルア
ントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシ
ャリーブチルアントラキノン、!−クロロアントラキノ
ン、2−アミルアントラキノン等);チオキサントン類
(2.4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジェチル
チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−
ジインプロビルチオキサントン等);ケタール類(アセ
トフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケター
ル等);ベンゾフェノン類;キサントン類等が挙げられ
る。これらは安息香酸系又は第三級アミン系等の光重合
促進剤のINあるいは2m以上と組み合わせて用いるこ
とも可能であり、またこれらのうちの2種以上を混合使
用することも可能である。これらのうち好ましくはベン
ゾインのアルキルエーテル類、チオキサントン類であり
、特に好ましくはベンゾインのアルキルエーテル類であ
る。
イン、ベンゾインのアルキルエーテル類(ベゾインメチ
ノレエーテ)レ、ペンゾインイソプロビルエーテル等)
;アセトフェノン類(アセトフェノン、2,2−ジメト
キシ−2−フェニルアセトフェノン、2.2−ジエトキ
シ−2−フェニルアセトフェノン、1,■−ジクロロア
セトフェノン等): アントラキノン類(2−メチルア
ントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシ
ャリーブチルアントラキノン、!−クロロアントラキノ
ン、2−アミルアントラキノン等);チオキサントン類
(2.4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジェチル
チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−
ジインプロビルチオキサントン等);ケタール類(アセ
トフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケター
ル等);ベンゾフェノン類;キサントン類等が挙げられ
る。これらは安息香酸系又は第三級アミン系等の光重合
促進剤のINあるいは2m以上と組み合わせて用いるこ
とも可能であり、またこれらのうちの2種以上を混合使
用することも可能である。これらのうち好ましくはベン
ゾインのアルキルエーテル類、チオキサントン類であり
、特に好ましくはベンゾインのアルキルエーテル類であ
る。
光重合開始剤(B)の使用量は、光重合開始剤(B)/
エポキシ変性樹脂(A)の重量比で通常0.5/100
〜10/Zoo, 好ましくは1/100〜5/10
0である。
エポキシ変性樹脂(A)の重量比で通常0.5/100
〜10/Zoo, 好ましくは1/100〜5/10
0である。
本発明で使用される希釈剤(C)としては、通常の光重
合性オリゴマー 光重合性モノマー エポキシ化合物、
有機溶剤などが挙げられる。
合性オリゴマー 光重合性モノマー エポキシ化合物、
有機溶剤などが挙げられる。
光重合性オリゴマーとしては通常の例えば、エポキシ系
オリゴマー(ビスフェノールA−ジグリシジルジ(メタ
)アクリレート、クレゾールノボラックグリシジル(メ
タ)アクリレート等)、エステル系オリゴマー ボリエ
ーテル系オリゴマーポリエステル系又は不飽和ポリエス
テル系オリゴマー ウレタン系オリゴマー ポリアセタ
ール系オリゴマー ボリブタジエン系オリゴマー等が挙
げられる。これらのうち好ましくは、エポキシ系オリゴ
マーである。
オリゴマー(ビスフェノールA−ジグリシジルジ(メタ
)アクリレート、クレゾールノボラックグリシジル(メ
タ)アクリレート等)、エステル系オリゴマー ボリエ
ーテル系オリゴマーポリエステル系又は不飽和ポリエス
テル系オリゴマー ウレタン系オリゴマー ポリアセタ
ール系オリゴマー ボリブタジエン系オリゴマー等が挙
げられる。これらのうち好ましくは、エポキシ系オリゴ
マーである。
光重合性モノマーとしては、水溶性モノマー(2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロビル(メタ)アクリレート、パービニルビロリドン、
アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレング
リコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレン
グリフール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ
)アクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N,
N−ジメチルアミノプロビルアクリルアミド、It,P
+−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレー}、N,
N−ジメチルアミノプロビル(メタ)アクリレート:非
水溶性モノマー(ジエチレングリコールジアクリレート
、 トリエチレング.リコーノレジアクリレート、プロ
ピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコ
ールジアクリレート、トリブロビレングリコーノレジア
クリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート
、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフ
リルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、 ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、グリセリンジグリシジルエ
ーテノレジアクリレート、グリセリントリグリシジルエ
ーテルトリアクリレート、ぺ冫タエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート
、ジベンタエリスリトールペンタアクリレート、ジベン
タエリスリトールへキサアクリレート、又は上記アクリ
レートに対応する各メタクリレート等)や、多塩基酸と
のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとのモノー
ジートリー又はそれ以上のポリエステル等が挙げられ
る。これらのうち好ましくは水溶性モノマーであり、特
に好ましくは2−ヒドロキシ(メタ)アクリレート、ア
クリロイルモルフオリンなどである。
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロビル(メタ)アクリレート、パービニルビロリドン、
アクリロイルモルフォリン、メトキシテトラエチレング
リコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレン
グリフール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、N,N−ジメチル(メタ
)アクリレート、N−メチロールアクリルアミド、N,
N−ジメチルアミノプロビルアクリルアミド、It,P
+−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレー}、N,
N−ジメチルアミノプロビル(メタ)アクリレート:非
水溶性モノマー(ジエチレングリコールジアクリレート
、 トリエチレング.リコーノレジアクリレート、プロ
ピレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコ
ールジアクリレート、トリブロビレングリコーノレジア
クリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート
、フェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフ
リルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、 ト
リメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、グリセリンジグリシジルエ
ーテノレジアクリレート、グリセリントリグリシジルエ
ーテルトリアクリレート、ぺ冫タエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート
、ジベンタエリスリトールペンタアクリレート、ジベン
タエリスリトールへキサアクリレート、又は上記アクリ
レートに対応する各メタクリレート等)や、多塩基酸と
のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートとのモノー
ジートリー又はそれ以上のポリエステル等が挙げられ
る。これらのうち好ましくは水溶性モノマーであり、特
に好ましくは2−ヒドロキシ(メタ)アクリレート、ア
クリロイルモルフオリンなどである。
エボキシ化合物としてはエボキシ変性樹脂(A)と相溶
するものなら特に限定されず、次のようなものが挙げら
れる。単官能エボキシ化合物としては、アリルグリシジ
ルエーテル、フェニルグリシジルエーテル等のグリシジ
ルエーテル類、アクリル酸グリシジルエステル、メタク
リル酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類、
その他としてグリシジルフタルイミド等が挙げられ、多
官能エポキシ化合物としては、エチレングリコールジグ
リシジノレエーテノレ、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、1.6−ヘキサンジオールジグリシジル
エーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル,アジピン酸ジグリシジルエステル、ビスフェノール
Aのジグリシジルエーテル、フェノールノボラックのポ
リグリシジルエーテル、オルトクレゾールノボラックの
ポリグリシジルエーテル、アルキルベンゼン変性フェノ
ールノポラックのポリグリシジルエーテル、レゾルシン
のジグリシジルエーテル、パラアミノフェノールのトリ
グリシジルエーテル等のフェノール系ポリグリシジルエ
ーテル類、その他ブタジエンジエポキサイド、3t 4
−エポキシシクロヘキシルメチル−(3.4−エポキシ
)シクロヘキサンカルボキシレート、4.4’−ジ(1
,2−エポキシエチル)ジフェニルエーテル、4.
4’ − (1.2−エポキシエチル)ビフェニル、2
,2−ビス(3.4−エポキシシクロヘキシル)プロパ
ン、フロログリシンのジグリシジルエーテル、メチルフ
ロログリシンのジグリシジルエーテル、ビスー(2.3
−エポキシシクロベンチル)エーテル、2−(3.4−
エボキシ)シクロヘキサン−5,5−スビロ(3.4−
エポキシ)一シクロヘキサン−一一ジオキサン、ビスー
(3.4エボキシ−〇一メチルシクロヘキシル)アジペ
ート、N.N’m−フェニレンビス(4. 5−エポキ
シ−1. 2シクロヘキサン)ジカルボキシイミドな
どの2官能エポキシ化合物類、1, 3. 5−}
り(1,2−エポキシエチル)ベンゼン、グリセリンの
トリグリシジルエーテル、 トリメチロールプロパンの
トリグリシジルエーテル等の3官能エポキシ化合物が挙
げらる。
するものなら特に限定されず、次のようなものが挙げら
れる。単官能エボキシ化合物としては、アリルグリシジ
ルエーテル、フェニルグリシジルエーテル等のグリシジ
ルエーテル類、アクリル酸グリシジルエステル、メタク
リル酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類、
その他としてグリシジルフタルイミド等が挙げられ、多
官能エポキシ化合物としては、エチレングリコールジグ
リシジノレエーテノレ、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテル、1.6−ヘキサンジオールジグリシジル
エーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテ
ル,アジピン酸ジグリシジルエステル、ビスフェノール
Aのジグリシジルエーテル、フェノールノボラックのポ
リグリシジルエーテル、オルトクレゾールノボラックの
ポリグリシジルエーテル、アルキルベンゼン変性フェノ
ールノポラックのポリグリシジルエーテル、レゾルシン
のジグリシジルエーテル、パラアミノフェノールのトリ
グリシジルエーテル等のフェノール系ポリグリシジルエ
ーテル類、その他ブタジエンジエポキサイド、3t 4
−エポキシシクロヘキシルメチル−(3.4−エポキシ
)シクロヘキサンカルボキシレート、4.4’−ジ(1
,2−エポキシエチル)ジフェニルエーテル、4.
4’ − (1.2−エポキシエチル)ビフェニル、2
,2−ビス(3.4−エポキシシクロヘキシル)プロパ
ン、フロログリシンのジグリシジルエーテル、メチルフ
ロログリシンのジグリシジルエーテル、ビスー(2.3
−エポキシシクロベンチル)エーテル、2−(3.4−
エボキシ)シクロヘキサン−5,5−スビロ(3.4−
エポキシ)一シクロヘキサン−一一ジオキサン、ビスー
(3.4エボキシ−〇一メチルシクロヘキシル)アジペ
ート、N.N’m−フェニレンビス(4. 5−エポキ
シ−1. 2シクロヘキサン)ジカルボキシイミドな
どの2官能エポキシ化合物類、1, 3. 5−}
り(1,2−エポキシエチル)ベンゼン、グリセリンの
トリグリシジルエーテル、 トリメチロールプロパンの
トリグリシジルエーテル等の3官能エポキシ化合物が挙
げらる。
溶剤としては本発明のエボキシ変性樹脂(A)及び他の
成分と相溶するものなら特に限定されないが、アミンイ
ミド基やエポキシ基が極性である為に極性溶剤が好まし
い。溶剤としては例えばアルコール(メタノール、エタ
ノール、i−プロバノール、第3ブタノール等)、セロ
ソルブ(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プチル
セロソルブ等)、カービトール(メチルカービトール、
エチルカーピトール等)、ケトン(アセトン、メチルエ
チルケトン等)、エステル(酢酸エチル、酢酸ブチル等
)、ニトリル(アセトニトリル等)が挙げられる。これ
らは単独または混合併用することができる。
成分と相溶するものなら特に限定されないが、アミンイ
ミド基やエポキシ基が極性である為に極性溶剤が好まし
い。溶剤としては例えばアルコール(メタノール、エタ
ノール、i−プロバノール、第3ブタノール等)、セロ
ソルブ(メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プチル
セロソルブ等)、カービトール(メチルカービトール、
エチルカーピトール等)、ケトン(アセトン、メチルエ
チルケトン等)、エステル(酢酸エチル、酢酸ブチル等
)、ニトリル(アセトニトリル等)が挙げられる。これ
らは単独または混合併用することができる。
上記の光重合性オリゴマー 光重合性モノマーエポキシ
化合物及び溶剤中の化合物は、それぞれ単独または混合
併用することも可能である。またこれら411の希釈剤
についても単独または混合併用することも可能である。
化合物及び溶剤中の化合物は、それぞれ単独または混合
併用することも可能である。またこれら411の希釈剤
についても単独または混合併用することも可能である。
各成分のエボキシ変性樹脂(A)に対する重量比は、光
重合性オリゴマー モノマーはトモに、通常1/100
〜50/Zoo, 好ましくは5/100〜30/1
00である。エポキシ化合物は、通常1/100〜10
0/log、好ましくは5/Zoo〜50/100であ
る。溶剤は、通常1/100〜40/100、好ましく
は10/100〜30/100である。
重合性オリゴマー モノマーはトモに、通常1/100
〜50/Zoo, 好ましくは5/100〜30/1
00である。エポキシ化合物は、通常1/100〜10
0/log、好ましくは5/Zoo〜50/100であ
る。溶剤は、通常1/100〜40/100、好ましく
は10/100〜30/100である。
本発明で使用される顔料(D)としては通常の体質顔料
:炭酸カルシウム、マイカ、カオリン、タルク、ケイ酸
アルミ、硫酸バリウム、微粉末シリカ、クレーなど、着
色用顔料; フタロシアニンプルー フタロシアニング
リーン、酸化チタン、カーボンブラックなど挙げられ、
これらを単独または混合して用いることができる。。こ
れらのうち好ましくは硫酸バリウム、タルク、微粉末シ
リカ、フタロシア二ングリーンであり、特に好ましくは
タルク、微粉末シリカ、フタロシアニングリーンである
。
:炭酸カルシウム、マイカ、カオリン、タルク、ケイ酸
アルミ、硫酸バリウム、微粉末シリカ、クレーなど、着
色用顔料; フタロシアニンプルー フタロシアニング
リーン、酸化チタン、カーボンブラックなど挙げられ、
これらを単独または混合して用いることができる。。こ
れらのうち好ましくは硫酸バリウム、タルク、微粉末シ
リカ、フタロシア二ングリーンであり、特に好ましくは
タルク、微粉末シリカ、フタロシアニングリーンである
。
各顔料成分のエボキシ変性樹脂(A)に対する重量比は
、体質顔料の場合通常 0.5/100〜50/100
. 好ましくは1/100〜40/100である。着
色用顔料は通常0.1/100〜5/1001 好まし
くは0.5/100〜3/100である。
、体質顔料の場合通常 0.5/100〜50/100
. 好ましくは1/100〜40/100である。着
色用顔料は通常0.1/100〜5/1001 好まし
くは0.5/100〜3/100である。
本発明の感光性樹脂組成物は、゛上記の(A)〜(D)
の組成からなるが、必要により下記のものを添加しても
よい。それらは通常の増感剤、熱重合禁止剤、密着性向
上剤、エボキシ硬化剤、化学めっき抑制剤、レベリング
剤、消泡剤などであり、これらを単独または混合併用し
てもよい。
の組成からなるが、必要により下記のものを添加しても
よい。それらは通常の増感剤、熱重合禁止剤、密着性向
上剤、エボキシ硬化剤、化学めっき抑制剤、レベリング
剤、消泡剤などであり、これらを単独または混合併用し
てもよい。
増感剤としては例えば、アミン類(脂肪族アミン、芳香
族アミン、複素環系アミン等)、尿素類(アリル系、チ
オ尿素系等)、イオウ化合物(ナトリウムジエチルジチ
オホスフェート、芳香族スルフィン酸の可溶性塩等)、
ニトリル(L N−ジ置換一p−アミノベンゾニトリ
ル系化合物等)、リン化合物(トリーn−プチルホスフ
ィン、ナトリウムジエチルジチオホスフェート等)、そ
の他の化合物(N−ニトロソヒドロキシルアミン誘導体
、オキサゾリン化合物、テトラヒド口−1.3−オキサ
ジン化合物、ミヒラーケトン等)が挙げられる。
族アミン、複素環系アミン等)、尿素類(アリル系、チ
オ尿素系等)、イオウ化合物(ナトリウムジエチルジチ
オホスフェート、芳香族スルフィン酸の可溶性塩等)、
ニトリル(L N−ジ置換一p−アミノベンゾニトリ
ル系化合物等)、リン化合物(トリーn−プチルホスフ
ィン、ナトリウムジエチルジチオホスフェート等)、そ
の他の化合物(N−ニトロソヒドロキシルアミン誘導体
、オキサゾリン化合物、テトラヒド口−1.3−オキサ
ジン化合物、ミヒラーケトン等)が挙げられる。
熱重合禁止剤としては例えば、ハイドロキノン、ハイド
ロキノンモノメチルエーテル、ビロガロール、ターシャ
リープチルカテコール、フェノチアジン等が挙げられる
。
ロキノンモノメチルエーテル、ビロガロール、ターシャ
リープチルカテコール、フェノチアジン等が挙げられる
。
密着性向上剤としては、例えばべ冫ゾトリアゾール等が
挙げられる。
挙げられる。
エボキシ硬化剤としては通常のトリフェニルホスフィン
、亜リン酸トリフェニル等のリン系化合物類、2−メチ
ルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウン
デシルイミダゾール、2ーヘプタデシルイミダゾール、
2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール
類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,
4, 6,一トリス(ジメチルアミノメチル)フェ
ノール、ベンジルジメチルアミン、α−メチノレベンジ
ノレメチルアミン等の第3級アミン類、1,8−ジアザ
ビシクロ(5, 4. 0)ウンデセン−7等の有
機酸塩類、無水メチルハイミック酸、・無水フタル酸、
無水マレイン酸、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバミ
ック酸無水物、ドデセニル無水コハク酸等の酸無水物が
挙げられる。
、亜リン酸トリフェニル等のリン系化合物類、2−メチ
ルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウン
デシルイミダゾール、2ーヘプタデシルイミダゾール、
2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール
類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,
4, 6,一トリス(ジメチルアミノメチル)フェ
ノール、ベンジルジメチルアミン、α−メチノレベンジ
ノレメチルアミン等の第3級アミン類、1,8−ジアザ
ビシクロ(5, 4. 0)ウンデセン−7等の有
機酸塩類、無水メチルハイミック酸、・無水フタル酸、
無水マレイン酸、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバミ
ック酸無水物、ドデセニル無水コハク酸等の酸無水物が
挙げられる。
化学めっき抑制剤としては通常のトリアゾール、べ冫ゾ
トリアゾーノレ、アジミドトルエン、チオ尿素、メルカ
プトベンゾチアゾールなどが挙げられる。
トリアゾーノレ、アジミドトルエン、チオ尿素、メルカ
プトベンゾチアゾールなどが挙げられる。
レベリング剤としては通常のもの、例えばモンサンド社
製モダフロー等が使用できる。
製モダフロー等が使用できる。
消泡剤としては通常のシリコーンオイル系消泡剤が挙げ
られる。
られる。
本発明の感光性樹脂組成物は種々のプリント配線板用銅
張り積層板、アルミ板等の金属板及び銅箔のないプラス
ティック板(紙基材フェノール樹脂積層板、ガラス布基
材ポリエステル樹脂積層板、ガラス布基材エポキシ樹脂
積層板、ポリサルフォン樹脂積層板、ポリエーテルサル
フォン樹脂積層板、ポリエーテルイミド樹脂積層板、ガ
ラス布基材テフロン樹脂積層板、ポリイミト樹脂積層板
等)に適用可能である。
張り積層板、アルミ板等の金属板及び銅箔のないプラス
ティック板(紙基材フェノール樹脂積層板、ガラス布基
材ポリエステル樹脂積層板、ガラス布基材エポキシ樹脂
積層板、ポリサルフォン樹脂積層板、ポリエーテルサル
フォン樹脂積層板、ポリエーテルイミド樹脂積層板、ガ
ラス布基材テフロン樹脂積層板、ポリイミト樹脂積層板
等)に適用可能である。
塗布量としては通常0 .2g/m” +00g/m”
、好ましくは0.5g/m2〜70g/m2である。
、好ましくは0.5g/m2〜70g/m2である。
適用方法としては、スクリーン印刷機、ロールコーター
カーテンコーターなどで塗布する方法、刷毛、ヘラ等
で塗る方法、及び浸漬する方法が挙げられる。
カーテンコーターなどで塗布する方法、刷毛、ヘラ等
で塗る方法、及び浸漬する方法が挙げられる。
現像液としては通常の工業用水、上水、イオン交換水、
通常の界面活性剤の水溶液、無機酸、有機酸の水溶液、
アルコール系有機溶剤及びその水溶液が挙げられ、これ
らは単独または併用してもよい。
通常の界面活性剤の水溶液、無機酸、有機酸の水溶液、
アルコール系有機溶剤及びその水溶液が挙げられ、これ
らは単独または併用してもよい。
界面活性剤としては通常のカチオン系界面活性剤、アエ
オン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、例えば、ポ
リエチレングリコール型(高級アルコールエチレンオキ
サイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加物、アリールフェノールエチレンオキサイド付加物
、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂
肪酸エステルエチレンオキサイト゜付加物、高級アルコ
ールアルキルアミンエチレンオキサイド付加物、1]W
ff[アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレ
ンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレ
ンオキサイド付加物など)多価アルコール型(クリセロ
ールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸
エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステ
ル、シ1糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキ
ルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミドなど
)が挙げられる。これらのうち好ましくはアルキルフェ
ノールエチレンオキサイド付加物、アリールフェノール
エチレンオキサイド付加物である。
オン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、例えば、ポ
リエチレングリコール型(高級アルコールエチレンオキ
サイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加物、アリールフェノールエチレンオキサイド付加物
、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、多価アルコール脂
肪酸エステルエチレンオキサイト゜付加物、高級アルコ
ールアルキルアミンエチレンオキサイド付加物、1]W
ff[アミドエチレンオキサイド付加物、油脂のエチレ
ンオキサイド付加物、ポリプロピレングリコールエチレ
ンオキサイド付加物など)多価アルコール型(クリセロ
ールの脂肪酸エステル、ペンタエリスリトールの脂肪酸
エステル、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステ
ル、シ1糖の脂肪酸エステル、多価アルコールのアルキ
ルエーテル、アルカノールアミン類の脂肪酸アミドなど
)が挙げられる。これらのうち好ましくはアルキルフェ
ノールエチレンオキサイド付加物、アリールフェノール
エチレンオキサイド付加物である。
無機酸としてはほう酸、燐酸、塩酸、硫酸等、脊機酸と
しては酢酸、蟻酸、酒石酸、し}lロキν酢酸等が挙げ
られる。
しては酢酸、蟻酸、酒石酸、し}lロキν酢酸等が挙げ
られる。
アルコール系有機溶剤としては、脂肪族アルコールとし
てメタノール、エタノール、n−プロパノール、1−プ
ロパノール、n−ブタノール等)、セロソルブとしてメ
チルセロソルブ、エチルセロンルブ、プチルセロソルブ
等、カービトールとしてメチルカービトール、エチルカ
ービトール等が挙げられる。
てメタノール、エタノール、n−プロパノール、1−プ
ロパノール、n−ブタノール等)、セロソルブとしてメ
チルセロソルブ、エチルセロンルブ、プチルセロソルブ
等、カービトールとしてメチルカービトール、エチルカ
ービトール等が挙げられる。
界面活性剤は通常0.Ol〜2 v t%1 好まし
くは0.05〜lvt%の濃度で使用される。
くは0.05〜lvt%の濃度で使用される。
無機酸、有機酸は通常0.1〜10vt%、好ましくは
0.5〜5vt%の濃度で使用される。
0.5〜5vt%の濃度で使用される。
アルコール系有機溶剤は通常lG〜1 0 0 v t
%, 好ましくは20〜50vt%の濃度で使用され
る。
%, 好ましくは20〜50vt%の濃度で使用され
る。
現像方法としてはシャワー スプレー 浸漬等の方法が
挙げられる。これらのうち好ましくは、スプレーである
。
挙げられる。これらのうち好ましくは、スプレーである
。
硬化方法は、通常光照射による方法及び熱硬化による方
法が使用できるが、それぞれ単独の硬化方法でもよいし
、両者を併用してもよい。好ましくは光照射により硬化
したのちに熱硬化する、二方法の併用がよい。
法が使用できるが、それぞれ単独の硬化方法でもよいし
、両者を併用してもよい。好ましくは光照射により硬化
したのちに熱硬化する、二方法の併用がよい。
光による硬化には、次ぎのような照射光源が適当である
。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高
圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハロゲンランプ、電
子線照射装置、X線照射装置、レーザー(アルゴンレー
ザー 色素レーザー窒素レーザー ヘリウムカドミウム
レーザー等)等がある。これらのうち、好ましくは高圧
水銀灯及び超高圧水銀灯である。
。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高
圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハロゲンランプ、電
子線照射装置、X線照射装置、レーザー(アルゴンレー
ザー 色素レーザー窒素レーザー ヘリウムカドミウム
レーザー等)等がある。これらのうち、好ましくは高圧
水銀灯及び超高圧水銀灯である。
加熱装置としては、通常の循風乾燥器、電気炉、ガス炉
、遠赤外炉等が使用できる。
、遠赤外炉等が使用できる。
加熱硬化温度は通常120℃以上、好ましくは135゜
C〜200℃またはそれ以上である。硬化時間は、10
分〜120分、好ましくは20分〜60分である。
C〜200℃またはそれ以上である。硬化時間は、10
分〜120分、好ましくは20分〜60分である。
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明は
これに限定されるものではない。以下において部はそれ
ぞれ重量部を示す。
これに限定されるものではない。以下において部はそれ
ぞれ重量部を示す。
実施例1
還流器、滴下ロート及び攪拌装置を備えた4ロコルベン
にエボキシ当jl202のクレゾールノボラックエボキ
シ樹脂(住友化学工業(株)製 スミーエボキシ ES
CN−195)100g及びプチルセロンルブ 20g
を入れて約50℃で溶解した。均一になったところ
で、モノエタノールアミン0.9gを加え70℃で3時
間反応した。
にエボキシ当jl202のクレゾールノボラックエボキ
シ樹脂(住友化学工業(株)製 スミーエボキシ ES
CN−195)100g及びプチルセロンルブ 20g
を入れて約50℃で溶解した。均一になったところ
で、モノエタノールアミン0.9gを加え70℃で3時
間反応した。
終点は、ガスクロマトグラフィー(以下GCと略記)に
よるモノエタノールアミンのピークの消失によって確認
した。次に、メチルメタクリレート19.8gを加えて
均一になるまで攪拌したのち、非対称ジメチルヒドラジ
ン 11.9g を50℃以下で1時間かけて滴下し
て、さらに約80℃で3時間反応させた。反応は、GC
で追跡し、原料ピークの消失を確認したのち生成物のI
Rスペクトルによりアミンイミド基が生成(1500c
m一言〜IE350cm−’に現れるGO−N−の吸収
)していることを確認した。ここにアクリル酸14.3
gとトリフェニノレフォスフィン0.79gt加,tた
。これを100℃で5時間反応させたところ系内の酸価
は、ほぼOとなった。これによって得たエポキシ変性樹
脂を(A−1)と略記する。
よるモノエタノールアミンのピークの消失によって確認
した。次に、メチルメタクリレート19.8gを加えて
均一になるまで攪拌したのち、非対称ジメチルヒドラジ
ン 11.9g を50℃以下で1時間かけて滴下し
て、さらに約80℃で3時間反応させた。反応は、GC
で追跡し、原料ピークの消失を確認したのち生成物のI
Rスペクトルによりアミンイミド基が生成(1500c
m一言〜IE350cm−’に現れるGO−N−の吸収
)していることを確認した。ここにアクリル酸14.3
gとトリフェニノレフォスフィン0.79gt加,tた
。これを100℃で5時間反応させたところ系内の酸価
は、ほぼOとなった。これによって得たエポキシ変性樹
脂を(A−1)と略記する。
次に下記の配合成分(a)を三本ロールミルにより混練
して感光性樹脂組成物をIi製した。
して感光性樹脂組成物をIi製した。
配合成分(a)
(A−1)
100gベンジルジメチルケタール
3部(Ciba−Geig’7製1 rgacure
Ili51)ビスコート540
20部(大阪有機化学工業(株)製 ビスフェノールA型エポキシアクリレート)トリメチロ
ールプロパン トリアクリレート 10部硫酸バリウム
30部アエロジル200
1部(日本アエロジル工業製微粉
末シリカ)フタロシアニングリーン
1部モダフロ− 1部(
モンサント社製レベリング剤) 次にこの感光性樹脂組成物を銅箔35μmのガラスエポ
キシ基材の銅張積層板およびこれを予めエッチングして
パターンを形成しておいたプリント配線板の全面にスク
リーン印刷法(150メッシュ;テトロン)により塗布
した。これを循風乾量器で70℃、30分間乾燥して得
たもののテストビースNo. をそれぞれ1 − F
, 1 − Pと略記する。
100gベンジルジメチルケタール
3部(Ciba−Geig’7製1 rgacure
Ili51)ビスコート540
20部(大阪有機化学工業(株)製 ビスフェノールA型エポキシアクリレート)トリメチロ
ールプロパン トリアクリレート 10部硫酸バリウム
30部アエロジル200
1部(日本アエロジル工業製微粉
末シリカ)フタロシアニングリーン
1部モダフロ− 1部(
モンサント社製レベリング剤) 次にこの感光性樹脂組成物を銅箔35μmのガラスエポ
キシ基材の銅張積層板およびこれを予めエッチングして
パターンを形成しておいたプリント配線板の全面にスク
リーン印刷法(150メッシュ;テトロン)により塗布
した。これを循風乾量器で70℃、30分間乾燥して得
たもののテストビースNo. をそれぞれ1 − F
, 1 − Pと略記する。
実施例2
配合成分(a)
(A−1)
100部
ペンゾインインプロビルエーテノレ
3部
XP−4200
(日本合成化学工業(株)製
ウレタンアクリレート)
ネオペンチルグリコールジアクリレート炭酸カルシウム
アエロジル200
1−ベンジル−2−メチルイミダゾールフタロシアニン
グリーン モダフロ− 配合成分(b) エピコート828 (油化シェルエポキシ(株)製 ビスフェノールA型エポキシ化合物) グリセリンジグリシジルエーテル 25部 16部 35部 1部 3部 1部 1部 7部 5部 配合成分(a)を実施例lと同様にインキ化したのち、
配合成分(b)と混合して感光性樹脂組成物を得た。こ
れをさらに実施例1と同様にテストビースN o.
2 − F, 2 − Pを作製した。
グリーン モダフロ− 配合成分(b) エピコート828 (油化シェルエポキシ(株)製 ビスフェノールA型エポキシ化合物) グリセリンジグリシジルエーテル 25部 16部 35部 1部 3部 1部 1部 7部 5部 配合成分(a)を実施例lと同様にインキ化したのち、
配合成分(b)と混合して感光性樹脂組成物を得た。こ
れをさらに実施例1と同様にテストビースN o.
2 − F, 2 − Pを作製した。
実施例3
配合成分(a)
(A−1) 100部ダロキ
ュア1173 3部(メルク社製
光重合開始剤) V−90 20部(昭和
高分子(株)製 ビスフェノールS型エポキシアクリレート)ジエチレン
グリコールジアクリレート 10部ヒドロキシエチル
メタクリレート 10部タルク
35部アエロジルsoo
t部2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール 4部フタロシアニングリーン
1部配合成分(b) エピクロンEXA− 1 5 1 4 1
5部(大日本インキ化学工業(株)製 ビスフェノールS型エポキシ化合物) ヘキサメチレングリコール ジグリシジルエーテル 5部 エチルカービトール 10部 これらについて実施例1と同様に感光性樹脂組成物を得
た後、テストビースN o. 3 − F13 −
Pを作製した。
ュア1173 3部(メルク社製
光重合開始剤) V−90 20部(昭和
高分子(株)製 ビスフェノールS型エポキシアクリレート)ジエチレン
グリコールジアクリレート 10部ヒドロキシエチル
メタクリレート 10部タルク
35部アエロジルsoo
t部2−エチル−4−メチルイミダ
ゾール 4部フタロシアニングリーン
1部配合成分(b) エピクロンEXA− 1 5 1 4 1
5部(大日本インキ化学工業(株)製 ビスフェノールS型エポキシ化合物) ヘキサメチレングリコール ジグリシジルエーテル 5部 エチルカービトール 10部 これらについて実施例1と同様に感光性樹脂組成物を得
た後、テストビースN o. 3 − F13 −
Pを作製した。
実施例4
還流器、滴下ロート及び攪拌装置を備えた四ロコルベン
にエポキシ当量110のグリシジルアミン型エポキシ樹
脂(スミエポキシELM−434)1 0 0 g,
プチルカービトール25g及び乳酸エチル53.7g
を入れて約50℃で加熱溶解した。
にエポキシ当量110のグリシジルアミン型エポキシ樹
脂(スミエポキシELM−434)1 0 0 g,
プチルカービトール25g及び乳酸エチル53.7g
を入れて約50℃で加熱溶解した。
均一になったところで非対称ジメチルヒドラジン27.
3gを50℃以下で1時間かけて滴下したのち、さらに
約80℃で3時間反応させた。反応は、GCで追跡し原
料ピークの消失を確認したのち、生成物のIRスペクト
ルによりアミンイミド基が生成していることを確認した
。ここにアクリルM28.2gとテトラブチルアンモニ
ウムブロマイド1.40gを加えた。これを100℃で
S時間反応させたところ酸価はほぼOになった。これに
よって得たエボキシ変性樹脂を(A−2)と略記する。
3gを50℃以下で1時間かけて滴下したのち、さらに
約80℃で3時間反応させた。反応は、GCで追跡し原
料ピークの消失を確認したのち、生成物のIRスペクト
ルによりアミンイミド基が生成していることを確認した
。ここにアクリルM28.2gとテトラブチルアンモニ
ウムブロマイド1.40gを加えた。これを100℃で
S時間反応させたところ酸価はほぼOになった。これに
よって得たエボキシ変性樹脂を(A−2)と略記する。
配合成分(a)
(A−2)
2−エチルアントラキノン
XP−4200
(日本合成化学工業(株)製
ウレタンアクリレート)
N−ビニルビロリドン
炭酸カルシウム
アエロジル200
フタロシアニングリーン
モダフロー
100部
2.5部
25部
10部
30部
1部
1部
0. 5部
これらを実施例1と同様にインキ化して感光性樹脂組成
物を得た後、テストビースN o.4 − F14−P
を作製した。
物を得た後、テストビースN o.4 − F14−P
を作製した。
実施例5
配合成分(a)
(A−2) Zoo部ペンゾ
インイソプロビノレエーテル 3部ビスコー
ト540 (大阪有機化学工業(株)製 ビスフェノールA型エポキシアクリレート)ペンタエリ
スリトールトリアクリレート 10部アクリロイルモル
フォリン 10部硫酸バリウム
40部アエロジル200
2部フタロシアニングリーン
2部2−フェニルイミダゾール
3部配合成分(b) エビコー}1001 8部(
油化シェルエポキシ(株)製 ビスフェノール型エポキシ化合物) 1.4−ブタンジオール ジグリシジルエーテル 4部 これらを実施例1と同様にインキ化して感光性樹脂組成
物を得たのち、テストピースN o− 5 − FN
5−Pを作製した。
インイソプロビノレエーテル 3部ビスコー
ト540 (大阪有機化学工業(株)製 ビスフェノールA型エポキシアクリレート)ペンタエリ
スリトールトリアクリレート 10部アクリロイルモル
フォリン 10部硫酸バリウム
40部アエロジル200
2部フタロシアニングリーン
2部2−フェニルイミダゾール
3部配合成分(b) エビコー}1001 8部(
油化シェルエポキシ(株)製 ビスフェノール型エポキシ化合物) 1.4−ブタンジオール ジグリシジルエーテル 4部 これらを実施例1と同様にインキ化して感光性樹脂組成
物を得たのち、テストピースN o− 5 − FN
5−Pを作製した。
実施例6
配合成分(a)
(A−2) 100部2−エ
チノレアントラキノン 3部ZX−8
73 15部(東都化成(株
)製 ノボラック型エポキシアクリレート) ジペンタエリスリトール ヘキサアクリレート 5部2−ヒドロキシ
エチルアクリレー} 10部タルク
35部アエロジル200
1部2−エチル−4−メチルイミ
ダゾール 3部フタロシアニングリーン 2部 配合成分(b) デナコール EX−301 17部(ナ
ガセ化成工業(株) インシアヌレート型トリグリジルエーテル)トリプロピ
レングリコール ジグリシジルエーテル 4部 これらを実施例1と同様にインキ化して感光性樹脂組成
物を得たのち、テストピースN o− 8 − F1
8−Pを作製した。
チノレアントラキノン 3部ZX−8
73 15部(東都化成(株
)製 ノボラック型エポキシアクリレート) ジペンタエリスリトール ヘキサアクリレート 5部2−ヒドロキシ
エチルアクリレー} 10部タルク
35部アエロジル200
1部2−エチル−4−メチルイミ
ダゾール 3部フタロシアニングリーン 2部 配合成分(b) デナコール EX−301 17部(ナ
ガセ化成工業(株) インシアヌレート型トリグリジルエーテル)トリプロピ
レングリコール ジグリシジルエーテル 4部 これらを実施例1と同様にインキ化して感光性樹脂組成
物を得たのち、テストピースN o− 8 − F1
8−Pを作製した。
比較例1
下記配合成分(a)を実施例1と同様に混練したのち、
配合成分(b)と混合して比較例の感光性樹脂組成物と
した。これをさらに実施例1と同様に処理してテストビ
ースNo.比1−F,比1−Pとした。
配合成分(b)と混合して比較例の感光性樹脂組成物と
した。これをさらに実施例1と同様に処理してテストビ
ースNo.比1−F,比1−Pとした。
配合成分(a)
スミーエポキシ ESCN−195 30部(住
友化学工業(株)製 クレゾールノボラックエボキシ樹脂) ビスコート540 20部(大
阪有機化学工業(株)製 ビスフェノールA型エポキシアクリレート)トリメチロ
ールブロバン トリアクリレート 10部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 8部ベンジ
ルジメチルケタール 2部無水フタル酸
18部プチルセロソルブア
セテート 15部硫酸バリウム
30部アエロジル200
1部フタロシアニングリーン
1部モダフロ− 1
部配合成分(b) 2−エチル−4−メチルイミダゾール 2部 比較例2 配合成分(a) スミーエポキシ ELM−195 30部(住
友化学工業(株)製 グリシジルアミン型エボキシ樹脂) ビスコート540 20部(大
阪有機化学工業(株) ビスフェノールA型エポキシアクリレート)トリメチロ
ーノレプロパン トリアクリレート 10部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 18部無水フ
タル酸 18部ベンジルジメ
チルケタール 2部タルク
35部アエロジル200
2部フタロシアニングリーン
2部カービトールアセテート
20部配合成分(b) 比較例1と同様に上記配合成分(a)、 (b)から感
光性樹脂組成物を得たのち、テストピースNO.比2−
F1 比2−Pを作製した。
友化学工業(株)製 クレゾールノボラックエボキシ樹脂) ビスコート540 20部(大
阪有機化学工業(株)製 ビスフェノールA型エポキシアクリレート)トリメチロ
ールブロバン トリアクリレート 10部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 8部ベンジ
ルジメチルケタール 2部無水フタル酸
18部プチルセロソルブア
セテート 15部硫酸バリウム
30部アエロジル200
1部フタロシアニングリーン
1部モダフロ− 1
部配合成分(b) 2−エチル−4−メチルイミダゾール 2部 比較例2 配合成分(a) スミーエポキシ ELM−195 30部(住
友化学工業(株)製 グリシジルアミン型エボキシ樹脂) ビスコート540 20部(大
阪有機化学工業(株) ビスフェノールA型エポキシアクリレート)トリメチロ
ーノレプロパン トリアクリレート 10部 2−ヒドロキシエチルアクリレート 18部無水フ
タル酸 18部ベンジルジメ
チルケタール 2部タルク
35部アエロジル200
2部フタロシアニングリーン
2部カービトールアセテート
20部配合成分(b) 比較例1と同様に上記配合成分(a)、 (b)から感
光性樹脂組成物を得たのち、テストピースNO.比2−
F1 比2−Pを作製した。
比較例3
配合成分(a)
デナコール EX−301 35部(ナ
ガセ化成工業(株) イソシアヌレート型トリグリジルエーテル)XP−42
00 25部(日本合成化学工
業(株)製 ウレタンアクリレート) ネオペンチルグリコールジアクリレート 10部アクリ
ロイルモルフォリン 6部ダロキュア1
173 3部(メルク社製光重
合開始剤) 無水フタル酸 20部炭酸カ
ルシウム 30部アエロジル2
00 1部2−エチル−4−メ
チルイミダゾール 2部 モダフロ− 1部 フタロシアニングリーン 2部 プチルセロソルブアセテート 10部 能なため、現像液として「エターナIRJ(旭化成工業
(株)製の変性1,1.1−}リクロロエタン)を用い
た結果である。
ガセ化成工業(株) イソシアヌレート型トリグリジルエーテル)XP−42
00 25部(日本合成化学工
業(株)製 ウレタンアクリレート) ネオペンチルグリコールジアクリレート 10部アクリ
ロイルモルフォリン 6部ダロキュア1
173 3部(メルク社製光重
合開始剤) 無水フタル酸 20部炭酸カ
ルシウム 30部アエロジル2
00 1部2−エチル−4−メ
チルイミダゾール 2部 モダフロ− 1部 フタロシアニングリーン 2部 プチルセロソルブアセテート 10部 能なため、現像液として「エターナIRJ(旭化成工業
(株)製の変性1,1.1−}リクロロエタン)を用い
た結果である。
配合成分(b)
2−エチル−4−メチルイミダゾール
3部
表 1
比較例1と同様にしてインキ化して感光性樹脂組成物を
得たのち、テストピースNo. 比3−F1比3−P
を作製した。
得たのち、テストピースNo. 比3−F1比3−P
を作製した。
試験例1
上記実施例1〜6および比較例1〜3で作製した各テス
トビースの上にネガ型パターンフィルムを密着させて、
照度が12mW/CJである露光装置(ウシオユーテッ
ク(株)製 明室ハニカムプリンター)による各照射時
間毎の光硬化性と、この露光後のイオン交換水のシャワ
ーによる現像時の現像性、解像度を測定し表1〜3にま
とめた。ただし比較例についてはイオン交換水による現
像が不可光硬化性 それぞれのテストピースに紫外線 を照射し、次いでlkg/ca+”のイオン交換水でl
分間現像したのちの塗膜 の状態を目視判定した。
トビースの上にネガ型パターンフィルムを密着させて、
照度が12mW/CJである露光装置(ウシオユーテッ
ク(株)製 明室ハニカムプリンター)による各照射時
間毎の光硬化性と、この露光後のイオン交換水のシャワ
ーによる現像時の現像性、解像度を測定し表1〜3にま
とめた。ただし比較例についてはイオン交換水による現
像が不可光硬化性 それぞれのテストピースに紫外線 を照射し、次いでlkg/ca+”のイオン交換水でl
分間現像したのちの塗膜 の状態を目視判定した。
全く変化が認められないもの
表面が僅かに変化しているもの
表面が顕著に変化しているもの
塗膜が脱落してしまうもの
表 2
上記表2中の評価判定基準は下記の通りである。
現像性
◎
0
Δ
×
それぞれのテストピースを[io秒間
露光したのち、Ikg/c−のイオン交換水で現像を行
ったときの各時間 毎の現像性をWi微鏡にて目視判定 した。
ったときの各時間 毎の現像性をWi微鏡にて目視判定 した。
細かいところまで完全に現像でき
たもの
基板表面に薄く現像できないとこ
ろがあるもの
現像できていないところがかなり
あるもの
ほとんど現像されていないもの
表
3
◎ 50μm未満のラインアンドスペースが得ら
れたもの 050〜100μmのラインアンドスペースが得られた
もの Δ 100μm以上のラインアンドスペースが
得られたもの × ラインアンドスペースが得られなかったも
の 解像度 それぞれのテストビースをBO秒間 露光したのち、Ikg/am”のイオン交換水で現像を
行ったときの各時間 毎の解像度を顕微鏡にて目視判定 した。
れたもの 050〜100μmのラインアンドスペースが得られた
もの Δ 100μm以上のラインアンドスペースが
得られたもの × ラインアンドスペースが得られなかったも
の 解像度 それぞれのテストビースをBO秒間 露光したのち、Ikg/am”のイオン交換水で現像を
行ったときの各時間 毎の解像度を顕微鏡にて目視判定 した。
試験例2
試験例1と同様に露光したテストビースについて現像液
を1wt%ノ二ボール90(三洋化成工業製; ノニル
フェノールエチレンオキサイド9モル付加物)イオン交
換水水溶液にかえて現像を行ない現像性、解像度を測定
し表4,5にまとめた。
を1wt%ノ二ボール90(三洋化成工業製; ノニル
フェノールエチレンオキサイド9モル付加物)イオン交
換水水溶液にかえて現像を行ない現像性、解像度を測定
し表4,5にまとめた。
表 4
◎
0
Δ
×
細かいところまで完全に現像でき
たもの
基板表面に薄く現像できないとこ
ろがあるもの
現像できていないところがかなり
あるもの
ほとんど現像されていないもの
表 5
現像性
それぞれのテストピースをGO秒間
露光したのち、lkg/c+mffiの上記現像液で現
像を行ったときの各時間毎 の現像性を顕微鏡にて目視判定し た。
像を行ったときの各時間毎 の現像性を顕微鏡にて目視判定し た。
上記表5中の評価判定基準は下記の通りである。
解像度
◎
0
Δ
×
それぞれのテストビースを80秒間
露光したのちN Ikg/am’の上記現像液で現像
を行ったときの各時間毎 の解像度を顕微鏡にて目視判定し た。
を行ったときの各時間毎 の解像度を顕微鏡にて目視判定し た。
50μm未満のラインアンドスペー
スが得られたもの
50〜100μmのラインアンドスペースが得られたも
の 100μm以上のラインアンドスペ ースが得られたもの ラインアンドスペースが得られな かったもの をエッチングしたときの耐エッチング液性等を測定し表
6にまとめた。
の 100μm以上のラインアンドスペ ースが得られたもの ラインアンドスペースが得られな かったもの をエッチングしたときの耐エッチング液性等を測定し表
6にまとめた。
表 6
試験例3
試験例1と同様に露光(照射時間二 80秒)、現像(
lkg/cm黛×90秒)したテストピースをエッチン
グマシーン(東京化工機(株)製)で銅箔なお上記表6
中の各性能の評価判定は下記の通りである。
lkg/cm黛×90秒)したテストピースをエッチン
グマシーン(東京化工機(株)製)で銅箔なお上記表6
中の各性能の評価判定は下記の通りである。
密着性
JIS D−0202の試験法に従ってそれぞれの◎
0
テストビースにゴバン目状にクロスカットを入れ、次い
でセロファンテープによるビーリング試験後の剥がれの
状態を目視により判定した。
でセロファンテープによるビーリング試験後の剥がれの
状態を目視により判定した。
100/100で全く変化が認められないもの
100/100で線の際が僅かに剥がれたちの
Δ
50/100〜90/100
×
0/100〜50/100
鉛筆硬度
JIS K−5400の試験法に従って鉛筆硬度試験機
を用いて荷重IKgをかけた際の皮膜に傷が付かない最
も高い硬度を以て 表示した。使用した鉛筆は「三菱ハイ ユニ」(三菱鉛筆(株)製品)である。
を用いて荷重IKgをかけた際の皮膜に傷が付かない最
も高い硬度を以て 表示した。使用した鉛筆は「三菱ハイ ユニ」(三菱鉛筆(株)製品)である。
耐エッチング液性
現像の終ったそれぞれのテストビ
50℃の条件で35μmの銅箔が完全
にエッチングされるまでの時間、
エッチング液にさらしたのちの塗
膜の状態を目視判定した。
E−1 塩化第二銅エッチング液E−2
塩化第二鉄エッチング液◎ 全く変化が認め
られないもの0 塗膜の際が僅かに浮き上がっ
たもの Δ 塗膜際が剥がれたもの × 塗膜全体が剥がれたもの 試験例4 試験例!と同様に作製したテストピースをさらに150
℃で1時間加熱を行い完全硬化後のソルダーレジストと
しての塗膜特性を測定し表7〜9にまとめた。
塩化第二鉄エッチング液◎ 全く変化が認め
られないもの0 塗膜の際が僅かに浮き上がっ
たもの Δ 塗膜際が剥がれたもの × 塗膜全体が剥がれたもの 試験例4 試験例!と同様に作製したテストピースをさらに150
℃で1時間加熱を行い完全硬化後のソルダーレジストと
しての塗膜特性を測定し表7〜9にまとめた。
−スをスプレー圧1 .5kg/cd、液温表
8
イクルとして、各サイクルでの塗膜
の ”フクレ”と密着性とを総合的
に判定し評価した。なお水溶性ブラ
ックスとしては、ケンコ社の旧83を
ロジン系フラックスとしてはタムラ
製作所の8−111Rを使用した。
全く変化が認められないもの
ltA,の僅か変化しているもの
塗膜の10%未満が剥がれたもの
塗膜が全面的に剥がれたちの
上記表7〜s中の各性能の評価判定は下記の通りである
。なお密着性および鉛筆硬度については表6と同じであ
る。
。なお密着性および鉛筆硬度については表6と同じであ
る。
半田耐熱性
JIS− 6481の試験法に従って、それぞれのテス
トピースを260℃の半田 浴にIO秒間フロートさせるのを1サ 耐薬品性 それぞれのテストビースを下記薬品中 に、25℃で30分浸漬したのちの塗膜の状態と密着性
とを総合的に判定し評価 した。
トピースを260℃の半田 浴にIO秒間フロートさせるのを1サ 耐薬品性 それぞれのテストビースを下記薬品中 に、25℃で30分浸漬したのちの塗膜の状態と密着性
とを総合的に判定し評価 した。
10vol%LsOa
10vt%NaOH
アセトン
塩化メチレン
全く変化が認められないもの
ほんの僅か変化しているもの
顕著に変化しているもの
塗膜が膨潤して脱落したちの
産業上利用価値が高い。
上記効果を奏することから本発明の組成物はプリント配
線板の回路形成用レジストインキ及びンルダーレジスト
インキとして有用である。
線板の回路形成用レジストインキ及びンルダーレジスト
インキとして有用である。
電気抵抗
JIS−3197に従って、それぞれのテストビースに
ついての表面抵抗、 体積抵抗、絶縁抵抗をタケダ理研
ついての表面抵抗、 体積抵抗、絶縁抵抗をタケダ理研
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、(A)ポリエポキシ化合物に非対称ジアルキルヒド
ラジンとエステル化合物と不飽和カルボン酸及び必要に
よりアミン化合物を反応してなる、分子中にアミンイミ
ド基と不飽和カルボン酸エステル基を各1個以上有する
エポキシ変性樹脂 (B)光重合開始剤 (C)希釈剤 (D)顔料 を含んでなる水溶液現像可能な光及び/または熱硬化性
の感光性樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16177589A JPH0327044A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16177589A JPH0327044A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0327044A true JPH0327044A (ja) | 1991-02-05 |
Family
ID=15741671
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16177589A Pending JPH0327044A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0327044A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001053890A1 (en) * | 2000-01-17 | 2001-07-26 | Showa Highpolymer Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
JP2006148653A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Nec Infrontia Corp | 無線端末、無線端末測定システム、無線端末における無線測定端子の接続方法 |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP16177589A patent/JPH0327044A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001053890A1 (en) * | 2000-01-17 | 2001-07-26 | Showa Highpolymer Co., Ltd. | Photosensitive resin composition |
JP3416129B2 (ja) * | 2000-01-17 | 2003-06-16 | 昭和高分子株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2006148653A (ja) * | 2004-11-22 | 2006-06-08 | Nec Infrontia Corp | 無線端末、無線端末測定システム、無線端末における無線測定端子の接続方法 |
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