JPH03269000A - 光カード - Google Patents
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Landscapes
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- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
i五辺弦丘分1
本発明は、キャッシュカード、クレジットカード、 I
Dカード等において、必要な情報の書込みおよび読み出
しを光学的な記録および再生手段によって行なう光カー
ドに関し さらに詳しく檄透明性、耐水性、耐吸湿性、
耐打抜性、耐屈曲性に優れた光カードに関する。
Dカード等において、必要な情報の書込みおよび読み出
しを光学的な記録および再生手段によって行なう光カー
ドに関し さらに詳しく檄透明性、耐水性、耐吸湿性、
耐打抜性、耐屈曲性に優れた光カードに関する。
i匪二五五羞ヱj
たとえばテルルやビスマスのような低融点金属の薄膜を
透明基材上に設け、レーザービームなどを照射して薄膜
の一部に変化を生じさせて記録を行ない、記録された情
報を光学的に再生する光記録再生の技術を各種のカード
類に適用することが試みられている。
透明基材上に設け、レーザービームなどを照射して薄膜
の一部に変化を生じさせて記録を行ない、記録された情
報を光学的に再生する光記録再生の技術を各種のカード
類に適用することが試みられている。
種々のカードの中でも、発行枚数の多いキャッシュカー
ド、クレジットカード、 IDカードなどを対象にこの
技術を実用化するに代 量産が容易で、コストの低い光
カードを開発する必要がある。
ド、クレジットカード、 IDカードなどを対象にこの
技術を実用化するに代 量産が容易で、コストの低い光
カードを開発する必要がある。
このような光カードとして代 現在のところ、塩化ビニ
ル樹脂シートに光によって書込みまたは読み取りが可能
な記録層を有する透明基板が張り合わさ瓢 透明基板と
してポリカーボネートやポリメチルメタクリレートを用
いた光カードが使用されている。ポリカーボネート13
吸湿性が小さく、安定ではあるカー 複屈折が生じ
易いため、記録密度を高くすることができないという欠
点があり、ポリメチルメタクリレート代 吸湿性が大き
いため記録層の劣イh カードの反りの問題がある。
ル樹脂シートに光によって書込みまたは読み取りが可能
な記録層を有する透明基板が張り合わさ瓢 透明基板と
してポリカーボネートやポリメチルメタクリレートを用
いた光カードが使用されている。ポリカーボネート13
吸湿性が小さく、安定ではあるカー 複屈折が生じ
易いため、記録密度を高くすることができないという欠
点があり、ポリメチルメタクリレート代 吸湿性が大き
いため記録層の劣イh カードの反りの問題がある。
ところで、環内にエチレン性二重結合を有する環状オレ
フィンIL 重合性を有しており、たとえばエチレン
などのa−オレフィンと反応して環状オレフィン・a−
オレフィンランダム共重合体が得られることが知られて
いる(特願昭60−26024号明細書参照)。
フィンIL 重合性を有しており、たとえばエチレン
などのa−オレフィンと反応して環状オレフィン・a−
オレフィンランダム共重合体が得られることが知られて
いる(特願昭60−26024号明細書参照)。
このような環状オレフィン系ランダム共重合体は、光学
用材料として必要な透明性、耐水性、耐薬品性、耐溶剤
性および熱的特性を有し 光学用精密機器部品の成形用
材料として好適な樹脂のひとつである。
用材料として必要な透明性、耐水性、耐薬品性、耐溶剤
性および熱的特性を有し 光学用精密機器部品の成形用
材料として好適な樹脂のひとつである。
本発明者ら昧 このような従来技術に鑑みて鋭意検討し
たところ、上記のような環状オレフィン系ランダム共重
合体からなる特定の基材を用いれば透明性、耐水性、耐
吸湿性、耐打抜性、耐屈曲性に優れた光カードが得られ
ることを見いだして、本発明を完成するに至った l貝L1上 本発明は、記録密度が高く、耐久性に優札 カードの反
りが少なく透明性、耐水性、耐吸湿性、耐打抜性、耐屈
曲性に優れた光カードを提供することを目的としている
。
たところ、上記のような環状オレフィン系ランダム共重
合体からなる特定の基材を用いれば透明性、耐水性、耐
吸湿性、耐打抜性、耐屈曲性に優れた光カードが得られ
ることを見いだして、本発明を完成するに至った l貝L1上 本発明は、記録密度が高く、耐久性に優札 カードの反
りが少なく透明性、耐水性、耐吸湿性、耐打抜性、耐屈
曲性に優れた光カードを提供することを目的としている
。
i囲旦鳳1
本発明に係る第1の光カード1
基材と、この基材の一方の面に形成された記録層と、こ
の記録層側に接着剤層を介して形成された塩化ビニル樹
脂製基材とを備え、 基材力( エチレンと次式[Iコまたは[I゛]で表される環状オ
レフィンとの共重合体であって、135℃のデカリン中
で測定した極限粘度[V]が0.05〜10(1g/g
の範囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃以上である
環状オレフィン系ランダム共重合体からなることを特徴
としている。
の記録層側に接着剤層を介して形成された塩化ビニル樹
脂製基材とを備え、 基材力( エチレンと次式[Iコまたは[I゛]で表される環状オ
レフィンとの共重合体であって、135℃のデカリン中
で測定した極限粘度[V]が0.05〜10(1g/g
の範囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃以上である
環状オレフィン系ランダム共重合体からなることを特徴
としている。
・・・[I]
(式中、nは0または1であり、mは0または正の整数
であって、 R1〜R+ I I!、 それぞれ独立へ 水素原子
、ハロゲン原子および炭化水素基よりなる群から選ばれ
る原子もしくは基を表し RI S 、 RI I l、i、 互いに結合し丁
単環または多環を形成していてもよく、かつ該単環また
は多環が二重結合を有していてもよく、 また、 R18とRIIとで、 またはR17とRII
とでアルキリデン基を形成していてもよい)。
であって、 R1〜R+ I I!、 それぞれ独立へ 水素原子
、ハロゲン原子および炭化水素基よりなる群から選ばれ
る原子もしくは基を表し RI S 、 RI I l、i、 互いに結合し丁
単環または多環を形成していてもよく、かつ該単環また
は多環が二重結合を有していてもよく、 また、 R18とRIIとで、 またはR17とRII
とでアルキリデン基を形成していてもよい)。
[I ]
(式[I′]中、pはOまたは1以上のe数であり、q
およびrijo、 1または2であり、R1−R111
はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化
水素基 芳香族炭化水素基 およびアルコキシ基よりな
る群から原子もしくは基を表しR4(またはRe)とR
9(またはR丁)と1戯 炭素数1〜3のアルキレン基
を介して結合していてもよく、また何の基も介さずに直
接結合していてもよい。 ) 本発明に係る第2の光カードは、 基材と、この基材の一方の面に形成された記録層と、こ
の記録層側に接着剤層を介して形成された塩化ビニル樹
脂製基材とを備え、 基材が、 エチレンと上式[I]または[I’]で表される環状オ
レフィンとの共重合体であって、135℃のデカリン中
で測定した極限粘度[η]が0.05〜10オ/gの範
囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃以上である環状
オレフィン系ランダム共重合体[A]と、エチレンと上
式CI]または[■’]で表される環状オレフィンとの
共重合体であって、135℃のデカリン中で測定した極
限粘度[7]が0.05〜5ap 7gの範囲にあり、
軟化温度(TMA)が70℃未満である環状オレフィン
系ランダム共重合体[B]とを配合してなる環状オレフ
ィン系ランダム共重合体組成物からなることを特徴とし
ている。
およびrijo、 1または2であり、R1−R111
はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化
水素基 芳香族炭化水素基 およびアルコキシ基よりな
る群から原子もしくは基を表しR4(またはRe)とR
9(またはR丁)と1戯 炭素数1〜3のアルキレン基
を介して結合していてもよく、また何の基も介さずに直
接結合していてもよい。 ) 本発明に係る第2の光カードは、 基材と、この基材の一方の面に形成された記録層と、こ
の記録層側に接着剤層を介して形成された塩化ビニル樹
脂製基材とを備え、 基材が、 エチレンと上式[I]または[I’]で表される環状オ
レフィンとの共重合体であって、135℃のデカリン中
で測定した極限粘度[η]が0.05〜10オ/gの範
囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃以上である環状
オレフィン系ランダム共重合体[A]と、エチレンと上
式CI]または[■’]で表される環状オレフィンとの
共重合体であって、135℃のデカリン中で測定した極
限粘度[7]が0.05〜5ap 7gの範囲にあり、
軟化温度(TMA)が70℃未満である環状オレフィン
系ランダム共重合体[B]とを配合してなる環状オレフ
ィン系ランダム共重合体組成物からなることを特徴とし
ている。
このような本発明に係る光カードは、基材として、上記
のような環状オレフィン系ランダム共重合体または環状
オレフィン系ランダム共重合体組成物からなる特定の基
材を用いているため、基材の透明性、耐水性、耐吸湿性
、耐打抜性、耐屈曲性が高いので、カードの反りの問題
もなく、しかも複屈折が小さいので、記録密度の向上が
可能である。
のような環状オレフィン系ランダム共重合体または環状
オレフィン系ランダム共重合体組成物からなる特定の基
材を用いているため、基材の透明性、耐水性、耐吸湿性
、耐打抜性、耐屈曲性が高いので、カードの反りの問題
もなく、しかも複屈折が小さいので、記録密度の向上が
可能である。
の
以下、本発明に係る光カードについて具体的に説明する
。
。
本発明の光カード101戴 たとえば第1図に示すよ
う1 基材1上&ミ 情報パターンが記録された記録層
2と、この記録層2側に接着剤層3を介して形成された
塩化ビニル樹脂製基材4とが積層してなる構造を有して
いる。
う1 基材1上&ミ 情報パターンが記録された記録層
2と、この記録層2側に接着剤層3を介して形成された
塩化ビニル樹脂製基材4とが積層してなる構造を有して
いる。
以下、この基材、記録層、接着剤層および塩化ビニル樹
脂製基材について順次説明する。
脂製基材について順次説明する。
羨−−M
本発明に係る光カードの基材1としては、エチレンと、
下記式[I]または[I°]で表される環状オレフィン
との共重合体であって、135℃のデカリン中で測定し
た極限粘度[V]が0.05〜10a/gの範囲にあり
、軟化温度(TMA)が70℃以上である環状オレフィ
ン系ランダム共重合体(以下環状オレフィン系ランダム
共重合体[A]という)を用いる。また所望により、環
状オレフィン系ランダム共重合体[A]&二 エチレン
と、下記式[I] または[I’]で表される環状オレ
フィンとの共重合体であって、135℃のデカリン中で
測定した極限粘度[η]が0.05〜5a / gの範
囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃未満である環状
オレフィン系ランダム共重合体(以下環状オレフィン系
ランダム共重合体[B]という)を配合して用いてもよ
い。
下記式[I]または[I°]で表される環状オレフィン
との共重合体であって、135℃のデカリン中で測定し
た極限粘度[V]が0.05〜10a/gの範囲にあり
、軟化温度(TMA)が70℃以上である環状オレフィ
ン系ランダム共重合体(以下環状オレフィン系ランダム
共重合体[A]という)を用いる。また所望により、環
状オレフィン系ランダム共重合体[A]&二 エチレン
と、下記式[I] または[I’]で表される環状オレ
フィンとの共重合体であって、135℃のデカリン中で
測定した極限粘度[η]が0.05〜5a / gの範
囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃未満である環状
オレフィン系ランダム共重合体(以下環状オレフィン系
ランダム共重合体[B]という)を配合して用いてもよ
い。
・・・ [I]
(式中、nはOまたは1であり、mは0または正の整数
であって、 R1〜RIJI それぞれ独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子および炭化水素基よりなる群から選ばれる原子も
しくは基を表し RI5〜RIJI 互いに結合して単環または多環を
形成していてもよく、かつ該単環または多環が二重結合
を有していてもよく、 また、 RIBとRe6とで、 またはR17とRle
とでアルキリデン基を形成していてもよい)。
であって、 R1〜RIJI それぞれ独立に、水素原子、ハロゲ
ン原子および炭化水素基よりなる群から選ばれる原子も
しくは基を表し RI5〜RIJI 互いに結合して単環または多環を
形成していてもよく、かつ該単環または多環が二重結合
を有していてもよく、 また、 RIBとRe6とで、 またはR17とRle
とでアルキリデン基を形成していてもよい)。
・・・ [I ’コ
(式[I’]中、pは0または1以上の整数であり、q
およびr+4 0. 1または2であり、R1〜Hts
はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化
水素基 芳香族炭化水素基 およびアルコキシ基よりな
る群から原子もしくは基を表しR5(またはRe)とR
e(または2丁)と代 炭素数1〜3のアルキレン基を
介して結合していてもよく、また何の基も介さずに直接
結合していてもよい。 ) ただし 上記式[I]において、nは0または1であり
、好ましくは0である。また、mはOまたは正の整数で
あり、好ましくはO〜3である。
およびr+4 0. 1または2であり、R1〜Hts
はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、脂肪族炭化
水素基 芳香族炭化水素基 およびアルコキシ基よりな
る群から原子もしくは基を表しR5(またはRe)とR
e(または2丁)と代 炭素数1〜3のアルキレン基を
介して結合していてもよく、また何の基も介さずに直接
結合していてもよい。 ) ただし 上記式[I]において、nは0または1であり
、好ましくは0である。また、mはOまたは正の整数で
あり、好ましくはO〜3である。
また上記式[■°]において、pはOまたは1以上の整
数であり、好ましくは0〜3の整数である。
数であり、好ましくは0〜3の整数である。
そして、R1〜R1@(式[工])、またはR1〜RI
s(式[I’])L それぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子および炭化水素基よりなる群から選ばれる原
子もしくは基を表す。ここで、ハロゲン原子としては、
たとえ1戯 フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨ
ウ素原子をあげることができる。
s(式[I’])L それぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子および炭化水素基よりなる群から選ばれる原
子もしくは基を表す。ここで、ハロゲン原子としては、
たとえ1戯 フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨ
ウ素原子をあげることができる。
また、炭化水素基としては、それぞれ独立1 通常は炭
素原子数1〜6のアルキル基 炭素原子数3〜6のシク
ロアルキル基をあげることができ、アルキル基の具体的
な例として4L メチル基 エチル五 イソプロピル
基 イソブチル基 アミル基をあげることができ、シク
ロアルキル基の具体的な例として↓戴 シクロへキシル
基 シクロプロピル基 シクロブチル基 シクロペンチ
ル基をあげることができる。
素原子数1〜6のアルキル基 炭素原子数3〜6のシク
ロアルキル基をあげることができ、アルキル基の具体的
な例として4L メチル基 エチル五 イソプロピル
基 イソブチル基 アミル基をあげることができ、シク
ロアルキル基の具体的な例として↓戴 シクロへキシル
基 シクロプロピル基 シクロブチル基 シクロペンチ
ル基をあげることができる。
また上記式[■°]において、Rs(またはR6)とR
e(またはR〒)と1戯 炭素数1〜3のアルキレン基
を介して結合していてもよく、また何の基も介さずに直
接結合していてもよい。
e(またはR〒)と1戯 炭素数1〜3のアルキレン基
を介して結合していてもよく、また何の基も介さずに直
接結合していてもよい。
さらく 上記式[I]において、R+s、R+・は互い
に結合して(共同して)単環または多環を形成していて
もよく、かつ該単環または多環が二重結合を有していて
もよい。また、R15とRe6とで、またはR17とR
1”とでアルキリデン基を形成していてもよい。このよ
うなアルキリデン基頃 通常は炭素原子数2〜4のアル
キリデン基をあげることができ、その具体的な例として
は、エチリデン基 プロピリデン基 イソプロピリデン
基およびインブチリデン基をあげることができる。
に結合して(共同して)単環または多環を形成していて
もよく、かつ該単環または多環が二重結合を有していて
もよい。また、R15とRe6とで、またはR17とR
1”とでアルキリデン基を形成していてもよい。このよ
うなアルキリデン基頃 通常は炭素原子数2〜4のアル
キリデン基をあげることができ、その具体的な例として
は、エチリデン基 プロピリデン基 イソプロピリデン
基およびインブチリデン基をあげることができる。
前記式[I]または[I’]で表される環状オレフィン
11 シクロペンタジェン類と、相応するオレフィン
類あるいは環状オレフィン類とをディールス・アルダ−
反応により縮合させることにより容易に製造することが
できる。
11 シクロペンタジェン類と、相応するオレフィン
類あるいは環状オレフィン類とをディールス・アルダ−
反応により縮合させることにより容易に製造することが
できる。
前記式[I]または[I′]で表される環状オレフィン
として1戴 具体的に番戴 たとえ1!、 (以下余白) ン 7−メチルビシクロ[2 などのようなビシクロ[2,2,11 ヘプト−2−エン誘 導体; 5.10−ジメチルテトラ Hs Hs ビシクロ[2,2,1]ヘブ 2.10−ジメチルテトラ 2、7.9− )リメチルテ 9−イソブチル−2,7− 9,11,12−)リフチル 9−エチル−11,12−ジメ 9−イソブチル−11,12 8−メチルテトラシフ 8−エチルテトラシフ 1・]−]3−ドデセ ン−へキシルテトラシ C+al”Isテ 、1・]−]3−ドデセ ン、 8.9.10−テトラメチ + @]−3−ドデセン 8−メチル−9−エチルテ 8−クロロテトラシフ 8−プロモチトラシフ 8−フルオロテトラシ +1]−3−ドデセン 、1eコー3−ドデセン S、17・1・]−33丁ドデセ ン・コー3−ドデセン −3−ドデセン 、1m’J−3−ドデセン 、12・s、1マ・+s]−3−ドデセン 8−n−プロピリデン−9 C4,4,0,12 6,17 +s]−3 一ドデセン 1・]−]3−ドデセ ン−n−プロピリデン−9 [4,4,0,1’ ・ 5,1) t・]−3 一ドデセン 8−インプロビリデン 一ドrセン 8−エチリデン−9−エチ ン 8−エチリデン−9−イソ 一ドデセン p、S、l?、I・]−]3−ドデ セ ン 、 1フ 11 ] −3 ドデセン 8−n−プロピリデン−9 一ドデセン 8−イソプロピリデン 一ドデセン ・1m ] −3 ドデセン 一ドデセン などのテトラシクロ[4,4,0,12ち、1)10] 3−ドデセ ン誘導体; (以下余白) 嘔ζQ2 、 ? 、 Qll 14]−4−ヘプ タデセン などのへキサシクロ[6,6,1,13@JIS +3.Q2 〒 (p デセン + t ]−]4−ヘプタデセン誘導 体デセ ンコセン ヘプタデセン 2.11−5−トコセン 15−エチルオクタシフ などのオクタシクロ[8,8,0,1”・9,14〒、
111・1・1+3.116.Q3.11.Q10.1
7]、−5−トコセン誘導体:なとのペンタシクロ[6
,6,1,1’・6.02〒 Qe、I=]−4− ヘキサデセン誘導体; ヘプタシクロ[8,7,0 コセン などのへブタシクロ−5−イコセン誘導体あるいはへブ
タシクロ−5−ヘンエイコセン111体;などのトリシ
クロ[4,4,0,12・6]−3ウンデセン誘導 体; 1.3−ジメチル−ペンタ などのトリシクロ[4,3,0,1”・6〕−3−デセ
ン誘導体;1.6−シメチルベンタ メチル置換ベンタシ 14、15 ジメチルベン などのペンタシクロ [4,7,0,12・−08 +s、1@ 12] −3−ペンタデセン誘導体; などのペンタシクロ[6,5,1,1”・6.02・丁
、0@・り]−4− コセン ペンタデセン誘導体; +sコ −4−エイコセン などのジエン化合物; などのへブタシクロ [7,8゜0.13 e、Q2.7JI・ 17.0 目、+s、1+* 1ち] 4 エイコセン誘導体; そしてさらには、 5−フェニル−ビシクロし 、st、1+s、t・ QIj、lI、1111會] −5−ベンタコセン −5−ベンタコセン などのノナシクロ [9,10,1,14,?、αL・、02!−1OL! 、ffi!、113 2・ QIj、I@、11111] −5−ベンタコセン誘導 体等を挙げることができる。
として1戴 具体的に番戴 たとえ1!、 (以下余白) ン 7−メチルビシクロ[2 などのようなビシクロ[2,2,11 ヘプト−2−エン誘 導体; 5.10−ジメチルテトラ Hs Hs ビシクロ[2,2,1]ヘブ 2.10−ジメチルテトラ 2、7.9− )リメチルテ 9−イソブチル−2,7− 9,11,12−)リフチル 9−エチル−11,12−ジメ 9−イソブチル−11,12 8−メチルテトラシフ 8−エチルテトラシフ 1・]−]3−ドデセ ン−へキシルテトラシ C+al”Isテ 、1・]−]3−ドデセ ン、 8.9.10−テトラメチ + @]−3−ドデセン 8−メチル−9−エチルテ 8−クロロテトラシフ 8−プロモチトラシフ 8−フルオロテトラシ +1]−3−ドデセン 、1eコー3−ドデセン S、17・1・]−33丁ドデセ ン・コー3−ドデセン −3−ドデセン 、1m’J−3−ドデセン 、12・s、1マ・+s]−3−ドデセン 8−n−プロピリデン−9 C4,4,0,12 6,17 +s]−3 一ドデセン 1・]−]3−ドデセ ン−n−プロピリデン−9 [4,4,0,1’ ・ 5,1) t・]−3 一ドデセン 8−インプロビリデン 一ドrセン 8−エチリデン−9−エチ ン 8−エチリデン−9−イソ 一ドデセン p、S、l?、I・]−]3−ドデ セ ン 、 1フ 11 ] −3 ドデセン 8−n−プロピリデン−9 一ドデセン 8−イソプロピリデン 一ドデセン ・1m ] −3 ドデセン 一ドデセン などのテトラシクロ[4,4,0,12ち、1)10] 3−ドデセ ン誘導体; (以下余白) 嘔ζQ2 、 ? 、 Qll 14]−4−ヘプ タデセン などのへキサシクロ[6,6,1,13@JIS +3.Q2 〒 (p デセン + t ]−]4−ヘプタデセン誘導 体デセ ンコセン ヘプタデセン 2.11−5−トコセン 15−エチルオクタシフ などのオクタシクロ[8,8,0,1”・9,14〒、
111・1・1+3.116.Q3.11.Q10.1
7]、−5−トコセン誘導体:なとのペンタシクロ[6
,6,1,1’・6.02〒 Qe、I=]−4− ヘキサデセン誘導体; ヘプタシクロ[8,7,0 コセン などのへブタシクロ−5−イコセン誘導体あるいはへブ
タシクロ−5−ヘンエイコセン111体;などのトリシ
クロ[4,4,0,12・6]−3ウンデセン誘導 体; 1.3−ジメチル−ペンタ などのトリシクロ[4,3,0,1”・6〕−3−デセ
ン誘導体;1.6−シメチルベンタ メチル置換ベンタシ 14、15 ジメチルベン などのペンタシクロ [4,7,0,12・−08 +s、1@ 12] −3−ペンタデセン誘導体; などのペンタシクロ[6,5,1,1”・6.02・丁
、0@・り]−4− コセン ペンタデセン誘導体; +sコ −4−エイコセン などのジエン化合物; などのへブタシクロ [7,8゜0.13 e、Q2.7JI・ 17.0 目、+s、1+* 1ち] 4 エイコセン誘導体; そしてさらには、 5−フェニル−ビシクロし 、st、1+s、t・ QIj、lI、1111會] −5−ベンタコセン −5−ベンタコセン などのノナシクロ [9,10,1,14,?、αL・、02!−1OL! 、ffi!、113 2・ QIj、I@、11111] −5−ベンタコセン誘導 体等を挙げることができる。
(以下余白)
CHl
を挙げることができる。
(以下余白)
また上記式[Ilで表される多環式環状オレフィンの例
として(戴 上記化合物の他 さらに1,4゜5.8−
ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.8a−オ
クタヒドロナフタレン、2−メチル−1,4,5,8−
ジメタノ−1,2,3,4゜4a、 5.8.8a−オ
クタヒドロナフタレン、2−エチル−1,4,5,8〜
ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.8a−オ
クタヒドロナフタレン、2−プロピル−1,4,5,8
−ジメタノ−1、2,3,4,4a、 5.8.8a−
オクタヒドロナフタレン、2−へキシル−1,4,5,
8−ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.8a
−オクタヒドロナフタレン、2.3−ジメチル1.4.
5.8−ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.
8a−オクタヒドロナフタレン、2−メチル−3−エチ
ル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a
、 5.8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−クロ
ロ−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a
、 5.8.8a−オクタヒドロナフタレン、2−ブロ
ム−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a
、 5.8.8a−オクタヒドロナフタレン、2−フル
オロ−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4
a、 5.8゜8a−オクタヒドロナフタレン、2.3
−ジクロロ−1,4゜5.8−ジメタノ−1,2,3,
4,4a、 5.8.8a−オクタヒドロナフタレン、
2−シクロへキシル−1,4,5,8−ジメタノ−1、
2,3,4,4a、 5.8.8a−オクタヒドロナフ
タレン、2n−ブチル−1,4,5,8−ジメタノ−1
,2,3,4,4a、 5.8.8a−オクタヒドロナ
フタレン、2−インブチル−1,4,58−ジメタノ−
1,2,3,4,4a、 5.8.8a−オクタヒドロ
ナフタレン等のオクタヒドロナフタレン類を挙げること
ができる。
として(戴 上記化合物の他 さらに1,4゜5.8−
ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.8a−オ
クタヒドロナフタレン、2−メチル−1,4,5,8−
ジメタノ−1,2,3,4゜4a、 5.8.8a−オ
クタヒドロナフタレン、2−エチル−1,4,5,8〜
ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.8a−オ
クタヒドロナフタレン、2−プロピル−1,4,5,8
−ジメタノ−1、2,3,4,4a、 5.8.8a−
オクタヒドロナフタレン、2−へキシル−1,4,5,
8−ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.8a
−オクタヒドロナフタレン、2.3−ジメチル1.4.
5.8−ジメタノ−1,2,3,4,4a、 5.8.
8a−オクタヒドロナフタレン、2−メチル−3−エチ
ル−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a
、 5.8,8a−オクタヒドロナフタレン、2−クロ
ロ−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a
、 5.8.8a−オクタヒドロナフタレン、2−ブロ
ム−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4a
、 5.8.8a−オクタヒドロナフタレン、2−フル
オロ−1,4,5,8−ジメタノ−1,2,3,4,4
a、 5.8゜8a−オクタヒドロナフタレン、2.3
−ジクロロ−1,4゜5.8−ジメタノ−1,2,3,
4,4a、 5.8.8a−オクタヒドロナフタレン、
2−シクロへキシル−1,4,5,8−ジメタノ−1、
2,3,4,4a、 5.8.8a−オクタヒドロナフ
タレン、2n−ブチル−1,4,5,8−ジメタノ−1
,2,3,4,4a、 5.8.8a−オクタヒドロナ
フタレン、2−インブチル−1,4,58−ジメタノ−
1,2,3,4,4a、 5.8.8a−オクタヒドロ
ナフタレン等のオクタヒドロナフタレン類を挙げること
ができる。
この上記のような環状オレフィン類とエチレンとの共重
合体である環状オレフィン系ランダム共重合体[A]お
よび[B]lL エチレンおよび前記環状オレフィン
を必須成分とするものであるカー該必須の二成分の他に
本発明の目的を損なわない範囲で、必要に応じて他の共
重合可能な不飽和単量体成分を含有していてもよい。任
意に共重合されていてもよい該不飽和単量体として、具
体的には、たとえば生成するランダム共重合体中のエチ
レン成分単位と等モル未満の範囲のプロピレン、1−フ
テン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−
オクテン、 1−デセン、 1−ドデセン、 1−テト
ラデセン、1−へキサデセン、1−オクタデセン、ニー
エイコセンなどの炭素原子数が3〜20のa−オレフィ
ンなどを例示することができる。
合体である環状オレフィン系ランダム共重合体[A]お
よび[B]lL エチレンおよび前記環状オレフィン
を必須成分とするものであるカー該必須の二成分の他に
本発明の目的を損なわない範囲で、必要に応じて他の共
重合可能な不飽和単量体成分を含有していてもよい。任
意に共重合されていてもよい該不飽和単量体として、具
体的には、たとえば生成するランダム共重合体中のエチ
レン成分単位と等モル未満の範囲のプロピレン、1−フ
テン、4−メチル−1−ペンテン、1−ヘキセン、1−
オクテン、 1−デセン、 1−ドデセン、 1−テト
ラデセン、1−へキサデセン、1−オクタデセン、ニー
エイコセンなどの炭素原子数が3〜20のa−オレフィ
ンなどを例示することができる。
上記のような環状オレフィン系ランダム共重合体[A]
では、エチレンに由来する繰り返し単位(a)は、40
〜85モル%、好ましくは50〜75モル%の範囲で存
在しており、また該環状オレフィンに由来する繰り返し
単位(b)は15〜60モル%、好ましくは25〜50
モル%の範囲で存在しており、エチレンに由来する繰り
返し単位(a)および該環状オレフィンに由来する繰り
返し単位(b) IL ランダムに実質上線状に配列
している。なお、エチレン組成および環状オレフィン組
成は”C−NMRによって測定した この環状オレフィ
ン系ランダム共重合体が実質上線状であり、ゲル状架橋
構造を有していないこと(戴 該共重合体が135℃の
デカリン中に完全に溶解することによって確認できる。
では、エチレンに由来する繰り返し単位(a)は、40
〜85モル%、好ましくは50〜75モル%の範囲で存
在しており、また該環状オレフィンに由来する繰り返し
単位(b)は15〜60モル%、好ましくは25〜50
モル%の範囲で存在しており、エチレンに由来する繰り
返し単位(a)および該環状オレフィンに由来する繰り
返し単位(b) IL ランダムに実質上線状に配列
している。なお、エチレン組成および環状オレフィン組
成は”C−NMRによって測定した この環状オレフィ
ン系ランダム共重合体が実質上線状であり、ゲル状架橋
構造を有していないこと(戴 該共重合体が135℃の
デカリン中に完全に溶解することによって確認できる。
このような環状オレフィン系ランダム共重合体[A]の
135℃のデカリン中で測定した極限粘度[ηコ鷹 0
105〜10a/g、好ましくは0108〜5au/g
の範囲にある。
135℃のデカリン中で測定した極限粘度[ηコ鷹 0
105〜10a/g、好ましくは0108〜5au/g
の範囲にある。
また環状オレフィン系ランダム共重合体[A]のサーマ
ル・メカニカル・アナライザーで測定した軟化温度(T
MA)は、70℃以上、好ましくは90〜250℃、さ
らに好ましくは100〜200″Cの範囲にある。なお
軟化温度(TMA)14 デュポン社製Thermo
mechanical Analyserを用いて厚さ
lasのシートの熱変形挙動により測定した すなわち
シート上に石英製針をのせ、荷重49gをかけ、5℃/
分で昇温していき、針が0.635m侵入した温度をT
MAとし九 また、該環状オレフィン系ランダム共重合
体のガラス転移温度(Tg)は、通常50〜230℃、
好ましくは70〜210℃の範囲にあることが望ましい
。
ル・メカニカル・アナライザーで測定した軟化温度(T
MA)は、70℃以上、好ましくは90〜250℃、さ
らに好ましくは100〜200″Cの範囲にある。なお
軟化温度(TMA)14 デュポン社製Thermo
mechanical Analyserを用いて厚さ
lasのシートの熱変形挙動により測定した すなわち
シート上に石英製針をのせ、荷重49gをかけ、5℃/
分で昇温していき、針が0.635m侵入した温度をT
MAとし九 また、該環状オレフィン系ランダム共重合
体のガラス転移温度(Tg)は、通常50〜230℃、
好ましくは70〜210℃の範囲にあることが望ましい
。
また、この環状オレフィン系ランダム共重合体[A]の
X41回折法によって測定した結晶化度(戴O〜10%
、好ましくは0〜7%、とくに好ましくは0〜5%の範
囲である。
X41回折法によって測定した結晶化度(戴O〜10%
、好ましくは0〜7%、とくに好ましくは0〜5%の範
囲である。
本発明で↓戴 また上記のような軟化温度(TMA)が
70℃以上である環状オレフィン系ランダム共重合体[
A]へ エチレンと、上記式[I]または[■°]で表わされる
環状オレフィンとの共重合体であって、135℃のデカ
リン中で測定した極限粘度[V]が0.05〜5dll
/gの範囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃未満で
ある環状オレフィン系ランダム共重合体[B]を配合し
てなる環状オレフィン系ランダム共重合体組成物から基
材を形成することが好ましい。
70℃以上である環状オレフィン系ランダム共重合体[
A]へ エチレンと、上記式[I]または[■°]で表わされる
環状オレフィンとの共重合体であって、135℃のデカ
リン中で測定した極限粘度[V]が0.05〜5dll
/gの範囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃未満で
ある環状オレフィン系ランダム共重合体[B]を配合し
てなる環状オレフィン系ランダム共重合体組成物から基
材を形成することが好ましい。
上記のような軟化点(TMA)が70℃未満である環状
オレフィン系ランダム共重合体[B]でIL エチレ
ンに由来する繰り返し単位(a月!、 60〜98モ
ル%、好ましくは60〜98モル%の範囲で存在してお
り、また該環状オレフィンに由来する繰り返し単位(b
)は2〜40モル%、好ましくは5〜40モル%の範囲
で存在しており、エチレンに由来する繰り返し単位(a
)および該環状オレフィンに由来する繰り返し単位(b
) jL ランダムに実質上線状に配列している。な
お、エチレン組成および環状オレフィン組成は13C−
NMRによって測定した この環状オレフィン系ランダ
ム共重合体[B]が実質上線状であり、ゲル状架橋構造
を有していないこと1該共重合体が135℃のデカリン
中に完全に溶解することによって確認できる。
オレフィン系ランダム共重合体[B]でIL エチレ
ンに由来する繰り返し単位(a月!、 60〜98モ
ル%、好ましくは60〜98モル%の範囲で存在してお
り、また該環状オレフィンに由来する繰り返し単位(b
)は2〜40モル%、好ましくは5〜40モル%の範囲
で存在しており、エチレンに由来する繰り返し単位(a
)および該環状オレフィンに由来する繰り返し単位(b
) jL ランダムに実質上線状に配列している。な
お、エチレン組成および環状オレフィン組成は13C−
NMRによって測定した この環状オレフィン系ランダ
ム共重合体[B]が実質上線状であり、ゲル状架橋構造
を有していないこと1該共重合体が135℃のデカリン
中に完全に溶解することによって確認できる。
このような環状オレフィン系ランダム共重合体[B]の
135℃のデカリン中で測定した極限粘度[’7] 1
i、0.05〜5a/g、好ましくは0.08−3d5
1/gの範囲にある。
135℃のデカリン中で測定した極限粘度[’7] 1
i、0.05〜5a/g、好ましくは0.08−3d5
1/gの範囲にある。
また環状オレフィン系ランダム共重合体[B]のサーマ
ル・メカニカル・アナライザーで測定した軟化温度(T
MA)L 70℃未滌 好ましくは一10〜60℃、
さらに好ましくは10〜55℃の範囲にある。さらく
該環状オレフィン系ランダム共重合体[B]のガラス転
移温度(Tg) IL 通常−30〜60℃、好まし
くは一20〜50℃の範囲にあることが望ましい。
ル・メカニカル・アナライザーで測定した軟化温度(T
MA)L 70℃未滌 好ましくは一10〜60℃、
さらに好ましくは10〜55℃の範囲にある。さらく
該環状オレフィン系ランダム共重合体[B]のガラス転
移温度(Tg) IL 通常−30〜60℃、好まし
くは一20〜50℃の範囲にあることが望ましい。
また、この環状オレフィン系ランダム共重合体[B]の
X線回折法によって測定した結晶化度1戴0〜10%、
好ましくは0〜7%、とくに好ましくは0〜5%の範囲
である。
X線回折法によって測定した結晶化度1戴0〜10%、
好ましくは0〜7%、とくに好ましくは0〜5%の範囲
である。
本発明において、基材として環状オレフィンランダム共
重合体組成物を用いる場合には、該環状オレフィン系ラ
ンダム共重合体[A]/該環状オレフィン系ランダム共
重合体[B]の重量比は10010、1〜100/10
. 好ましくはZoolo、 3〜100/7、とく
に好ましくは10010.5〜Zoo15の範囲である
ことが望ましい。 [B]酸成分この範囲で[A]酸成
分配合することによって基材自体の優れた透明性と表面
平滑性を維持したままで本発明で用いる記録層との苛酷
な条件下での密着性が[A]酸成分みの場合に比べさら
に向上するという効果があり、 EA3と[B]とのブ
レンドよりなるこの上記の環状オレフィンランダム共重
合体組成物を基材に用いれば本発明で用いる記録層との
優れた密着性は高凰 高湿条件下放置後においてさえも
変化がないという特性を有している。
重合体組成物を用いる場合には、該環状オレフィン系ラ
ンダム共重合体[A]/該環状オレフィン系ランダム共
重合体[B]の重量比は10010、1〜100/10
. 好ましくはZoolo、 3〜100/7、とく
に好ましくは10010.5〜Zoo15の範囲である
ことが望ましい。 [B]酸成分この範囲で[A]酸成
分配合することによって基材自体の優れた透明性と表面
平滑性を維持したままで本発明で用いる記録層との苛酷
な条件下での密着性が[A]酸成分みの場合に比べさら
に向上するという効果があり、 EA3と[B]とのブ
レンドよりなるこの上記の環状オレフィンランダム共重
合体組成物を基材に用いれば本発明で用いる記録層との
優れた密着性は高凰 高湿条件下放置後においてさえも
変化がないという特性を有している。
本発明における基材を構成する上記の環状オレフィン共
重合体[A]および[B]+L 特開昭60−168
708号公転 特開昭61−120816号公転 特開
昭61−115912号公転 特開昭61−11591
6号公転 特願昭61−95905号公転 特願昭61
−95906号公転 特開昭61−271308号公転
特開昭61−272216号公報などにおいて本出願
人が提案した方法に従い適宜条件を選択することにより
、製造することができる。
重合体[A]および[B]+L 特開昭60−168
708号公転 特開昭61−120816号公転 特開
昭61−115912号公転 特開昭61−11591
6号公転 特願昭61−95905号公転 特願昭61
−95906号公転 特開昭61−271308号公転
特開昭61−272216号公報などにおいて本出願
人が提案した方法に従い適宜条件を選択することにより
、製造することができる。
このような環状オレフィン系ランダム共重合体中におい
て、前記式[I]または[I′]で表される環状オレフ
ィンから導かれる構成単位(b)は下記式[n]または
[■゛]で表される構造の繰り返し単位を形成している
と考えられるが、一部の構成単位(b)が開環重合によ
って結合している場合もあり、また必要に応じて水素添
加することも可能である。
て、前記式[I]または[I′]で表される環状オレフ
ィンから導かれる構成単位(b)は下記式[n]または
[■゛]で表される構造の繰り返し単位を形成している
と考えられるが、一部の構成単位(b)が開環重合によ
って結合している場合もあり、また必要に応じて水素添
加することも可能である。
[n]
(式[n]中、rrL、nおよびRl〜Rl @は前記
式[I]における定義と同様である。) れらの水素添加物について、前記式Er3で表される環
状オレフィンを例にして説明すると、以下に記載するよ
うに反応して開環共重合体およびこれらの水素添加物を
構成していると考えられる。
式[I]における定義と同様である。) れらの水素添加物について、前記式Er3で表される環
状オレフィンを例にして説明すると、以下に記載するよ
うに反応して開環共重合体およびこれらの水素添加物を
構成していると考えられる。
・・・ [■ ′]
(式[n’ココ中 p、 q、 rおよびR+ 〜
R+sは前記式[I′]における定義と同様である。)
本発明に係る光カードの基材としてIL 前述したと
おり、上記のエチレンと環状オレフィンとのランダム共
重合体のほか&へ 同種または異種の環状オレフィン単
量体を開環して得られる環状オレフィン開環重合機 開
環共重合体またはそれらの水素添加物を用いることもで
きる。このような環状オレフィン開環重合化 開環共重
合体およびこ↓開環 ↓水素添加 このような重合体の例として、テトラシクロドデセンと
ノルボルネン及びそれらの誘導体との開環共重合化 及
びその水素添加物をあげることができる。
R+sは前記式[I′]における定義と同様である。)
本発明に係る光カードの基材としてIL 前述したと
おり、上記のエチレンと環状オレフィンとのランダム共
重合体のほか&へ 同種または異種の環状オレフィン単
量体を開環して得られる環状オレフィン開環重合機 開
環共重合体またはそれらの水素添加物を用いることもで
きる。このような環状オレフィン開環重合化 開環共重
合体およびこ↓開環 ↓水素添加 このような重合体の例として、テトラシクロドデセンと
ノルボルネン及びそれらの誘導体との開環共重合化 及
びその水素添加物をあげることができる。
なお、本発明においては上記のような開環重合化 開環
共重合化 これらの水素添加物および環状オレフィン系
ランダム共重合体の一部が無水マレイン酸等の不飽和カ
ルボン酸等で変性されていてもよい。このような変性物
1戯 上記のような環状オレフィン系樹脂と、不飽和カ
ルボン酸、これらの無水匍、および不飽和カルボン酸の
アルキルエステル等の誘導体とを反応させることにより
製造することができる。なお、この場合の環状オレフィ
ン系樹脂の変性物中における変性剤から導かれる構成単
位の含有率は、通常は50〜10モル%以下である。こ
のような環状オレフィン系樹脂変性物は、所望の変性率
になるように環状オレフィン系樹脂に変性剤を配合して
グラフト重合させて製造することもできるし、予め高変
性率の変性物を調製し 次いでこの変性物と未変性の環
状オレフィン系樹脂とを混合することによっても製造す
ることができる。
共重合化 これらの水素添加物および環状オレフィン系
ランダム共重合体の一部が無水マレイン酸等の不飽和カ
ルボン酸等で変性されていてもよい。このような変性物
1戯 上記のような環状オレフィン系樹脂と、不飽和カ
ルボン酸、これらの無水匍、および不飽和カルボン酸の
アルキルエステル等の誘導体とを反応させることにより
製造することができる。なお、この場合の環状オレフィ
ン系樹脂の変性物中における変性剤から導かれる構成単
位の含有率は、通常は50〜10モル%以下である。こ
のような環状オレフィン系樹脂変性物は、所望の変性率
になるように環状オレフィン系樹脂に変性剤を配合して
グラフト重合させて製造することもできるし、予め高変
性率の変性物を調製し 次いでこの変性物と未変性の環
状オレフィン系樹脂とを混合することによっても製造す
ることができる。
本発明において、上記の開環重合倣 開環共重合体 こ
れらの水素添加物および環状オレフィン系ランダム共重
合体ならびにその変性物は、単独で、あるいは組み合わ
せて使用することができる。
れらの水素添加物および環状オレフィン系ランダム共重
合体ならびにその変性物は、単独で、あるいは組み合わ
せて使用することができる。
さら&−本発明においてiL 上記のような環状オレ
フィン系ランダム共重合体を製造するに際して、得られ
る重合体等の物性を損なわない範囲で、前記式[I]ま
たは[工゛]で表される環状オレフィン以外の環状オレ
フィンを重合させることもできる。このような環状オレ
フィンとしては、たとえば、 シクロブテン、 シクロペンテン、 シクロヘキセン、 3.4−ジメチルシクロヘキセン、 3−メチルシクロヘキセン、 2−(2−メチルブチル)−1−シクロヘキセン、2、
3.3a、 7a−テトラヒトO−4,7−メタノ−I
H−インデン 3a、 5.6.7a−テトラヒドロ−4,7−メタノ
−IH−インデンなどをあげることができる。このよう
な他の環状オレフィンは単独で、あるいは組み合わせて
使用することができ、通常、0〜50モル%の量で用い
られる。
フィン系ランダム共重合体を製造するに際して、得られ
る重合体等の物性を損なわない範囲で、前記式[I]ま
たは[工゛]で表される環状オレフィン以外の環状オレ
フィンを重合させることもできる。このような環状オレ
フィンとしては、たとえば、 シクロブテン、 シクロペンテン、 シクロヘキセン、 3.4−ジメチルシクロヘキセン、 3−メチルシクロヘキセン、 2−(2−メチルブチル)−1−シクロヘキセン、2、
3.3a、 7a−テトラヒトO−4,7−メタノ−I
H−インデン 3a、 5.6.7a−テトラヒドロ−4,7−メタノ
−IH−インデンなどをあげることができる。このよう
な他の環状オレフィンは単独で、あるいは組み合わせて
使用することができ、通常、0〜50モル%の量で用い
られる。
また本発明の光カードの基材に1戴 上記[A]および
[B]酸成分他&ミ 衝撃強度を向上させるためのゴム
成分を配合したり、耐熱安定舷 耐候安定ml 帯電
防止舷 スリップ舷 アンチブロッキング斉L 防曇寿
hW#mh 染料、顔料、天然池合成池 ワックスな
どを配合することができ、その配合割合は適宜量である
。たとえは 任意成分として配合される安定剤として具
体的には、テトラキス[メチレン−3(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−)]
メタン、β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオン酸アルキルエステル、2,2°
−オキザミドビス[エチル−3(3,5−ジーt−ブ≠
ルー4−ヒドロキシフェニル)コプロビオネートなどの
フェノール系酸化防止斉L ステアリン酸亜銖 ステア
リン酸カルシウム、12−ヒドロキシステアリン酸カル
シウムなどの脂肪酸金属塩、グリセリンモノステアレー
ト、グリセリンモノラウレート、グリセリンジステアレ
ート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタ
エリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトール
トリステアレート等の多価アルコールの脂肪酸エステル
などを挙げることができる。これらは単独で配合しても
よいが、組み合わせて配合してもよく、たとえは テト
ラキス[メチレン−3(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタンとステア
リン酸亜鉛およびグリセリンモノステアレートとの組合
せ等を例示することができ る。
[B]酸成分他&ミ 衝撃強度を向上させるためのゴム
成分を配合したり、耐熱安定舷 耐候安定ml 帯電
防止舷 スリップ舷 アンチブロッキング斉L 防曇寿
hW#mh 染料、顔料、天然池合成池 ワックスな
どを配合することができ、その配合割合は適宜量である
。たとえは 任意成分として配合される安定剤として具
体的には、テトラキス[メチレン−3(3,5−ジ−t
−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネ−)]
メタン、β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオン酸アルキルエステル、2,2°
−オキザミドビス[エチル−3(3,5−ジーt−ブ≠
ルー4−ヒドロキシフェニル)コプロビオネートなどの
フェノール系酸化防止斉L ステアリン酸亜銖 ステア
リン酸カルシウム、12−ヒドロキシステアリン酸カル
シウムなどの脂肪酸金属塩、グリセリンモノステアレー
ト、グリセリンモノラウレート、グリセリンジステアレ
ート、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタ
エリスリトールジステアレート、ペンタエリスリトール
トリステアレート等の多価アルコールの脂肪酸エステル
などを挙げることができる。これらは単独で配合しても
よいが、組み合わせて配合してもよく、たとえは テト
ラキス[メチレン−3(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニル)プロピオネートコメタンとステア
リン酸亜鉛およびグリセリンモノステアレートとの組合
せ等を例示することができ る。
本発明では特シミ フェノール系酸化防止剤および多
価アルコールの脂肪酸エステルとを組み合わせて用いる
ことが好ましく、該多価アルコールの脂肪酸エステルは
3価以上の多価アルコールのアルコール性水酸基の一部
がエステル化された多価アルコール脂肪酸エステルであ
ることが好ましい。
価アルコールの脂肪酸エステルとを組み合わせて用いる
ことが好ましく、該多価アルコールの脂肪酸エステルは
3価以上の多価アルコールのアルコール性水酸基の一部
がエステル化された多価アルコール脂肪酸エステルであ
ることが好ましい。
このような多価アルコールの脂肪酸エステルとして1戴
具体的に頃 グリセリンモノステアレート、グリセリ
ンモノラウレート、グリセリンモノミリステート、グリ
セリンモノパルミテート、グリセリンジステアレート、
グリセリンジラウレート等のグリセリン脂肪酸エステル
、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリ
スリトールモノラウレート、ペンタエリスリトールジラ
ウレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペン
タエリスリトールトリステアレート等のペンタエリスリ
トールの脂肪酸エステルが用いられる。
具体的に頃 グリセリンモノステアレート、グリセリ
ンモノラウレート、グリセリンモノミリステート、グリ
セリンモノパルミテート、グリセリンジステアレート、
グリセリンジラウレート等のグリセリン脂肪酸エステル
、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリ
スリトールモノラウレート、ペンタエリスリトールジラ
ウレート、ペンタエリスリトールジステアレート、ペン
タエリスリトールトリステアレート等のペンタエリスリ
トールの脂肪酸エステルが用いられる。
このようなフェノール系酸化防止剤頃 前記[A]酸成
分よび[B]酸成分合計重量100重量部に対して0〜
10重量部好ましくは0〜5重量部さらに好ましくは0
〜2重量部の量で用いら机 また多価アルコールの脂肪
酸エステルは[A]酸成分よび[B]酸成分合計重量1
00重量部に対して0〜10重量脈 好ましくは0〜5
重量部の量で用いられる。
分よび[B]酸成分合計重量100重量部に対して0〜
10重量部好ましくは0〜5重量部さらに好ましくは0
〜2重量部の量で用いら机 また多価アルコールの脂肪
酸エステルは[A]酸成分よび[B]酸成分合計重量1
00重量部に対して0〜10重量脈 好ましくは0〜5
重量部の量で用いられる。
本発明の光カードの基材には、本発明の目的を損なわな
い範囲で、シリカ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チタン、
酸化マグネシウム、軽石粉、軽石バルーン、水酸化アル
ミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウ
ム、 ドロマイト、硫llカルシウム、チタン酸カリウ
ム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、タルク、クレー
マイカ、アスベスト、ガラス繊紙 ガラスフレーク、
ガラスピーズ、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、
ベントナイト、グラファイト、アルミニウム粉、硫化モ
リブデン、ボロン繊維、炭化ケイ素繊維、ポリエチレン
繊組 ポリプロピレン繊維、ポリエステル繊組 ポリア
ミド繊維等の充填剤を配合してもよい。
い範囲で、シリカ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チタン、
酸化マグネシウム、軽石粉、軽石バルーン、水酸化アル
ミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウ
ム、 ドロマイト、硫llカルシウム、チタン酸カリウ
ム、硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、タルク、クレー
マイカ、アスベスト、ガラス繊紙 ガラスフレーク、
ガラスピーズ、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、
ベントナイト、グラファイト、アルミニウム粉、硫化モ
リブデン、ボロン繊維、炭化ケイ素繊維、ポリエチレン
繊組 ポリプロピレン繊維、ポリエステル繊組 ポリア
ミド繊維等の充填剤を配合してもよい。
本発明に係る光カードで頃 基材として上記のような環
状オレフィン系ランダム共重合体または環状オレフィン
系ランダム共重合体組成智が用いられており、このよう
な光力−)、ii、基材の複屈折が小さいため、ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタアクリレートなどを基材と
して用いた光カードと比較して、記録密度を向上させる
ことが可能である。またこの環状オレフィン系ランダム
共重合体または該共重合体を含む組成物からなる基材は
透明性、耐水性、耐吸湿性、針打抜性、耐屈曲性に便法
したがって記録層は長期安定性に優れるとともにカー
ドの反りの問題も効果的に防止される。したがってこの
環状オレフィン系ランダム共重合体からなる基材を用い
た光カードは記録密度が高く、また耐久性および長期安
定性にも優れている。また本発明に係る光カードは反り
がなく割れが生ずることがない。
状オレフィン系ランダム共重合体または環状オレフィン
系ランダム共重合体組成智が用いられており、このよう
な光力−)、ii、基材の複屈折が小さいため、ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタアクリレートなどを基材と
して用いた光カードと比較して、記録密度を向上させる
ことが可能である。またこの環状オレフィン系ランダム
共重合体または該共重合体を含む組成物からなる基材は
透明性、耐水性、耐吸湿性、針打抜性、耐屈曲性に便法
したがって記録層は長期安定性に優れるとともにカー
ドの反りの問題も効果的に防止される。したがってこの
環状オレフィン系ランダム共重合体からなる基材を用い
た光カードは記録密度が高く、また耐久性および長期安
定性にも優れている。また本発明に係る光カードは反り
がなく割れが生ずることがない。
このような基材lの厚みは特に限定されない力ζ好まし
くは0.5〜5.特に好ましくは1〜2゜である。
くは0.5〜5.特に好ましくは1〜2゜である。
そして上記のような環状オレフィン系ランダム共重合体
を2mmの厚さのシートに成形した場合のシートの鉛筆
硬度は2B以ム 好ましくはH以上であることが望まし
い。またシートの表面耐傷性を改善するため!ミ シー
ト表面にシリコーン系またはアクリル系ハードコートを
施すことが好ましい。
を2mmの厚さのシートに成形した場合のシートの鉛筆
硬度は2B以ム 好ましくはH以上であることが望まし
い。またシートの表面耐傷性を改善するため!ミ シー
ト表面にシリコーン系またはアクリル系ハードコートを
施すことが好ましい。
瓦曾j
本発明に係る光カード10で憾 上記のような基材l上
く 情報パターンが記録された記録層2が形成されてい
る。
く 情報パターンが記録された記録層2が形成されてい
る。
記Q層2≦戯 例えば下記(1)〜(5)のような金属
または合金を使用し 蒸着、スパッタリング、CVD、
イオンブレーティング、あるいは分子線エピタキシ
ー メツキ等の手段により形成する。
または合金を使用し 蒸着、スパッタリング、CVD、
イオンブレーティング、あるいは分子線エピタキシ
ー メツキ等の手段により形成する。
(1)光反射性の優れた金鳳 たとえばAg、Ni1C
r、Ag、Auおよびこれらを主体とする合飢(2)低
融点金属であるTeS Zn、PbS Cd。
r、Ag、Auおよびこれらを主体とする合飢(2)低
融点金属であるTeS Zn、PbS Cd。
Bi、Sn、Se1 InS Ga、Rbおよびこれら
を主成分とする合飢 好ましい合金の例としてはT e
−S eST e −S e −P b、 T e
−P b。
を主成分とする合飢 好ましい合金の例としてはT e
−S eST e −S e −P b、 T e
−P b。
Te−5n−5,5n−CuSTe−Cu−Pbなどが
あげられる。
あげられる。
(3)レーザービーム等の照射により相転移を生じて光
の反射率が変化する、Te酸化叡 Sb酸化物、MO酸
化物、Ge酸化物、■酸化I& Sm酸化物あるいはT
e酸化物−Ge、Te酸化物−5nなどの化合物も記録
層を形成するものとして使用できる。
の反射率が変化する、Te酸化叡 Sb酸化物、MO酸
化物、Ge酸化物、■酸化I& Sm酸化物あるいはT
e酸化物−Ge、Te酸化物−5nなどの化合物も記録
層を形成するものとして使用できる。
(4)上記金属と有機化合物または無機酸化物との複合
執 たとえばTe−CH,、Te−C52、Te−スチ
レe、5n−5o、、Gem−5n、5nS−3などの
薄乳 あるいは5i02/Ti/5iOa/AQなどの
多層膜も記録層として用い得る。
執 たとえばTe−CH,、Te−C52、Te−スチ
レe、5n−5o、、Gem−5n、5nS−3などの
薄乳 あるいは5i02/Ti/5iOa/AQなどの
多層膜も記録層として用い得る。
(5)さらく 光磁気記録材料であるGdCo、TbC
o、 G d F e、 D y F elG d
T b F eSG dFeBiS TbDyFe、
MnCuB1なども記録層として使用可能である。
o、 G d F e、 D y F elG d
T b F eSG dFeBiS TbDyFe、
MnCuB1なども記録層として使用可能である。
記録層の厚さI戯 200〜100OOA、 好まし
くは1000〜5000 Aである。
くは1000〜5000 Aである。
情報パターンが記録された記録層の形成にあたって檄
記録層およびフォトレジスト層を積層医フォトマスクを
介して露光した後、現像およびエツチングして、各カー
ドに共通の情報を記録することもできる。フォトレジス
ト層代 常用のフォトレジスト材料を用い、ロールコー
ト法なと任意の方法で塗布して形成すればよい。エツチ
ングも常用の方法で実施することができる。
記録層およびフォトレジスト層を積層医フォトマスクを
介して露光した後、現像およびエツチングして、各カー
ドに共通の情報を記録することもできる。フォトレジス
ト層代 常用のフォトレジスト材料を用い、ロールコー
ト法なと任意の方法で塗布して形成すればよい。エツチ
ングも常用の方法で実施することができる。
さらく この記録層の接着剤層側に反射層、エンハンス
層、保護層等を任意に形成し 積層することもできる。
層、保護層等を任意に形成し 積層することもできる。
接」し1層
本発明に係る光カード10で!瓢 記録層2と、塩化ビ
ニル樹脂製基材4とGL 接着剤層3を介して接合さ
れている。
ニル樹脂製基材4とGL 接着剤層3を介して接合さ
れている。
このような接着剤層3として叫 ポリオレフィン、エチ
レン−酢酸ビニル系共重合体 合成ゴム、ポリエステル
、ポリアミド、炭化水素樹脂系等のホットメルト接着剤
やレゾルシノール、シアノアクリレート、ウレタンアク
リレート、エポキシ、ウレタン、UV硬化型アクリレー
ト系などの反応型接着剤が使用できるバ 特にホットメ
ルト接着剤を用いることが好ましい。
レン−酢酸ビニル系共重合体 合成ゴム、ポリエステル
、ポリアミド、炭化水素樹脂系等のホットメルト接着剤
やレゾルシノール、シアノアクリレート、ウレタンアク
リレート、エポキシ、ウレタン、UV硬化型アクリレー
ト系などの反応型接着剤が使用できるバ 特にホットメ
ルト接着剤を用いることが好ましい。
本発明で1戴 ホットメルト接着剤を使用することによ
り本発明の光カードを高i 高湿の条件下で長期間使用
しても貼り合わせた基材、記録層、塩化ビニル樹脂製基
材の間にズレが発生せず、ソリ等の変形が小さいという
利点がある。
り本発明の光カードを高i 高湿の条件下で長期間使用
しても貼り合わせた基材、記録層、塩化ビニル樹脂製基
材の間にズレが発生せず、ソリ等の変形が小さいという
利点がある。
本発明において好ましい接着剤層として+4 エチレ
ン−酢酸ビニル共重合倣 エチレンとアクリル酸、メタ
クリル酸またはこれらのエステルとの共重合体 不飽和
カルボン酸、変性ポリオレフィン等が例示される。特に
好ましく IL 結晶性ポリオレフィン&ミ 不飽和
カルボン酸およびその誘導体からなる群より選ばれる少
なくとも1種のモノマーをグラフトして得られる不飽和
カルボン酸変性ポリオレフィンの使用が好ましい。
ン−酢酸ビニル共重合倣 エチレンとアクリル酸、メタ
クリル酸またはこれらのエステルとの共重合体 不飽和
カルボン酸、変性ポリオレフィン等が例示される。特に
好ましく IL 結晶性ポリオレフィン&ミ 不飽和
カルボン酸およびその誘導体からなる群より選ばれる少
なくとも1種のモノマーをグラフトして得られる不飽和
カルボン酸変性ポリオレフィンの使用が好ましい。
以下この不飽和カルボン酸変性ポリオレフィンについて
詳しく説明する。
詳しく説明する。
結晶性ポリオレフィンにグラフトさせるモノマーとして
1戴 不飽和カルボン酸、およびそれの誘導体で、たと
えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸
、イタコン酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水
ハイミック酸などの不飽和カルボン酸およびこれらのエ
ステル、例えばアクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、マレイン酸
エチルエステル等があげられる。
1戴 不飽和カルボン酸、およびそれの誘導体で、たと
えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸
、イタコン酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水
ハイミック酸などの不飽和カルボン酸およびこれらのエ
ステル、例えばアクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、マレイン酸
エチルエステル等があげられる。
なお、不飽和カルボン酸およびその誘導体からなる群よ
り選ばれる少なくとも1種の七ツマ−(以下、グラフト
モノマーと呼ぶことがある。)を結晶性ポリオレフィン
にグラフトするには種々の方法を採用することができる
。そのひとつに結晶性ポリオレフィンと、グラフトモノ
マーと、触媒とを同時に溶融均一化する方法があり、ま
た他の一つの方法には適当な溶媒中に懸濁している結晶
性ポリオレフィン中にグラフトモノマーおよび触媒を添
加する方法等がある。
り選ばれる少なくとも1種の七ツマ−(以下、グラフト
モノマーと呼ぶことがある。)を結晶性ポリオレフィン
にグラフトするには種々の方法を採用することができる
。そのひとつに結晶性ポリオレフィンと、グラフトモノ
マーと、触媒とを同時に溶融均一化する方法があり、ま
た他の一つの方法には適当な溶媒中に懸濁している結晶
性ポリオレフィン中にグラフトモノマーおよび触媒を添
加する方法等がある。
本発明において使用される結晶性ポリオレフィン頃 エ
チレン、プロピレンなどの結晶性単独重合体の他にエチ
レンとプロピレン、エチレンと1−ブテン、エチレンと
1−ヘキセン、プロピレンと1−ブテン等のオレフィン
同士の結晶性重合体も含む。
チレン、プロピレンなどの結晶性単独重合体の他にエチ
レンとプロピレン、エチレンと1−ブテン、エチレンと
1−ヘキセン、プロピレンと1−ブテン等のオレフィン
同士の結晶性重合体も含む。
これら結晶性ポリオレフィンとして高密度ポリエチレン
を用いる場合、そのメルトインデックス(190℃)は
0.02以上であることが好ましい。またポリプロピレ
ンを用いる場合にはメルトインデックス(230℃)が
0.05以上のものを用いることが好ましい。また結晶
性ポリオレフィンへのグラフトモノマーのグラフト量は
101〜5重量%の範囲にあることが好ましい。
を用いる場合、そのメルトインデックス(190℃)は
0.02以上であることが好ましい。またポリプロピレ
ンを用いる場合にはメルトインデックス(230℃)が
0.05以上のものを用いることが好ましい。また結晶
性ポリオレフィンへのグラフトモノマーのグラフト量は
101〜5重量%の範囲にあることが好ましい。
さらに本発明の接着剤層として+L 最初高濃度にグ
ラフトモノマーがグラフト化した変性結晶性ポリオレフ
ィンを調製しておき、次にグラフト化されていない結晶
性ポリオレフィンにこの変性結晶性ポリオレフィンを混
合し 全体として結果的にはグラフトモノマーの量を1
0−4〜5重量%に調製した場合も含まれる。実際の工
業的条件としては適正の濃度に調製し易い後者の結晶性
ポリオレフィン混合物を用いる例が好ましい。この変性
ポリオレフィン&へ さらに、ゴム、炭化水素樹脂等を
混合することによって、密着性、耐久性を高めることが
できる。接着剤層としてこのような不飽和カルボン酸変
性ポリオレフィンを用いることにより前記した基材/記
録層積層体と、後記塩化ビニル樹脂製基材との密着性は
特に良好になる。
ラフトモノマーがグラフト化した変性結晶性ポリオレフ
ィンを調製しておき、次にグラフト化されていない結晶
性ポリオレフィンにこの変性結晶性ポリオレフィンを混
合し 全体として結果的にはグラフトモノマーの量を1
0−4〜5重量%に調製した場合も含まれる。実際の工
業的条件としては適正の濃度に調製し易い後者の結晶性
ポリオレフィン混合物を用いる例が好ましい。この変性
ポリオレフィン&へ さらに、ゴム、炭化水素樹脂等を
混合することによって、密着性、耐久性を高めることが
できる。接着剤層としてこのような不飽和カルボン酸変
性ポリオレフィンを用いることにより前記した基材/記
録層積層体と、後記塩化ビニル樹脂製基材との密着性は
特に良好になる。
塩 ビニル 製基
本発明で塩化ビニル樹脂製基材としては塩化ビニル系樹
脂が用いられる。塩化ビニル系樹脂として、塩化ビニル
のホモポリマーや塩化ビニルを主体とした他の改質用七
ツマ−との共重合体を含むコポリマーが使用される。コ
ポリマー中に含まれるコモノマーとして鷹 アクリロニ
トリル、(メタ)アクリル酸エステル、スチレン、エチ
レン、ブタジェン、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等があ
げられるカー これらのコモノマーは たとえば40重
量%以下、好ましくは20重量%以下の量で存在させる
ことができる。
脂が用いられる。塩化ビニル系樹脂として、塩化ビニル
のホモポリマーや塩化ビニルを主体とした他の改質用七
ツマ−との共重合体を含むコポリマーが使用される。コ
ポリマー中に含まれるコモノマーとして鷹 アクリロニ
トリル、(メタ)アクリル酸エステル、スチレン、エチ
レン、ブタジェン、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等があ
げられるカー これらのコモノマーは たとえば40重
量%以下、好ましくは20重量%以下の量で存在させる
ことができる。
塩化ビニル系樹脂檄 いわゆる軟質、硬質の間者がとも
にシートの成形に用いられるが、一般には軟質配合でシ
ートに成形することが好ましい。
にシートの成形に用いられるが、一般には軟質配合でシ
ートに成形することが好ましい。
シート成形に際して塩化ビニル系樹脂を熱および光に対
して安定化するために安定剤を配合する。
して安定化するために安定剤を配合する。
安定剤としてLL ジアルキルスズラウレート、オク
チルスズメルカプチドタイプ、オクチルスズマレエート
タイプ等の有機錫系安定剤: ステアリン酸のCa塩、
Ba塩、ZnL MgL CdjFLPd塩等の金属
石鹸系安定剤、ゼオライト、その他の無機系安定剤が使
用される。
チルスズメルカプチドタイプ、オクチルスズマレエート
タイプ等の有機錫系安定剤: ステアリン酸のCa塩、
Ba塩、ZnL MgL CdjFLPd塩等の金属
石鹸系安定剤、ゼオライト、その他の無機系安定剤が使
用される。
硬質シートの場合(戴 原料樹脂100重量部に対して
0〜20重量部の量で、また軟質シートの場合&戴原料
樹脂100重量部に対して30〜50重量部の量で可塑
剤を配合することができる。可塑剤としてはジオクチル
フタレート、ジブチルフタレート等のフタル酸エステル
系可塑剤、ジオクチルアジペート等のアジピン酸エステ
ル系可塑剤: トリオクチルホスフェート等のリン酸エ
ステル系可塑剤: オクチルジアセチルグリセリド等の
グリセリド系可塑剤をあげることができる。
0〜20重量部の量で、また軟質シートの場合&戴原料
樹脂100重量部に対して30〜50重量部の量で可塑
剤を配合することができる。可塑剤としてはジオクチル
フタレート、ジブチルフタレート等のフタル酸エステル
系可塑剤、ジオクチルアジペート等のアジピン酸エステ
ル系可塑剤: トリオクチルホスフェート等のリン酸エ
ステル系可塑剤: オクチルジアセチルグリセリド等の
グリセリド系可塑剤をあげることができる。
また、この塩化ビニル系樹脂シートには公知の配合舷
たとえば各種ワックス類やパラフィン等の滑舷 チタン
白、黄色酸化鉄、有機顔料等の顔料、炭酸カルシウム等
の充填剤を配合することもできる。
たとえば各種ワックス類やパラフィン等の滑舷 チタン
白、黄色酸化鉄、有機顔料等の顔料、炭酸カルシウム等
の充填剤を配合することもできる。
塩化ビニル系樹脂組成初代 いかなる形状の成形体でも
よいカー 好ましくはカレンダー加工 押出加工等の手
段で、シートに成形できこのシートは一般に0.1〜5
mm、 好ましくは0.2〜0.5mmの厚みを有す
ることが好ましい。
よいカー 好ましくはカレンダー加工 押出加工等の手
段で、シートに成形できこのシートは一般に0.1〜5
mm、 好ましくは0.2〜0.5mmの厚みを有す
ることが好ましい。
次&−本発明に係る光カードの製造方法について説明す
る。
る。
まず基材温度を室温程度に保ち、複合ターゲット、ある
いは所定割合の組成を有する合金ターゲットを用い、ス
パッタリング法あるいは電子ビーム蒸着法などの従来公
知の成膜条件を採用して、この基材(基材は固定してい
てもよく、また自転していてもよい)上に記録層を被着
させる。
いは所定割合の組成を有する合金ターゲットを用い、ス
パッタリング法あるいは電子ビーム蒸着法などの従来公
知の成膜条件を採用して、この基材(基材は固定してい
てもよく、また自転していてもよい)上に記録層を被着
させる。
次に上記のようにして得られた基材/記録層積層体と塩
化ビニル樹脂製基材4とを、接着剤層3を用いて接着し
て一体化する。接着剤層3としてホットメルト接着剤を
用いる場合に1戴 たとえば押出機やロールコータ−装
置等により基材/記録層積層体および/または塩化ビニ
ル樹脂製基材にホントメルト接着剤を塗布し 次に加圧
して貼り合わせる方法が採用できる。また、塩化ビニル
系樹脂と接着剤樹脂とを共押出し 基材/記録層積層体
と貼合わせることもできる。
化ビニル樹脂製基材4とを、接着剤層3を用いて接着し
て一体化する。接着剤層3としてホットメルト接着剤を
用いる場合に1戴 たとえば押出機やロールコータ−装
置等により基材/記録層積層体および/または塩化ビニ
ル樹脂製基材にホントメルト接着剤を塗布し 次に加圧
して貼り合わせる方法が採用できる。また、塩化ビニル
系樹脂と接着剤樹脂とを共押出し 基材/記録層積層体
と貼合わせることもできる。
なお本発明に係る光カードは上記のような構成のみに限
らず、たとえば第2図に示すように記録層上にさらに反
射膜5を紋けた構成や、第3図に示すように記録層上に
さらに保護ffl!(エンハンス膜)6を設けた構成等
も含む。反射膜5、保護膜(エンハンス膜)6としては
従来公知のものを適宜使用することができる。このよう
な反射膜5、保護膜(エンハンス膜)6を設けることに
より、記録再生感度がさらに向上することがある。
らず、たとえば第2図に示すように記録層上にさらに反
射膜5を紋けた構成や、第3図に示すように記録層上に
さらに保護ffl!(エンハンス膜)6を設けた構成等
も含む。反射膜5、保護膜(エンハンス膜)6としては
従来公知のものを適宜使用することができる。このよう
な反射膜5、保護膜(エンハンス膜)6を設けることに
より、記録再生感度がさらに向上することがある。
1里り皇3
上記のような本発明に係る光カードで1戴 基材として
特定の環状オレフィン系ランダム共重合体を用いている
ので、基材の透明性、耐水性、耐吸湿性、耐打抜性、耐
屈曲性が高いので、カードの反りの問題もなく、しかも
複屈折が小さいので、記録密度の向上が可能である。そ
して、接着剤層が介在することによって、−層強度の高
い耐久性のある光カードとすることができる。
特定の環状オレフィン系ランダム共重合体を用いている
ので、基材の透明性、耐水性、耐吸湿性、耐打抜性、耐
屈曲性が高いので、カードの反りの問題もなく、しかも
複屈折が小さいので、記録密度の向上が可能である。そ
して、接着剤層が介在することによって、−層強度の高
い耐久性のある光カードとすることができる。
[実施例]
以下本発明を実施例によって説明するが、本発明はこれ
ら実施例に限定されるものではない。
ら実施例に限定されるものではない。
叉蓋1」
エチレンと1.4.5.8−ジメタノ−1,2,3,4
,4a、 5.8゜DOMNと略記する)の非品性の共
重合体(13C−NMR分析で測定したエチレン含量5
9モル%、DOMN含量41モル%、135℃のデカリ
ン中で測定した極限粘度〔η〕が0.42 a /g、
軟化温度(TMA)154℃)からなる共重合体を
原料を原料とし押出機を使用してTダイ成形法で肉厚3
50μmのシートを作製しtラ このシートの複屈折
はダブルバスで10nm、 破断点応力は620kg
/cm2、弾性率は22X 10”kg/cm2、吸水
率はO,01wt%(7日間)であつ?Q。
,4a、 5.8゜DOMNと略記する)の非品性の共
重合体(13C−NMR分析で測定したエチレン含量5
9モル%、DOMN含量41モル%、135℃のデカリ
ン中で測定した極限粘度〔η〕が0.42 a /g、
軟化温度(TMA)154℃)からなる共重合体を
原料を原料とし押出機を使用してTダイ成形法で肉厚3
50μmのシートを作製しtラ このシートの複屈折
はダブルバスで10nm、 破断点応力は620kg
/cm2、弾性率は22X 10”kg/cm2、吸水
率はO,01wt%(7日間)であつ?Q。
このシートを(54X 85m )の大きさに切断した
このシートの一面にT b / F e / Co系合
金からなる記録層を形成した 一方、これと同サイズの
カード用硬質塩化ビニル樹脂シートをウレタンアクリレ
ート系接着剤を用いて、前記の記録層と張り合わせた
得られたカード積層体を60℃、85%RHの恒温恒湿
槽に24時間放置し 変形を観察したが0.1mm以上
の中央部の凹または凸のソリは全く認められなかった また、前記接着剤の代り風 無水マレイン酸グラフト変
性ポリエチレンとポリエチレンとの混合物からなる厚さ
30μmのフィルムを両シートの間にはさみ加圧して接
着させ、良好な一体成形体を得た
このシートの一面にT b / F e / Co系合
金からなる記録層を形成した 一方、これと同サイズの
カード用硬質塩化ビニル樹脂シートをウレタンアクリレ
ート系接着剤を用いて、前記の記録層と張り合わせた
得られたカード積層体を60℃、85%RHの恒温恒湿
槽に24時間放置し 変形を観察したが0.1mm以上
の中央部の凹または凸のソリは全く認められなかった また、前記接着剤の代り風 無水マレイン酸グラフト変
性ポリエチレンとポリエチレンとの混合物からなる厚さ
30μmのフィルムを両シートの間にはさみ加圧して接
着させ、良好な一体成形体を得た
第1図(戴 本発明に係る光カードの概略断面図であり
、第2図および第3図は本発明に係る他の態様での光カ
ードの概略断面図である。 3・接着剤層 5・・反射膜 10・・・光カード 4・・・塩化ビニル樹脂製基材 6・・・保護膜(エンハンス膜)
、第2図および第3図は本発明に係る他の態様での光カ
ードの概略断面図である。 3・接着剤層 5・・反射膜 10・・・光カード 4・・・塩化ビニル樹脂製基材 6・・・保護膜(エンハンス膜)
Claims (4)
- (1)基材と、この基材の一方の面に形成された記録層
と、この記録層側に接着剤層を介して形成された塩化ビ
ニル樹脂製基材とを備え、 基材が、 エチレンと次式[ I ]または[ I ′]で表される環状
オレフィンとの共重合体であって、135℃のデカリン
中で測定した極限粘度[η]が0.05〜10dl/g
の範囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃以上である
環状オレフィン系ランダム共重合体からなることを特徴
とする光カード; ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・[ I ] (式中、nは0または1であり、mは0または正の整数
であって、 R^1〜R^1^8は、それぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子および炭化水素基よりなる群から選ばれる原
子もしくは基を表し、 R^1^5〜R^1^8は、互いに結合して単環または
多環を形成していてもよく、かつ該単環または多環が二
重結合を有していてもよく、 また、R^1^5とR^1^6とで、またはR^1^7
とR^1^8とでアルキリデン基を形成していてもよい
)。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・[ I ′] (式[ I ′]中、pは0または1以上の整数であり、
qおよびrは、0、1または2であり、R^1〜R^1
^5はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、脂肪族
炭化水素基、芳香族炭化水素基、およびアルコキシ基よ
りなる群から原子もしくは基を表し、R^5(またはR
^6)とR^9(またはR^7)とは、炭素数1〜3の
アルキレン基を介して結合していてもよく、また何の基
も介さずに直接結合していてもよい。) - (2)基材と、この基材の一方の面に形成された記録層
と、この記録層側に接着剤層を介して形成された塩化ビ
ニル樹脂製基材とを備え、 基材が、 エチレンと次式[ I ]または[ I ′]で表される環状
オレフィンとの共重合体であって、135℃のデカリン
中で測定した極限粘度[η]が0.05〜10dl/g
の範囲にあり、軟化温度(TMA)が70℃以上である
環状オレフィン系ランダム共重合体[A]と、エチレン
と次式[ I ]または[ I ′]で表される環状オレフィ
ンとの共重合体であって、135℃のデカリン中で測定
した極限粘度[η]が0.05〜5dl/gの範囲にあ
り、軟化温度(TMA)が70℃未満である環状オレフ
ィン系ランダム共重合体[B]とを配合してなる環状オ
レフィン系ランダム共重合体組成物からなることを特徴
とする光カード;▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・[ I ] (式中、nは0または1であり、mは0または正の整数
であって、 R^1〜R^1^8は、それぞれ独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子および炭化水素基よりなる群から選ばれる原
子もしくは基を表し、 R^1^5〜R^1^8は、互いに結合して単環または
多環を形成していてもよく、かつ該単環または多環が二
重結合を有していてもよく、 また、R^1^5とR^1^6とで、またはR^1^7
とR^1^8とでアルキリデン基を形成していてもよい
)。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ・・・[ I ′] (式[ I ′]中、pは0または1以上の整数であり、
qおよびrは、0、1または2であり、R^1〜R^1
^5はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、脂肪族
炭化水素基、芳香族炭化水素基、およびアルコキシ基よ
りなる群から原子もしくは基を表し、R^5(またはR
^6)とR^9(またはR^7)とは、炭素数1〜3の
アルキレン基を介して結合していてもよく、また何の基
も介さずに直接結合していてもよい。) - (3)前記接着剤層がホットメルト型合成樹脂からなる
ことを特徴とする請求項第1項または第2項のいずれか
に記載の光カード。 - (4)前記接着剤層がカルボン酸変性ポリオレフィンか
らなることを特徴とする請求項第1項または第2項のい
ずれかに記載の光カード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2069058A JP2862319B2 (ja) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | 光カード |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2069058A JP2862319B2 (ja) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | 光カード |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03269000A true JPH03269000A (ja) | 1991-11-29 |
JP2862319B2 JP2862319B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=13391591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2069058A Expired - Lifetime JP2862319B2 (ja) | 1990-03-19 | 1990-03-19 | 光カード |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2862319B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012252028A (ja) * | 2011-05-31 | 2012-12-20 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止転写箔、偽造防止媒体、偽造防止基材及び印刷物 |
-
1990
- 1990-03-19 JP JP2069058A patent/JP2862319B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2012252028A (ja) * | 2011-05-31 | 2012-12-20 | Toppan Printing Co Ltd | 偽造防止転写箔、偽造防止媒体、偽造防止基材及び印刷物 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2862319B2 (ja) | 1999-03-03 |
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