JPH03266350A - E×b型エネルギーフィルタ - Google Patents
E×b型エネルギーフィルタInfo
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- JPH03266350A JPH03266350A JP6385590A JP6385590A JPH03266350A JP H03266350 A JPH03266350 A JP H03266350A JP 6385590 A JP6385590 A JP 6385590A JP 6385590 A JP6385590 A JP 6385590A JP H03266350 A JPH03266350 A JP H03266350A
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- magnetic
- energy filter
- field distribution
- pole
- optical axis
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- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 91
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 34
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 6
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 230000005307 ferromagnetism Effects 0.000 claims description 2
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 abstract description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 6
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 239000013598 vector Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、電場と磁場が直交されて形成されている重畳
場を有するE×B型エネルギーフィルタに関するもので
ある。
場を有するE×B型エネルギーフィルタに関するもので
ある。
[従来の技術]
従来、電場と磁場を直交させ、この重畳場に直交する方
向に荷電粒子を直進させることによってエネルギー分析
を行うE×B型エネルギーフィルタ(以下、単にエネル
ギーフィルタと称す)が知られている。このようなエネ
ルギーフィルタの構造については種々提案されているが
、その−例を第1図に示す。
向に荷電粒子を直進させることによってエネルギー分析
を行うE×B型エネルギーフィルタ(以下、単にエネル
ギーフィルタと称す)が知られている。このようなエネ
ルギーフィルタの構造については種々提案されているが
、その−例を第1図に示す。
第1図はエネルギーフィルタの光軸に垂直な面における
断面を示す図であり、二つの磁極1,1′の間の磁極間
距離S、と、二つの電極2,2′の間の電極間距離S0
は略同−1望ましくは等しくなされている。なお、Zは
光軸を示す(以下、同じ)。
断面を示す図であり、二つの磁極1,1′の間の磁極間
距離S、と、二つの電極2,2′の間の電極間距離S0
は略同−1望ましくは等しくなされている。なお、Zは
光軸を示す(以下、同じ)。
第1図の構成によれば、エネルギーフィルタの内部では
勿論のこと、フリンジ場、即ちエネルギーフィルタにお
ける荷電粒子の入射部および出射部においてもウィーン
条件を満足させることができる。つまり、エネルギーフ
ィルタにおいては、荷電粒子を直進させる必要があり、
そのためには、電場をEl 磁場をB1 荷電粒子の速
度をVとしたとき、E=v*Bというウィーン条件を満
足しなければならない。たたしN E+ B、Vは
いずれもベクトルである。これは即ち、電場Eの分布と
磁場Bの分布の形状は、エネルギーフィルタの内部にお
いては勿論のこと、そのフリンジ場においても同じでな
ければならないことを意味する。そうでないとウィーン
条件が満足されないことになり、荷電粒子は直進しない
からである。
勿論のこと、フリンジ場、即ちエネルギーフィルタにお
ける荷電粒子の入射部および出射部においてもウィーン
条件を満足させることができる。つまり、エネルギーフ
ィルタにおいては、荷電粒子を直進させる必要があり、
そのためには、電場をEl 磁場をB1 荷電粒子の速
度をVとしたとき、E=v*Bというウィーン条件を満
足しなければならない。たたしN E+ B、Vは
いずれもベクトルである。これは即ち、電場Eの分布と
磁場Bの分布の形状は、エネルギーフィルタの内部にお
いては勿論のこと、そのフリンジ場においても同じでな
ければならないことを意味する。そうでないとウィーン
条件が満足されないことになり、荷電粒子は直進しない
からである。
第2図は、第1図に示す構成のエネルギーフィルタの光
軸Zに沿った電場分布6および電場分布7を示す図であ
るが、エネルギーフィルタ5の内部においては勿論、図
中8で示す荷電粒子の入射部近傍および図中9で示す出
射部近傍のフリンジ場においても、電場分布6と磁場分
布7の形状は略同一であり、ウィーン条件が満足されて
いることが分かる。
軸Zに沿った電場分布6および電場分布7を示す図であ
るが、エネルギーフィルタ5の内部においては勿論、図
中8で示す荷電粒子の入射部近傍および図中9で示す出
射部近傍のフリンジ場においても、電場分布6と磁場分
布7の形状は略同一であり、ウィーン条件が満足されて
いることが分かる。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、従来のエネルギーフィルタにおいては、磁極
を構成するヨークあるいはポールピースは鉄、パーマロ
イ等の導電性を有する金属で形成され、電極は銅やアル
ミニウム等の非磁性体で形成されているのが一般的であ
る。従って、電極は非磁性体であるから磁場に対しては
何等影響を及ぼすことはないが、磁極を形成する鉄は導
電体であるから電場に影響を及ぼす。その結果として、
第1図に示す構成の従来のエネルギーフィルタにおいて
は、光軸Zに垂直な面における電場分布Eの形状と磁場
分布Bの形状は第3図に示すように大きく異なっている
。つまり、電極は磁場に影響を与えないので、磁場分布
Bは広い範囲で一様であるが、電場分布Eは磁極に影響
されるので、光軸Zの近傍では磁場分布Bと同じ形状と
なるが、光軸Zから離れるに従ってその形状は磁場分布
Bからすれる。
を構成するヨークあるいはポールピースは鉄、パーマロ
イ等の導電性を有する金属で形成され、電極は銅やアル
ミニウム等の非磁性体で形成されているのが一般的であ
る。従って、電極は非磁性体であるから磁場に対しては
何等影響を及ぼすことはないが、磁極を形成する鉄は導
電体であるから電場に影響を及ぼす。その結果として、
第1図に示す構成の従来のエネルギーフィルタにおいて
は、光軸Zに垂直な面における電場分布Eの形状と磁場
分布Bの形状は第3図に示すように大きく異なっている
。つまり、電極は磁場に影響を与えないので、磁場分布
Bは広い範囲で一様であるが、電場分布Eは磁極に影響
されるので、光軸Zの近傍では磁場分布Bと同じ形状と
なるが、光軸Zから離れるに従ってその形状は磁場分布
Bからすれる。
従って、第1図に示す構成の従来のエネルギーフィルタ
においては、その磁場分布と電場分布は光軸Zの近傍に
おいてはウィーン条件を満足するものの、光軸Zからは
なれるに従ってウィーン条件を満足しなくなるので、荷
電粒子を直進させることができる範囲は非常に狭いもの
であった。
においては、その磁場分布と電場分布は光軸Zの近傍に
おいてはウィーン条件を満足するものの、光軸Zからは
なれるに従ってウィーン条件を満足しなくなるので、荷
電粒子を直進させることができる範囲は非常に狭いもの
であった。
また、上記の問題はフリンジ場においてはより深刻な問
題となっていた。即ち、磁場については2極構造である
が、磁極のヨークあるいはポールピースは導電体である
から、当該ヨークあるいはポールピースは電場の中に置
かれることによって電極として作用することになり、電
極は4極構造となる。従って、2極構造の磁極で形成さ
れる磁場のフリンジと、4極構造の電極で形成される電
場のフリンジとは異なる形状となり、結局、フリンジ場
においてはウィーン条件を満足させることができないも
のであった。
題となっていた。即ち、磁場については2極構造である
が、磁極のヨークあるいはポールピースは導電体である
から、当該ヨークあるいはポールピースは電場の中に置
かれることによって電極として作用することになり、電
極は4極構造となる。従って、2極構造の磁極で形成さ
れる磁場のフリンジと、4極構造の電極で形成される電
場のフリンジとは異なる形状となり、結局、フリンジ場
においてはウィーン条件を満足させることができないも
のであった。
そこで、実際には、上記の事項を考慮して、第4図に示
すように、磁極1,1′の而を適宜傾斜させることによ
って、非点なし結像を実現させることなどが行われてい
るが、その設計は非常に面倒であった。なお、第4図に
おいて電極間距離S。と、磁極間距離S、とは略同一で
あることは当然である。
すように、磁極1,1′の而を適宜傾斜させることによ
って、非点なし結像を実現させることなどが行われてい
るが、その設計は非常に面倒であった。なお、第4図に
おいて電極間距離S。と、磁極間距離S、とは略同一で
あることは当然である。
本発明は、上記の課題を解決するものであって、光軸を
中心として広い範囲に渡ってウィーン条件を満足できる
E×B型エネルギーフィルタを提供することを目的とす
るものである。
中心として広い範囲に渡ってウィーン条件を満足できる
E×B型エネルギーフィルタを提供することを目的とす
るものである。
[課題を解決するための手段]
上記の目的を達成するために、本発明のE×B型エネル
ギーフィルタは、電場と磁場が互いに直交して形成され
てなり、且つ電極間距離と磁極間距離とが略同一となさ
れたE×B型エネルギーフィルタにおいて、光軸に垂直
な面における磁場分布と電場分布が略同一形状となされ
ていることを特徴とする。
ギーフィルタは、電場と磁場が互いに直交して形成され
てなり、且つ電極間距離と磁極間距離とが略同一となさ
れたE×B型エネルギーフィルタにおいて、光軸に垂直
な面における磁場分布と電場分布が略同一形状となされ
ていることを特徴とする。
[作用コ
本発明に係るE×B型エネルギーフィルタにおいては、
電極間距離と磁極間距離とが略同一となされているので
、光軸に沿った磁場分布および電場分布の形状はフリン
ジ塩をも含めて略同一形状であり、また、光軸に垂直な
面においても磁場分布と電場分布は略同一形状となされ
ているので、光軸を中心とした広い範囲に渡ってウィー
ン条件を満足させることができる。
電極間距離と磁極間距離とが略同一となされているので
、光軸に沿った磁場分布および電場分布の形状はフリン
ジ塩をも含めて略同一形状であり、また、光軸に垂直な
面においても磁場分布と電場分布は略同一形状となされ
ているので、光軸を中心とした広い範囲に渡ってウィー
ン条件を満足させることができる。
[実施例コ
以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
ます、本発明に係るE×B型エネルギーフィルタの第1
の実施例について説明するが、その構成は第1図に示す
と同様であり、また、電極2,2′を形成する材料につ
いては従来と同様に銅、アルミニウム等の非磁性材料で
あるが、磁極1,1′のヨークあるいはポールピースを
構成する材料として、強磁性体で電気抵抗が十分に高く
、且つ完全な絶縁体でない材料、例えばフェライト、を
使用する点で従来のものと異なっている。これによって
、磁極1,1′が電場に及ぼす影響を無視することがで
きるようになり、磁場および電場は共に2極構造となる
ので、磁場分布、電場分布はそれぞれ第5図のB、
Eで示すように、光軸Zを中心として広い範囲で−様な
分布とすることができる。
の実施例について説明するが、その構成は第1図に示す
と同様であり、また、電極2,2′を形成する材料につ
いては従来と同様に銅、アルミニウム等の非磁性材料で
あるが、磁極1,1′のヨークあるいはポールピースを
構成する材料として、強磁性体で電気抵抗が十分に高く
、且つ完全な絶縁体でない材料、例えばフェライト、を
使用する点で従来のものと異なっている。これによって
、磁極1,1′が電場に及ぼす影響を無視することがで
きるようになり、磁場および電場は共に2極構造となる
ので、磁場分布、電場分布はそれぞれ第5図のB、
Eで示すように、光軸Zを中心として広い範囲で−様な
分布とすることができる。
従って、容易にフリンジ塩においてもウィーン条件を満
足させることができる。なお、磁極1゜1′を形成する
材料として完全な絶縁体を使用しない理由は、荷電粒子
が磁極1,1′にチャージアップすることを防止するた
めである。
足させることができる。なお、磁極1゜1′を形成する
材料として完全な絶縁体を使用しない理由は、荷電粒子
が磁極1,1′にチャージアップすることを防止するた
めである。
次に本発明の第2の実施例について説明する。
エネルギーフィルタの構成は第1図に示すものと同様で
あり、また、磁極1,1′を形成する材料は従来と同様
に鉄やパーマロイ等の強磁性と共に導電性を有する金属
であるが、電極を形成する材料として、導電性を有し、
且つ磁性あるいは強磁性を示す材料、例えば鉄あるいは
パーマロイ等、を使用する点で従来のものと異なってい
る。
あり、また、磁極1,1′を形成する材料は従来と同様
に鉄やパーマロイ等の強磁性と共に導電性を有する金属
であるが、電極を形成する材料として、導電性を有し、
且つ磁性あるいは強磁性を示す材料、例えば鉄あるいは
パーマロイ等、を使用する点で従来のものと異なってい
る。
以上の構成によれば、磁極1,1′は電場に影響を与え
、電極2,2′は磁場に影響を与える。即ち、磁極1,
1′は電極として作用し、電極2,2′は磁極として作
用することになるので、磁場および電場は共に4極構造
となる。
、電極2,2′は磁場に影響を与える。即ち、磁極1,
1′は電極として作用し、電極2,2′は磁極として作
用することになるので、磁場および電場は共に4極構造
となる。
このときの磁場分布B1 電場分布Eは第6図に示すよ
うになる。この分布は第5図に示すような一様性は有し
ていないが、磁場分布Bと電場分布Eの形状は略同一に
できるので、フリンジ塩においてもウィーン条件を満足
させることができる。
うになる。この分布は第5図に示すような一様性は有し
ていないが、磁場分布Bと電場分布Eの形状は略同一に
できるので、フリンジ塩においてもウィーン条件を満足
させることができる。
次に本発明に係る第3の実施例について説明する。磁極
面を傾斜させることについては上述した通りであるが、
磁極面を傾斜させることは非点なし結像を達成する意味
においても重要である。即ち、磁極面の傾斜角を磁極お
よび電極の構造に応じて設定することによって荷電粒子
の非点収差を補正することができることが知られている
。しかし、磁極の加工精度、組立精度、そしてエネルギ
ーフィルタ内での荷電粒子の振舞いが完全に解明されて
いない等の理由により、たとえ磁極、電極が設計通りに
加工され、組み立てられたとしても、磁極面の傾斜角を
修正する必要に迫られることがあった。
面を傾斜させることについては上述した通りであるが、
磁極面を傾斜させることは非点なし結像を達成する意味
においても重要である。即ち、磁極面の傾斜角を磁極お
よび電極の構造に応じて設定することによって荷電粒子
の非点収差を補正することができることが知られている
。しかし、磁極の加工精度、組立精度、そしてエネルギ
ーフィルタ内での荷電粒子の振舞いが完全に解明されて
いない等の理由により、たとえ磁極、電極が設計通りに
加工され、組み立てられたとしても、磁極面の傾斜角を
修正する必要に迫られることがあった。
そこで、第3の実施例においては、上記第2の実施例の
構成において電極にコイルを巻回し、該コイルに供給す
る励磁電流を調整することにより磁場分布を補正するの
である。
構成において電極にコイルを巻回し、該コイルに供給す
る励磁電流を調整することにより磁場分布を補正するの
である。
第7図は第3の実施例の構成例を示す図であり、磁極I
11′のヨークあるいはポールピースは鉄やパーマロイ
等の強磁性と共に導電性を有する金属で形成され、その
フィル3,3′には所定の励磁電流が供給されて、所定
の磁場分布を形成している。
11′のヨークあるいはポールピースは鉄やパーマロイ
等の強磁性と共に導電性を有する金属で形成され、その
フィル3,3′には所定の励磁電流が供給されて、所定
の磁場分布を形成している。
また、電極2,2′も、導電性を有し、且つ磁性あるい
は強磁性を示す材料、例えば鉄あるいはパーマロイ等、
で形成されており、それぞれ磁場分布補正用コイル4,
4′が巻回されている。
は強磁性を示す材料、例えば鉄あるいはパーマロイ等、
で形成されており、それぞれ磁場分布補正用コイル4,
4′が巻回されている。
コイル3,3′および磁場分布補正用コイル4゜4′に
供給される励磁電流は次のようである。いま、第8図(
a)に示すように磁B!、1’がそれぞれ強度がSIl
のS極、強度がN8のN極であるような励磁電流■8が
コイル3.3′供給されており、磁場分布補正用コイル
4,4′には電極2,2′が共に強度がS、のS極とな
るような励磁電流■、が供給されたとする。このときコ
イル3,3′に供給される励磁電流は、電極2,2′に
形成された磁極とは逆極性のN極であり、その強度はS
、と同し強度のN、である磁極が形成されるように変更
される。
供給される励磁電流は次のようである。いま、第8図(
a)に示すように磁B!、1’がそれぞれ強度がSIl
のS極、強度がN8のN極であるような励磁電流■8が
コイル3.3′供給されており、磁場分布補正用コイル
4,4′には電極2,2′が共に強度がS、のS極とな
るような励磁電流■、が供給されたとする。このときコ
イル3,3′に供給される励磁電流は、電極2,2′に
形成された磁極とは逆極性のN極であり、その強度はS
、と同し強度のN、である磁極が形成されるように変更
される。
つまり、フィル3には励磁電流(Is I+)が供給
されて、磁極1は(Ss十N+)の強度を有する磁極と
なり、コイル3′には励磁電流(Ia+I+)が供給さ
れて、磁極1′は(Ni+N+)の強度を有する磁極と
なる。
されて、磁極1は(Ss十N+)の強度を有する磁極と
なり、コイル3′には励磁電流(Ia+I+)が供給さ
れて、磁極1′は(Ni+N+)の強度を有する磁極と
なる。
また、磁場分布補正用コイル4,4′に電極2゜2′が
共に強度がN1のN極となるような励磁電流11が供給
された場合には、磁極1,1′は第8図(b)に示すよ
うになされる。
共に強度がN1のN極となるような励磁電流11が供給
された場合には、磁極1,1′は第8図(b)に示すよ
うになされる。
以上のように、二つの電極は同極性、同強度の磁極とな
るように、二つの磁極には電極に形成された磁極を打ち
消すような磁極が発生させるようにするのである。そし
て、電極に形成される磁極の強度を調整することは、磁
極面の傾斜角を変更したと等価であるので、これにより
非点収差の補正を容易に行えることは勿論のこと、フリ
ンジ場の補正を行うこともできるものである。
るように、二つの磁極には電極に形成された磁極を打ち
消すような磁極が発生させるようにするのである。そし
て、電極に形成される磁極の強度を調整することは、磁
極面の傾斜角を変更したと等価であるので、これにより
非点収差の補正を容易に行えることは勿論のこと、フリ
ンジ場の補正を行うこともできるものである。
[発明の効果コ
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、光軸
に垂直な面における磁場分布の形状と電場分布の形状を
略同一とできるので、フリンジ場においても容易にウィ
ーン条件を満足させることができる。
に垂直な面における磁場分布の形状と電場分布の形状を
略同一とできるので、フリンジ場においても容易にウィ
ーン条件を満足させることができる。
また、磁極および電極を共に鉄あるいはパーマロイで形
成した場合には、電極にコイルを巻回し、該コイルに供
給する励磁電流を調整することによって磁場分布を調整
できるので、非点収差の補正、フリンジ場の補正を容易
に行うことができる。
成した場合には、電極にコイルを巻回し、該コイルに供
給する励磁電流を調整することによって磁場分布を調整
できるので、非点収差の補正、フリンジ場の補正を容易
に行うことができる。
第1図はE×B型エネルギーフィルタの構成例を示す図
、第2図はフリンジ場を説明するための図、第3図は従
来のE×B型エネルギーフィルタにおける光軸に垂直な
面での磁場分布と電場分布を示す図、第4図はE×B型
エネルギーフィルタの他の構成例を示す図、第5図は本
発明の第1の実施例で形成される磁場分布および電場分
布を示す図、第6図は本発明の第2の実施例で形成され
る磁場分布および電場分布を示す図、第7図は本発明の
第3の実施例を説明するための図、第8図は本発明の第
3の実施例で形成される磁極の例を示す図である。 1.1′ ・・・磁極、2. 2’ ・・・電極。 第1図 出 願 人 日本電子株式会社
、第2図はフリンジ場を説明するための図、第3図は従
来のE×B型エネルギーフィルタにおける光軸に垂直な
面での磁場分布と電場分布を示す図、第4図はE×B型
エネルギーフィルタの他の構成例を示す図、第5図は本
発明の第1の実施例で形成される磁場分布および電場分
布を示す図、第6図は本発明の第2の実施例で形成され
る磁場分布および電場分布を示す図、第7図は本発明の
第3の実施例を説明するための図、第8図は本発明の第
3の実施例で形成される磁極の例を示す図である。 1.1′ ・・・磁極、2. 2’ ・・・電極。 第1図 出 願 人 日本電子株式会社
Claims (4)
- (1)電場と磁場が互いに直交して形成されてなり、且
つ電極間距離と磁極間距離とが略同一となされたE×B
型エネルギーフィルタにおいて、光軸に垂直な面におけ
る磁場分布と電場分布が略同一形状となされていること
を特徴とするE×B型エネルギーフィルタ。 - (2)電極は非磁性体で形成され、磁極のヨークあるい
はポールピースは、強磁性を有し、且つ電場に影響を及
ぼさない材料で形成されていることを特徴とする請求項
1記載のE×B型エネルギーフィルタ。 - (3)磁極のヨークあるいはポールピースは強磁性を示
し、且つ導電性を有する金属で形成され、電極は、導電
性を有し、且つ磁性または強磁性を有する材料で形成さ
れていることを特徴とする請求項1記載のE×B型エネ
ルギーフィルタ。 - (4)電極には磁場分布補正用のコイルが巻回されてな
ることを特徴とする請求項3記載のE×B型エネルギー
フィルタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6385590A JPH03266350A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | E×b型エネルギーフィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6385590A JPH03266350A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | E×b型エネルギーフィルタ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03266350A true JPH03266350A (ja) | 1991-11-27 |
Family
ID=13241370
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6385590A Pending JPH03266350A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | E×b型エネルギーフィルタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03266350A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7109484B2 (en) | 2000-07-27 | 2006-09-19 | Ebara Corporation | Sheet beam-type inspection apparatus |
US7135676B2 (en) | 2000-06-27 | 2006-11-14 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US7241993B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-07-10 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
-
1990
- 1990-03-14 JP JP6385590A patent/JPH03266350A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7135676B2 (en) | 2000-06-27 | 2006-11-14 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US7241993B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-07-10 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US7297949B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-11-20 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US7411191B2 (en) | 2000-06-27 | 2008-08-12 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US7601972B2 (en) | 2000-06-27 | 2009-10-13 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US8053726B2 (en) | 2000-06-27 | 2011-11-08 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US8368031B2 (en) | 2000-06-27 | 2013-02-05 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US8803103B2 (en) | 2000-06-27 | 2014-08-12 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US9368314B2 (en) | 2000-06-27 | 2016-06-14 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US7109484B2 (en) | 2000-07-27 | 2006-09-19 | Ebara Corporation | Sheet beam-type inspection apparatus |
US7417236B2 (en) | 2000-07-27 | 2008-08-26 | Ebara Corporation | Sheet beam-type testing apparatus |
US7829871B2 (en) | 2000-07-27 | 2010-11-09 | Ebara Corporation | Sheet beam-type testing apparatus |
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