JPH03263885A - バイモルフ形平面駆動素子およびその製造方法 - Google Patents

バイモルフ形平面駆動素子およびその製造方法

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JPH03263885A
JPH03263885A JP2063145A JP6314590A JPH03263885A JP H03263885 A JPH03263885 A JP H03263885A JP 2063145 A JP2063145 A JP 2063145A JP 6314590 A JP6314590 A JP 6314590A JP H03263885 A JPH03263885 A JP H03263885A
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JP
Japan
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dimensional
drive
bimorph
deep groove
individual
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Application number
JP2063145A
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English (en)
Inventor
Tsutomu Nishimura
力 西村
Keiichi Yanagisawa
佳一 柳沢
Norihiro Funakoshi
宣博 舩越
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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  • General Electrical Machinery Utilizing Piezoelectricity, Electrostriction Or Magnetostriction (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、固定した駆動素子上において物体を移動さ
せるか、または駆動素子を物体本体に固定し、物体を移
動させるための平面駆動素子およびその製造方法に関す
るものである。
〔従来の技術〕
従来、圧電セラミックスを利用したこの種の平面駆動素
子は、しかるべき位置での電極の形成が困難であったた
め、単体の平面駆動素子を形成した後に、この単体の平
面駆動素子を一つの基体上に一次元あるいは二次元状に
整列配置することにより構成されていた。
また、平面駆動素子の構成として圧電素子を利用したも
の以外にも、機械的な平面駆動素子あるいは磁歪素子の
集合によって同様の機能を実現していた。
(発明が解決しようとする課題] 従来の平面駆動素子は、前記のように構成されていたた
め、組み立てた個別の平面駆動素子間の位置決め精度が
十分ではなく、また、駆動方向が一様でなかったり、平
面駆動素子間の性能のばらつきがあり、そのために平面
駆動素子の特性が一様でなかったり、また、配線が一括
して行えないために、組立工程が複雑化するなどの問題
点を有していた。
この発明は、前記のような問題点を解決し、個別の平面
駆動素子間の性能が一様で、かつ、整列配置の精度が高
いため、駆動性能が著しく良好であるバイモルフ形平面
駆動素子およびその製造方法を提供することを目的とす
るものである。
〔課題を解決するための手段〕
前記目的を達成するため、この発明のバイモルフ形平面
駆動素子は以下のような構成および製造方法としたもの
である。
(1)バイモルフ積層形圧電セラミックスのブロックの
表面のバイモルフとバイモルフの中間の領域に一次元櫛
形状に複数の深溝を形成して構成された一次元トレンチ
と、 この一次元トレンチを構成する個別の駆動アクチュエー
タの側面部に形成された電極と、前記個別の駆動アクチ
ュエータを一次元の単独または共同で駆動させるため、
前記深溝の底面部に沿って配されたリード端子とから成
ることを特徴とするバイモルフ形平面駆動素子。
(2)バイモルフ積層形圧電セラミックスのブロックの
表面のバイモルフとバイモルフの中間の領域に一次元櫛
形状に複数の深溝を形成して構成された一次元トレンチ
に直角に複数の深溝を形成して構成した二次元トレンチ
と、 この二次元トレンチを構成する個別の駆動アクチュエー
タの一方向側面部に形成された電極と、前記個別の駆動
アクチュエータを二次元の単独または共同で駆動させる
ため、前記深溝底面部に沿って一次元櫛形状に配された
リード端子とから成ることを特徴とするバイモルフ形平
面駆動素子。
(3)バイモルフ積層形圧電セラミックスのブロックの
表面のバイモルフとバイモルフの中間の領域に一次元櫛
形状に複数の深溝を形成して一次元トレンチとなし、 この一次元トレンチを構成する個別の駆動アクチュエー
タの側面部に電極を形成し、 前記個別の駆動アクチュエータを一次元の単独または共
同で駆動させるため、前記深溝の底面部に沿って一次元
櫛形状にリード端子を配することを特徴とするバイモル
フ形平面駆動素子の製造方法。
(4)バイモルフ積層形圧電セラミックスのブロックの
表面のバイモルフとバイモルフの中間の領域に一次元櫛
形状に複数の第1の深溝を形成して一次元トレンチとな
し、 この一次元トレンチを構成する個別の駆動アクチュエー
タの側面部に電極を形成した後、前記第1の深溝と直交
するように複数の第2の深溝を一次元櫛形状に形成する
ことにより二次元の個別の駆動アクチュエータを構成し
て二次元トレンチとなし、 前記二次元の個別の駆動アクチュエータを二次元の単独
または共同で駆動させるため、前記第1の深溝の底面部
に沿って一次元櫛形状にリード端子を配することを特徴
とするバイモルフ形平面駆動素子の製造方法。
従って、従来の技術とは、均一な特性を有するバイモル
フ積層形圧電セラミックスを用し)、これに−柄加工を
施すことにより、一次元または二次元配列の一次元駆動
が可能なバイモルフ形平面駆動素子を実現した点が異な
る。
〔作用〕
一次元駆動のバイモルフ形平面駆動デバイスにおいては
、駆動方向をχとすれば、Xアドレス方式により駆動さ
せることができる。すなわち、X走査信号発生器により
リード端子を介して任意の電極に電圧を印加すると、こ
の電圧に比例した個別の駆動アクチュエータの変位量が
得られる。従って、個別の駆動アクチュエータの駆動面
に物体を置いた場合、隣り合った電極に順次電圧を印加
することにより、個別の駆動アクチュエータを順次変位
させ、物体をX方向に移動させる。
また、二次元配列された一次元駆動のバイモルフ形平面
駆動デバイスにおいては、駆動方向をXおよびYとして
、XYアドレス方式を用いて、すなわち、(χ、Y)マ
トリックスにおける任意の個別の駆動アクチュエータを
選択し、XまたはY走査信号発生器によりリード端子を
介して電極に電圧を印加し、個別の駆動アクチュエータ
をX。
Y方向に駆動させる。
〔実施例〕
第1図は、この発明の第1の実施例を示す一次元駆動の
バイモルフ形平面駆動デバイスの概略斜視図であり、1
はバイモルフ積層形圧電セラミ・ノクスからなる個別の
駆動アクチュエータ、2は個別の駆動アクチエータ1の
間に形成された複数の深溝、3はこの深溝2の底面に付
着した電極4を分離するため加工された微小溝で、前記
底面部のほぼ中心に沿って形成されている。4はこの個
別の駆動アクチュエータ1の側壁面上に形成された電極
、5はこの深溝2の底面部に配設されたリード端子で、
その接点5a、5bがそれぞれの電極に接続している。
6は個別の駆動アクチュエータ1の駆動面である。
以上のように構成された一次元駆動のノ\イモルフ形平
面駆動デバイスの駆動の仕方について述べる。第1図に
示すように駆動方向をXとすれば、Xアドレス方式によ
り駆動させることができる。
すなわち、X走査信号発生器(図示しない)によりリー
ド端子5を介して任意の電極4に電圧を印加すると、こ
の電圧に比例した個別の駆動アクチュエータ1の変位量
が得られる。従って、駆動面6に物体を置いた場合、隣
り合った電極4に順次電圧を印加することにより、個別
の駆動アクチュエータ1を順次変位させ、前記物体をX
方向に移動させることが可能となる。
第2図は、第1図に示したこの発明の一次元駆動のバイ
モルフ形平面駆動デバイスを製造する工程を説明するた
めの図である。すなわち、第1の工程(1)において、
平面精度および表面精度の優れたバイモルフ積層形圧電
材料からなる数十枚積層したブロックBを用意する。こ
の場合、分極方向が対向するように材料を貼り合わせ、
最終的に素子構造を反映したブロックとする。この貼り
合わせるバイモルフ単体の厚みによって素子のピッチが
決まることになる。
第2の工程(2)において、このブロックBの表面に、
ダイヤモンドまたは砥石を切削刃とするダイシングソー
により、または放電加工法を用いて一次元櫛形状に一定
の間隔をもって複数の深溝2を加工し、複数の個別のバ
イモルフ積層形圧電セラミックスの駆動アクチュエータ
1からなる一次元トレンチTを構成する。この場合、深
溝2はバイモルフとバイモルフの中間の領域に形成する
第3の工程(3)において、蒸着法、スパッタリング法
、ECRプラズマ法あるいは無電解メツキ法などにより
、個別の駆動アクチュエータ1の駆動面6および側壁面
、深溝2の底面部にわたって電極4を形成する。
第4の工程(4)において、個別の駆動アクチュエータ
1の駆動面6に存在する余分な電極を除去する。
第5の工程(5)において、個別の駆動アクチュエータ
1間の電気的な分離を図るため、深溝2の底面部のほぼ
中心部分に沿って第2の工程(2)と同様の方法により
微小溝3を形成する。この微小溝3の幅は当初形成した
深溝2の幅と同一である必要はなく、さらに幅および深
さの小さな溝を形成するだけでよい。このようにして深
溝2の底部に付着した電極材を除去する。
第6の工程(6)において、深溝2の底面部にリード端
子5を挿入して固定する。この場合、リード端子5の接
点5a、5bの表面にハンダ7が1く形成してあれば、
僅かな加熱作業により一様に固定可能である。
第3図は、この発明の第2の実施例を示す個別動作可能
な一次元駆動のバイモルフ形平面駆動デバイスの概略斜
視図であり、個別の駆動アクチュエータを二次元に配列
させたものである。ここで、9はバイモルフ積層形圧電
セラミックスのブロックの表面にお互いが直交するよう
に、かつ、二次元に形成された第1の深溝8および第2
の深溝8′により各々独立して構成された個別の駆動ア
クチュエータである。この場合、電極4は個別の駆動ア
クチュエータ9の一方向側壁面、ここでは第1の深溝8
に面した側壁面上に形成されており、かつ、第1の深溝
8の底面部のほぼ中心部分に沿って形成された微小溝3
によって電気的に分離されており、リード端子5は第1
の深溝8の底面部に配設されている。
(製造例1) さらに、具体的な製造例を説明する。1.6+++X4
cm X 3cmの板厚方向に分極したPZT板を25
枚、分極の向きが互いに逆になるように貼り合わせた4
 X4 X3cm 3のバイモルフ積層形圧電セラミッ
クスブロックを用意し、その表面にバイモルフとバイモ
ルフの中間領域にダイシングソーにより一次元櫛形状に
深さ2cm、幅1鵬の深溝2を1.6n。
ピッチ間隔で形成した。この場合、深溝2を各PZT板
の中心位置に形成したため、深溝2の両側に0.3mm
の厚さのPZT板が形成できることになる。したがって
、全体で0.6mmの厚さの可動突起が個別の駆動アク
チュエータとして形成できることになる。加工歪の除去
のためケミカルエツチングを施した後、NiPの無電解
メツキを行い、個別の駆動アクチュエータ1の駆動面6
および側壁面、深溝2の底面部にわたって金属膜を電極
4として形成する。次いで、駆動面6およびバイモルフ
積層形圧電セラミックスブロック端面に存在する余分な
金属膜を研削または研磨により除去した後、深溝2の底
面部のほぼ中心部分に沿って幅0.5 mm、深さ1−
の微小溝3を形成し、個別の駆動アクチュエータ1間の
電極4を分離する。さらに、リード端子5を深溝2の底
面部に挿入してハンダ等で固定する。このようにして、
一次元駆動の平面駆動デバイスが形成でき、−回の動作
で50μmの変位量が実現できた。
(製造例2) 製造例1と同様にして、1.6mm X4cm X3c
mの板厚方向に分極したPZT板を25枚、分極の向き
が互いに逆になるように貼り合わせた4×4×3cm3
のバイモルフ積層形圧電セラミックスのブロックを用意
し、第2図と同様にしてその表面のバイモルフとバイモ
ルフの中間領域に一次元櫛形状に複数の第1の深溝8を
深さ2 cm、幅1rMi、ピッチ間隔 1.6皿にて
形成した。加工歪の除去、電極4の形成および不要電極
の除去は製造例1と同様である。次いで、既に形成した
第1の深溝8と直角方向に同様にして複数の第2の深溝
8′を深さ2国、幅1mm、ピッチ間隔1.6=にて形
成することにより、24 X 24の個別の駆動アクチ
ュエータ9を構成する。さらに、第1の深溝8の底面部
に電極分離のための微小溝3を形成し、この底面部に沿
ってリード端子5を設置することにより、24×24の
個別の駆動アクチュエータ9を有する一次元駆動のバイ
モルフ形平面駆動デバイスを製造した。
このように、個別駆動可能な一次元駆動のバイモルフ形
平面駆動デバイスにより、部分的に駆動量の制御が可能
なことを確認した。
以上のようにして構成された個別駆動可能な一次元駆動
の平面駆動デバイスの駆動の仕方についてのべる。
第4図はこの発明の第3の実施例を説明するための図で
あり、第1乃至第2の実施例で示したバイモルフ形平面
駆動デバイスの各個別の駆動アクチュエータ1,9の駆
動面6に曲面状柔軟性膜12を形成した部分拡大構成図
を示したものである。
このような構成のバイモルフ形平面駆動素子の駆動の仕
方は、第1乃至第2の実施例の場合と同様であるが、曲
面状柔軟性膜12を個別の駆動アクチュエータ1.9の
駆動面6に形成することにより新たにつぎのような効果
を発生する。
■:摩擦力の増加により、個別の駆動アクチュエータ2
.9の駆動面6上における物体の移動を容易にするとと
もに、すべりによる傷の発生を防止できる。
■:二曲面状柔軟性膜12表面形状を制御することによ
り、物体の接触面積を自由にコントロールすることがで
きる。
■二曲面状柔軟性膜12は個別の駆動アクチュエータ1
.9の表面保護の役目も果たすため、個別の駆動アクチ
ュエータ1,9の駆動面6の表面の磨耗、電極の損傷、
電気的なショートなどを発生させず、バイモルフ形平面
駆動素子自体の寿命の向上を図ることができる。
第5図は、このような曲面状柔軟性膜12を個別の駆動
アクチュエータ1,9の駆動面6に形成するための方法
を示したものである。
先ず、第1の工程(1)において、バイモルフ形平面駆
動素子13およびアクリルまたはエポキシ系のフォトポ
リマー14を用意する。
第2の工程(2)において、バイモルフ形平面駆動素子
13の先端部分、すなわち、駆動面6をフォトポリマー
14中に浸漬してディッピングする。
第3の工程(3)において、デインピングしたフォトポ
リマー14に紫外線照射装置15を用いて紫外線16を
照射して硬化させる。この場合、フォトポリマー14と
して粘度の小さなものを用いれば、バイモルフ形平面駆
動素子13面に薄く比較的均一な高分子膜を曲面状柔軟
性膜12として形成でき、粘度の大きなものを用いれば
、比較的厚めでしかも急峻状の高分子膜が曲面状柔軟性
膜12として形成できる。さらに、フォトポリマー14
の原料の構造や架橋剤の種類を調整することにより、曲
面状柔軟性膜120表面硬度を制御することも可能とな
る。
曲面状柔軟性膜12は、このようなフォトポリマー14
のディッピングによる形成方法とは別に、次のような方
法によっても実現可能である。
(1)先ず、バイモルフ形平面駆動素子13を用意する
(2)バイモルフ形平面駆動素子13を真空装置内にセ
ントする。
(3)この真空装置内にメタン、エタン、エチレンなど
の原料ガスを導入し、対向電極間にに電界をかけること
によってプラズマを発生させ、このプラズマにより前記
原料ガスを重合させて、前記バイモルフ形平面駆動素子
13面上に堆積させ、曲面状柔軟性膜12を形成する。
〔発明の効果〕
以上説明したように、この発明のバイモルフ形平面駆動
素子は、変位量の大きな一次元駆動が可能で、しかも、
各個別の駆動アクチュエータ間の性能が一様であるため
、駆動性能の高い平面駆動素子を容易に実現できる効果
がある。すなわち、従来の単一の圧電セラミックスから
形成した個別の駆動アクチュエータの変位量が1ミクロ
ン程度であったのに対し、この発明のバイモルフ形平面
駆動素子では50〜100 ミクロンと大きな値を得る
ことができる。さらに、個々のバイモルフ形平面駆動素
子の表面に柔軟性の高い曲面構造を形成することにより
、ハンドリング性能の高い、しかも−括製造により個別
の駆動アクチュエータ間の性能が一様で駆動性能が高い
平面駆動素子を容易に実現できるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第1の実施例であり一次元駆動のバ
イモルフ形平面駆動デバイスを示す概略斜視図、第2図
はこの一次元駆動のバイモルフ形平面駆動素子の製造工
程を説明するための図、第3図はこの発明の第2の実施
例であり個別駆動可能な一次元駆動のバイモルフ形平面
駆動デバイスを示す概略斜視図、第4図はこの発明の第
3の実施例であり個別の駆動アクチュエータの駆動面に
曲面状柔軟性膜を形成したバイモルフ形平面駆動素子の
部分拡大構成図、第5図は個別の駆動アクチュエータの
駆動面への曲面状柔軟性膜の形成方法を説明するための
図である。 1.9・・・個別の駆動アクチュエータ、2.8.8’
、10.10’・・・深溝、3・・・微小溝、 4・・・電極、 5・・・リード端子、 6・・・駆動面、 7・・・ハンダ、 12・・・曲面状柔軟性膜、 13・・・バイモルフ形平面駆動素子、14・・・フォ
トポリマー 15・・・紫外線照射装置、 16・・・紫外線、 B・・・ブロック、 T・・・一次元トレンチ。 駆動面6 Sat1点 この発明の第1の実施例のバイモルフ形平面駆動デバイ
ス第1図 この発明の第3の実施例のバイモルフ形平面駆動素子の
部分拡大構成図第4図 駆動アクチュエータの駆動面への曲面状柔軟性膜の形成
方法第5図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)バイモルフ積層形圧電セラミックスのブロックの
    表面のバイモルフとバイモルフの中間の領域に一次元櫛
    形状に複数の深溝を形成して構成された一次元トレンチ
    と、 この一次元トレンチを構成する個別の駆動アクチュエー
    タの側面部に形成された電極と、 前記個別の駆動アクチュエータを一次元の単独または共
    同で駆動させるため、前記深溝の底面部に沿って配され
    たリード端子とから成ることを特徴とするバイモルフ形
    平面駆動素子。
  2. (2)バイモルフ積層形圧電セラミックスのブロックの
    表面のバイモルフとバイモルフの中間の領域に一次元櫛
    形状に複数の深溝を形成して構成された一次元トレンチ
    に直角に複数の深溝を形成して構成した二次元トレンチ
    と、 この二次元トレンチを構成する個別の駆動アクチュエー
    タの一方向側面部に形成された電極と、前記個別の駆動
    アクチュエータを二次元の単独または共同で駆動させる
    ため、前記深溝底面部に沿って一次元櫛形状に配された
    リード端子とから成ることを特徴とするバイモルフ形平
    面駆動素子。
  3. (3)バイモルフ積層形圧電セラミックスのブロックの
    表面のバイモルフとバイモルフの中間の領域に一次元櫛
    形状に複数の深溝を形成して一次元トレンチとなし、 この一次元トレンチを構成する個別の駆動アクチュエー
    タの側面部に電極を形成し、 前記個別の駆動アクチュエータを一次元の単独または共
    同で駆動させるため、前記深溝の底面部に沿って一次元
    櫛形状にリード端子を配することを特徴とするバイモル
    フ形平面駆動素子の製造方法。
  4. (4)バイモルフ積層形圧電セラミックスのブロックの
    表面のバイモルフとバイモルフの中間の領域に一次元櫛
    形状に複数の第1の深溝を形成して一次元トレンチとな
    し、 この一次元トレンチを構成する個別の駆動アクチュエー
    タの側面部に電極を形成した後、 前記第1の深溝と直交するように複数の第2の深溝を一
    次元櫛形状に形成することにより二次元の個別の駆動ア
    クチュエータを構成して二次元トレンチとなし、 前記二次元の個別の駆動アクチュエータを二次元の単独
    または共同で駆動させるため、前記第1の深溝の底面部
    に沿って一次元櫛形状にリード端子を配することを特徴
    とするバイモルフ形平面駆動素子の製造方法。
JP2063145A 1990-03-14 1990-03-14 バイモルフ形平面駆動素子およびその製造方法 Pending JPH03263885A (ja)

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