JPH0325915A - 電子ビーム描画装置用試料ホルダー - Google Patents
電子ビーム描画装置用試料ホルダーInfo
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- JPH0325915A JPH0325915A JP16144489A JP16144489A JPH0325915A JP H0325915 A JPH0325915 A JP H0325915A JP 16144489 A JP16144489 A JP 16144489A JP 16144489 A JP16144489 A JP 16144489A JP H0325915 A JPH0325915 A JP H0325915A
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- sample
- mask
- sample holder
- bending
- groove
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- Pending
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
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Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は集積回路部品やフォトマスク製造における電子
線リソグラフィー工程に使用する電子ビーム描画装置用
試料ホルダーに関する。
線リソグラフィー工程に使用する電子ビーム描画装置用
試料ホルダーに関する。
電子ビーム描画装置は、電子線を試料であるマスクやウ
エハ上に塗布した電子線感光レジストに照射して、高い
描画精度で回路パターンを描画する装置である。
エハ上に塗布した電子線感光レジストに照射して、高い
描画精度で回路パターンを描画する装置である。
マスクやウエハは、色々な大きさや厚さや形状があるた
め、直接電子ビーム描画装置のXYステージに固定する
のは困難である。そのため、従来のこの種の試料ホルダ
ーは、試料の形状別に製作され、描画の際はこれらの試
料ホルダーにまず試料を固定する。試料ホルダーは外形
が同じに作られているため、あらかじめその外形に合わ
せて設計されたXYステージに容易に挿入し固定するこ
とができる。
め、直接電子ビーム描画装置のXYステージに固定する
のは困難である。そのため、従来のこの種の試料ホルダ
ーは、試料の形状別に製作され、描画の際はこれらの試
料ホルダーにまず試料を固定する。試料ホルダーは外形
が同じに作られているため、あらかじめその外形に合わ
せて設計されたXYステージに容易に挿入し固定するこ
とができる。
XYステージの側面には、レーザー干渉測長計のレーザ
ー光線を反射する鏡がXY軸用に2枚取り付けられてい
る。これらはXYステージ、試料ホルダー及び試料が露
光中に相対的にずれないという仮定のもとに、XYステ
ージ側面の鏡の位置の変化から試料の位置の変化を測定
している。
ー光線を反射する鏡がXY軸用に2枚取り付けられてい
る。これらはXYステージ、試料ホルダー及び試料が露
光中に相対的にずれないという仮定のもとに、XYステ
ージ側面の鏡の位置の変化から試料の位置の変化を測定
している。
従来の電子ビーム描画装置用の試料ホルダーの一例とし
て、第5図にその斜視図を示す。すなわち、試料ホルダ
ー1の満部にマスク2を挿入し、爪とねじで固定する構
造である。
て、第5図にその斜視図を示す。すなわち、試料ホルダ
ー1の満部にマスク2を挿入し、爪とねじで固定する構
造である。
上述した従来の試料ホルダーは、試料ホルダー1とマス
ク2とが露光中に相対的に位置がずれる可能性がある。
ク2とが露光中に相対的に位置がずれる可能性がある。
すなわち、マスク2が挿入固定された試料ホルダー1は
、露光前に真空前室からXYステージに挿入固定される
。この時、XYステージと試料ホルダー1との間に温度
差があると、これらは材質や形状が異なるため熱膨張係
数に従って伸縮し、相対的な位置が変化する。
、露光前に真空前室からXYステージに挿入固定される
。この時、XYステージと試料ホルダー1との間に温度
差があると、これらは材質や形状が異なるため熱膨張係
数に従って伸縮し、相対的な位置が変化する。
又、試料ホルダー1とマスク2も材質や形状が異なるた
め熱膨張係数に従って伸縮し、相対的な位置が変化する
。
め熱膨張係数に従って伸縮し、相対的な位置が変化する
。
通常は、この温度差がないように調整されているが、ど
うしても若干は温度差があるためずれが発生し、描画し
たパターンにもずれが発生するという欠点がある。
うしても若干は温度差があるためずれが発生し、描画し
たパターンにもずれが発生するという欠点がある。
又、挿入固定の際の操作ミスや故障で、試料ホルダー1
とマスク2とが異常な相対位置になっていても、従来の
試料ホルダーでは異常が検出できないという欠点がある
。
とマスク2とが異常な相対位置になっていても、従来の
試料ホルダーでは異常が検出できないという欠点がある
。
本発明は、電子ビームを照射する試料を固定するための
電子ビーム描画装置用試料ホルダーにおいて、前記試料
により押圧される板ばねを備え、この板ばねに前記試料
との間の熱膨張差による位置変化を検出する歪ケージを
取り付けた電子ビーム描画装置用試料ホルダーである。
電子ビーム描画装置用試料ホルダーにおいて、前記試料
により押圧される板ばねを備え、この板ばねに前記試料
との間の熱膨張差による位置変化を検出する歪ケージを
取り付けた電子ビーム描画装置用試料ホルダーである。
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例を示す斜視図である。試
料ホルダー1のマスクが挿入される溝の側面には板ばね
3が取り付けてあり、マスクが挿入されるとマスクの側
面が接触して板ばね3が曲がるようになっている.そし
て、マスク2は、板ばね3を押圧した状態で試料ホルダ
ー1に固定される。
料ホルダー1のマスクが挿入される溝の側面には板ばね
3が取り付けてあり、マスクが挿入されるとマスクの側
面が接触して板ばね3が曲がるようになっている.そし
て、マスク2は、板ばね3を押圧した状態で試料ホルダ
ー1に固定される。
板ばね3には歪ケージが取り付けてあり、歪ケージから
の信号線は試料ホルダー1とXYステージとの接続面に
ある接触端子4に接続され、ここからXYステージの接
続端子へとセンサー信号を伝えられるようになっている
。
の信号線は試料ホルダー1とXYステージとの接続面に
ある接触端子4に接続され、ここからXYステージの接
続端子へとセンサー信号を伝えられるようになっている
。
第2図(a),(b)は、この板ばね3のそれぞれ平面
図及び正面図である。板ばね3は、ねじ穴6にねじを通
して試料ホルダー1に固定される。板ばね3にはマスク
と接触する面の裏側に歪ケージ5が取り付けてあって、
これにより板ばね3の曲がり具合を抵抗の変化として検
出できるようになっている。
図及び正面図である。板ばね3は、ねじ穴6にねじを通
して試料ホルダー1に固定される。板ばね3にはマスク
と接触する面の裏側に歪ケージ5が取り付けてあって、
これにより板ばね3の曲がり具合を抵抗の変化として検
出できるようになっている。
次に、この試料ホルダー1の機能を説明する.第3図(
a).(b)はそれぞれ試料ホルダー1の部分平面図で
ある。
a).(b)はそれぞれ試料ホルダー1の部分平面図で
ある。
同図(a)は試料ホルダー1の溝の側面にマスク2が接
触している正常なマスクの固定位置を示す例であって、
板ばね3は大きく曲げられている。
触している正常なマスクの固定位置を示す例であって、
板ばね3は大きく曲げられている。
これに対し同図(b)は、試料ホルダー1の溝のmu面
からマスク2が大きくずれて離れている異常なマスクの
位置を示す例である。板ばね3は、同図(a)に比べて
曲がり方が少ない。
からマスク2が大きくずれて離れている異常なマスクの
位置を示す例である。板ばね3は、同図(a)に比べて
曲がり方が少ない。
このように、試料ホルダー1とマスク2との位置関係は
、板ばね3の曲がり具合から決定できるので、曲がり具
合を歪ケージで測定すれば、位置関係の良否や変化を測
定できる。
、板ばね3の曲がり具合から決定できるので、曲がり具
合を歪ケージで測定すれば、位置関係の良否や変化を測
定できる。
測定精度は、歪ケージの抵抗を測定する抵抗計の分解能
に依存するが、0,1%の抵抗変化も検出できるので、
マスク2の位置変化は容易に検出できる. なお、本実施例では板ばねは2枚であるが、これを増加
することができる。例えば、3枚以上設けてその変化を
調べると、試料の回転も検出できる. 第4図は本発明の第2の実施例を示す斜視図である.試
料ホルダー1のマスクが挿入される溝の角部には板ばね
3が取り付けてあり、マスクが挿入されるとマスクの角
部が板ばね3に接触して曲がるようになっている。
に依存するが、0,1%の抵抗変化も検出できるので、
マスク2の位置変化は容易に検出できる. なお、本実施例では板ばねは2枚であるが、これを増加
することができる。例えば、3枚以上設けてその変化を
調べると、試料の回転も検出できる. 第4図は本発明の第2の実施例を示す斜視図である.試
料ホルダー1のマスクが挿入される溝の角部には板ばね
3が取り付けてあり、マスクが挿入されるとマスクの角
部が板ばね3に接触して曲がるようになっている。
マスクは板ばね3が設けられている角部にその角部を合
わせて挿入するので、挿入後、XYのどちらの方向にマ
スクが移動しても、位置変化を1枚の板ばねで検出でき
る長所がある。
わせて挿入するので、挿入後、XYのどちらの方向にマ
スクが移動しても、位置変化を1枚の板ばねで検出でき
る長所がある。
以上説明したように本発明の試料ホルダーは、試料に板
ばねを押し付けてその曲がり具合を歪ケージで測定する
ことにより、試料の試料ホルダーに対する位置変化を測
定し管理できるので、電子ビーム描画装置の描画中の試
料の位置変化による描画パターンの異常を防止できる。
ばねを押し付けてその曲がり具合を歪ケージで測定する
ことにより、試料の試料ホルダーに対する位置変化を測
定し管理できるので、電子ビーム描画装置の描画中の試
料の位置変化による描画パターンの異常を防止できる。
又、試料ホルダーへの試料の挿入位置の異常も検出でき
る効果がある.
る効果がある.
第1図は本発明の,第1の実施例の斜視図、第2図(a
),(b)はそれぞれ第1図の板ばねの平面図及び正面
図、第3図(a),(b)はそれぞれ第1の実施例の機
能を説明する部分平面図、第4図は本発明の第2の実施
例の斜視図、第5図は従来の試料ホルダーの斜視図であ
る.
),(b)はそれぞれ第1図の板ばねの平面図及び正面
図、第3図(a),(b)はそれぞれ第1の実施例の機
能を説明する部分平面図、第4図は本発明の第2の実施
例の斜視図、第5図は従来の試料ホルダーの斜視図であ
る.
Claims (1)
- 電子ビームを照射する試料を固定するための電子ビーム
描画装置用試料ホルダーにおいて、前記試料により押圧
される板ばねを備え、この板ばねに前記試料との間の熱
膨張差による位置変化を検出する歪ケージを取り付けた
ことを特徴とする電子ビーム描画装置用試料ホルダー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16144489A JPH0325915A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 電子ビーム描画装置用試料ホルダー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16144489A JPH0325915A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 電子ビーム描画装置用試料ホルダー |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0325915A true JPH0325915A (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=15735230
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16144489A Pending JPH0325915A (ja) | 1989-06-23 | 1989-06-23 | 電子ビーム描画装置用試料ホルダー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0325915A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10222278B2 (en) | 2016-02-25 | 2019-03-05 | Massachusetts Institute Of Technology | Directional force sensing element and system |
-
1989
- 1989-06-23 JP JP16144489A patent/JPH0325915A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10222278B2 (en) | 2016-02-25 | 2019-03-05 | Massachusetts Institute Of Technology | Directional force sensing element and system |
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