JPH03257977A - 磁気抵抗素子の製造方法 - Google Patents
磁気抵抗素子の製造方法Info
- Publication number
- JPH03257977A JPH03257977A JP2057154A JP5715490A JPH03257977A JP H03257977 A JPH03257977 A JP H03257977A JP 2057154 A JP2057154 A JP 2057154A JP 5715490 A JP5715490 A JP 5715490A JP H03257977 A JPH03257977 A JP H03257977A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- same direction
- magnetoresistance element
- compound
- magnetoresistance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 4
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 abstract description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 3
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 abstract 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 17
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 8
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005307 ferromagnetism Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- -1 silicon oxide compound Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ドラムに着磁された磁気式ロータリーエンコ
ーダの信号検出に使用される磁気抵抗素子の製造方法に
関するものである。
ーダの信号検出に使用される磁気抵抗素子の製造方法に
関するものである。
従来の技術
従来、磁気信号の検出には、200〜1000Aの膜厚
を有するパーマロイ合金薄膜が用いられてきたが、その
磁気抵抗変化率、すなわち磁化方向が電流の方向に一致
した場合の抵抗値と、磁化が電流の方向に対して直角に
向いた場合の抵抗値との差ΔRと磁化されないときの抵
抗値Rとの比ΔR/Rは2.5〜3%程度であり、また
ばらつきも5〜20%であった。パーマロイ膜において
は結晶粒の乱れや、結晶内部の乱れ、内部歪が存在して
、磁気抵抗変化率ΔR/Rを小さくする原因となってい
ることは実験的に確認されている。
を有するパーマロイ合金薄膜が用いられてきたが、その
磁気抵抗変化率、すなわち磁化方向が電流の方向に一致
した場合の抵抗値と、磁化が電流の方向に対して直角に
向いた場合の抵抗値との差ΔRと磁化されないときの抵
抗値Rとの比ΔR/Rは2.5〜3%程度であり、また
ばらつきも5〜20%であった。パーマロイ膜において
は結晶粒の乱れや、結晶内部の乱れ、内部歪が存在して
、磁気抵抗変化率ΔR/Rを小さくする原因となってい
ることは実験的に確認されている。
このことは検出出力dV=ΔR−1(検出素子に流す電
流値〉が低下する大きな原因となる。
流値〉が低下する大きな原因となる。
発明が解決しようとする課題
従来より磁気抵抗効果を向上させるために、パーマロイ
膜の磁場中蒸着や、斜め蒸着が行われてきた。磁場中蒸
着は、磁場中にて磁性薄膜を着膜することにより、金属
原子のバンド上のスピンを同一方向にすることによって
、磁気抵抗効果を向上させるものであるが、装置が大が
かりになる上、磁気抵抗効果のばらつきが最大値で30
%であるため、実用上問題が多かった。また斜め蒸着は
、下地基板の種類によってばらつきが大きく、例えばば
らつきの小さいサファイア基板は、ガラス基板の20倍
以上の価格であり、かつ硬度が高いため、ダイシング等
の加工に難があり、工程導人は不可能であった。
膜の磁場中蒸着や、斜め蒸着が行われてきた。磁場中蒸
着は、磁場中にて磁性薄膜を着膜することにより、金属
原子のバンド上のスピンを同一方向にすることによって
、磁気抵抗効果を向上させるものであるが、装置が大が
かりになる上、磁気抵抗効果のばらつきが最大値で30
%であるため、実用上問題が多かった。また斜め蒸着は
、下地基板の種類によってばらつきが大きく、例えばば
らつきの小さいサファイア基板は、ガラス基板の20倍
以上の価格であり、かつ硬度が高いため、ダイシング等
の加工に難があり、工程導人は不可能であった。
本発明は、これらの問題を鑑み、高磁気抵抗変化率を容
易に得るための磁気抵抗素子の製造方法を提供すること
を目的とするものである。
易に得るための磁気抵抗素子の製造方法を提供すること
を目的とするものである。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するために、本発明は、前記絶縁基板上
に酸化硅素を主成分とする化合物を斜め方向から着膜し
、その化合物膜上に同一方向からNiを主成分とする強
磁性合金を着膜するものである。
に酸化硅素を主成分とする化合物を斜め方向から着膜し
、その化合物膜上に同一方向からNiを主成分とする強
磁性合金を着膜するものである。
作用
本発明は、まず表面が研磨された絶縁基板上に酸化硅素
を主成分とする化合物を斜め方向より着膜することによ
り、この上に同一方向からNiを主成分とする強磁性合
金を着膜する際に、前記酸化硅素化合物粒の配向する方
向に従って結晶成長し易い基板表面を形成する。この上
より前記強磁性合金を同一方向より着膜することにより
、−軸磁気異方性の結晶粒9粒界の形状効果により、よ
り高くばらつきの少ない磁気抵抗効果を持ち、低ヒステ
リシスの強磁性合金薄膜を形成する。
を主成分とする化合物を斜め方向より着膜することによ
り、この上に同一方向からNiを主成分とする強磁性合
金を着膜する際に、前記酸化硅素化合物粒の配向する方
向に従って結晶成長し易い基板表面を形成する。この上
より前記強磁性合金を同一方向より着膜することにより
、−軸磁気異方性の結晶粒9粒界の形状効果により、よ
り高くばらつきの少ない磁気抵抗効果を持ち、低ヒステ
リシスの強磁性合金薄膜を形成する。
実施例
以下、本発明の一実施例を第1図a−cの図面を用いて
説明する。
説明する。
第1図において、表面を研磨した第1図aに示すガラス
基板1上に斜め方向よりスパッタリング法にて膜厚1μ
mの5i02膜2を形成する(第1図b)。次に第1図
Cに示すように前記5i02膜2上に同一方向よりパー
マロイ膜3をスパッタリング法にて5000A着膜した
後、フォトエツチング法によりパターニングすることに
より、所定のパターンを有する磁気抵抗素子が得られる
。
基板1上に斜め方向よりスパッタリング法にて膜厚1μ
mの5i02膜2を形成する(第1図b)。次に第1図
Cに示すように前記5i02膜2上に同一方向よりパー
マロイ膜3をスパッタリング法にて5000A着膜した
後、フォトエツチング法によりパターニングすることに
より、所定のパターンを有する磁気抵抗素子が得られる
。
発明の効果
以上のように本発明によれば、P!縁縁板板上酸化硅素
を主成分とする化合物を斜め方向から着膜し、その化合
物膜上に同一方向からNiを主成分とする強磁性合金を
着膜することにより、同一方法で前記絶縁基板に直接着
膜したものと比較して、磁気抵抗効果は2.5%→3.
3%に向上し、ばらつきは30%→15%に低下し、さ
らにヒステリシスも大きく改善される。これにより、磁
気抵抗素子としては、 (1) 容易に高出力が得られる、 (2)容易に高精度が得られる、 等の効果が得られる。
を主成分とする化合物を斜め方向から着膜し、その化合
物膜上に同一方向からNiを主成分とする強磁性合金を
着膜することにより、同一方法で前記絶縁基板に直接着
膜したものと比較して、磁気抵抗効果は2.5%→3.
3%に向上し、ばらつきは30%→15%に低下し、さ
らにヒステリシスも大きく改善される。これにより、磁
気抵抗素子としては、 (1) 容易に高出力が得られる、 (2)容易に高精度が得られる、 等の効果が得られる。
第1図a −cは本発明の一実施例による磁気抵抗素子
の製造方法を示す工程断面図である。 1・・・・・・ガラス基板、2・・・・・・5i02膜
、3・・・・・・パーマロイ膜。
の製造方法を示す工程断面図である。 1・・・・・・ガラス基板、2・・・・・・5i02膜
、3・・・・・・パーマロイ膜。
Claims (1)
- 絶縁基板上に酸化硅素を主成分とする化合物を斜め方向
から着膜し、前記化合物膜上に同一方向からNiを主成
分とする強磁性合金を着膜したことを特徴とする磁気抵
抗素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2057154A JPH03257977A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 磁気抵抗素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2057154A JPH03257977A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 磁気抵抗素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03257977A true JPH03257977A (ja) | 1991-11-18 |
Family
ID=13047648
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2057154A Pending JPH03257977A (ja) | 1990-03-08 | 1990-03-08 | 磁気抵抗素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03257977A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5736921A (en) * | 1994-03-23 | 1998-04-07 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive element |
US5738929A (en) * | 1993-10-20 | 1998-04-14 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistance effect element |
-
1990
- 1990-03-08 JP JP2057154A patent/JPH03257977A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5738929A (en) * | 1993-10-20 | 1998-04-14 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistance effect element |
US5736921A (en) * | 1994-03-23 | 1998-04-07 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Magnetoresistive element |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4195323A (en) | Thin film magnetic recording heads | |
US5764445A (en) | Exchange biased magnetoresistive transducer | |
US4321641A (en) | Thin film magnetic recording heads | |
US4489484A (en) | Method of making thin film magnetic recording heads | |
JPH0212610A (ja) | 磁気抵抗読取変換器 | |
US4900650A (en) | Method of producing a pole piece with improved magnetic domain structure | |
CN110927636A (zh) | 测量垂直磁场的传感器及其方法 | |
JPS6331116B2 (ja) | ||
JPH03257977A (ja) | 磁気抵抗素子の製造方法 | |
JPS6064484A (ja) | 強磁性磁気抵抗効果合金膜 | |
US6428714B1 (en) | Protective layer for continuous GMR design | |
JP3047607B2 (ja) | 強磁性磁気抵抗素子 | |
JP2769403B2 (ja) | 磁気抵抗素子 | |
CN117320536A (zh) | 一种自驱动自旋传感器及其制备方法 | |
RU2128819C1 (ru) | Магниторезистивный элемент и способ его получения | |
JPS6045922A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
JP2850584B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子の製造方法 | |
JPS61248214A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
CN116381579A (zh) | 一种基于周期波纹衬底上磁性薄膜的平面霍尔传感器 | |
JPS61258320A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘツド | |
JPS5987615A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
JPH0196815A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド | |
JP2569623B2 (ja) | 磁気抵抗効果型薄膜磁気ヘッド | |
JPH11112053A (ja) | 磁気抵抗効果素子とその製造方法及び磁気抵抗検出システム | |
JPH0669563A (ja) | 磁気抵抗効果素子 |