JPH0325718A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［概要］ 磁気記録媒体およびその製造方法に関し、ゾーンピット
レコーディング方式を有効に活用することができ、より
高密度記録可能な磁気記録媒体およびその製造方法を提
供することを目的とし、 基板上に下地層、磁性層および保護層を有する磁気記録
媒体において、前記下地層および前記磁性層の膜厚が媒
体のインナー側よりアウター側で小さくなるように構成
し、 また、基板上に下地層、磁性層および保護層を順次形成
する磁気記録媒体の製造方法において、前記下地層およ
び前記磁性層を形成する各ターゲット材の形状を変える
か、または、各ターゲット材の基材に配置する電磁石の
位置を変えることにより、媒体のインナー側よりアウタ
ー側で下地層および磁性層の膜厚を小さくなるように構
成した。

［産業上の利用分野］ 本発明は、磁気記録媒体およびその製造方法に関する。

近年、磁気ディスク装置では磁気記録媒体の高密度化に
伴い、ゾーンピットレコーディングなどの記録方式が採
用されはじめている。

このゾーンピットレコーディングは、磁気記録媒体の半
径方向の位置により容量を変えるものである。すなわち
、磁気記録媒体のインナー側からアウター側へ向かうに
つれてシリンダ容量を増大するようになっている。

したがって、このようなゾーンピットレコーディング方
式を有効に活用するためには、磁気記録媒体の磁気特性
を変える必要がある。

［従来の技術］ 従来の磁気記録媒体の製造方法としては、例えば第６図
に示すようなものがある。

第６図において、１は基板を準備する工程を示し、基板
としては硬質で非磁性のアルミニウムやガラスの基板を
用いる。基板には例えばＮｉ−Ｐメッキを施し、また研
磨テープでテスクチャー加工を施した後に、フレオンな
どで洗浄しておく。

次に、２に示す工程で、スパッタリングなどにより、例
えばＣｒよりなる下地層を基板上に形成する。下地層の
膜厚としては均一な、例えば１５００Ａとする。

次に、３に示す工程で下地層の上に磁性層を形成する。

磁性層としては、ｃｏ合金系、例えばＣｏＮｉＣｒなど
を用いて膜厚が均一な、例えば７００Ａとなるように形
成する。磁気特性はこの磁性層を形成する磁性材料によ
り決まるが、スパッタリングにおける真空度、ガス圧、
基板加熱温度、パワーなどより制御される。

次に、４に示す工程で、例えばＺｒ０２などにより保護
層を形成する。保護層の膜厚としては、例えばＩＯＯＡ
〜４００Ａに形戊する。

このようにして製造された磁気記録媒体５の断面を第６
図に示す。第６図において、６は基板、７はＣｒよりな
る下地層、８はＣｏ合金系よりなる磁性層、９はＺｒＯ
２などよりなる保護層である。

し発明が解決しようとする課題コ しかしながら、このような従来の磁気記録媒体およびそ
の製造方法にあっては、下地層および磁性層などの膜厚
分布が均一に形成されているため、ゾーンピットレコー
ディング方式を採用しても、媒体のインナー側とアウタ
ー側における周速の違いによりヘッドの浮上鼠がアウタ
ーにいく程高くなり、媒体の記録密度が而内で変化して
しまう。

その結果、より高密度記録を行なうことができないとい
う問題点があった。

本発明は、このような従来の問題点に鑑みてなされたも
のであって、ゾーンピットレコーディング方式を有効に
活用することができ、より高密度記録可能な磁気記録媒
体およびその製造方法を提供することを目的としている
。

［課題を解決するための手段コ 第１図（Ａ）．　　（Ｂ）は本発明の原理説明図である
。

第１図（Ａ）において、１３は基板、２３および２４は
膜厚が媒体のインナー側よりアウター側で小さい下地層
および磁性層、２５は保護層である。

次に、第１図（Ｂ）において、Ｓ１およびＳ２は下地層
および前記磁性層を形成する各ターゲット材の形状を変
えるか、または、各ターゲット材の基材に配置する電磁
石の位置を変えることにより、媒体のインナー側よりア
ウター側で下地層および磁性層の膜厚を小さくなるよう
に形成する各工程、Ｓ３は保護層を形成する工程である
。

［作用］ 本発明においては、磁気記録媒体の下地層および磁性層
をそれぞれ形成する各ターゲット材の形状を変えるか、
または各ターゲット材の基材に配置する電磁石の位置を
変えるようにしたため、磁気記録媒体の下地層および磁
性層に膜厚分布を持たせることができる。すなわち、磁
気記録媒体のインナー側よりアウター側において、膜厚
を小さくすることができる。

したがって、インナー側とアウター側で周速が異なって
も、アウター側で浮上マージンを増大することができ、
ゾーンピットレコーディング時に生じる記録密度の変化
を一定にすることができる。

その結果、より高密度記録を行なうことが可能となる。

［実施例］ 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第２図〜第５図は本発明の一実施例を示す図である。

第２図〜第４図は磁気記録媒体を製造するための装置を
示す。

第２図において、１１はスパッタ装置を構成する真空容
器であり、この真空容器ｌｌ内は常に所定の真空度に保
持されている。１２は基板１３を搬入する入口であり、
入口１２から搬入された基板１３はホルダー１４を介し
て順次右方向に移動するようになっている。１５は搬入
された基板■３を加熱する加熱ヒータ、１６は下地層（
例えばＣｒ層）を形成するための第１ターゲット材、１
７は磁性層（例えば、Ｃｏ合金系層）を形成するための
第２ターゲット材、１８は保護層（例えばＺｒ０２層）
を形成するため第３ターゲット材である。

次に、前記第１ターゲット材１６を第３図に、前記第２
ターゲット材１７を第４図にそれぞれ示す。

第１ターゲット材１６は、第３図に示すように、例えば
Ｃｒよりなり、その外側にはＣｕよりなるパッキングプ
レート１９が配置され、パッキングプレート１９の外側
には電磁石２０が配置されている。第１ターゲット材１
６は、図示のように、外側で湾曲した形状となっており
、下地層に膜厚分布を持たせることができるようになっ
ている。

なお、第１ターゲット材１６の形状を平板状としても電
磁石２０の位置を変えることにより下地層に膜厚分布を
持たせることができる。

次に、第２ターゲット材１７は、第４図に示すように、
ＣＯ合金系、例えばＣｏＮ　ｉ　Ｃ　ｒよりなり、その
外側にはＣｕよりなるパッキングプレート２１が配置さ
れ、パッキングプレート２■の外側には電磁石２２が配
置されている。

第２ターゲット材１７は、図示のように、外側で湾曲し
た形状となっており、磁性層に膜厚分布を持たせること
ができるようになっている。なお、第２ターゲット材ｌ
７の形状を平板状としても電磁石２２の位置を変えるこ
とにより、磁性層に膜厚分布を持たせることができるよ
うになっている。

次に、前記のような装置により磁気記録媒体を製造する
製造方法を説明する。

まず、入口１２から基板］７３を真空容器ＩＩ内へ搬送
する。基板１−３としては硬質で非磁性体のもの、例え
ばアルミニウム板またはガラス板を用いる。また、基板
１３には、例えばＮｉ−Ｐメッキを施し、また研磨テー
プによりテクスチャー加工処理を施し、フレオンなどで
洗浄しておく。

次に、加熱ヒータ１５により基板１３を加熱する。加熱
した基板１３はホルダー１４を介して第２図の右方向に
搬送する。

次ニ、マグネトロンスパッタを行なって、第３図に示す
ような形状の第１ターゲット材１６により基板１３上に
Ｃｒの下地層２３を形成する（第５図、参照）。または
フラットな第１ターゲット材１６により電磁石２０の位
置を変えて基板１３上にＣｒの下地層２３を形成する（
第４図、参照）。この場合の下地層２３の膜厚はインナ
ー側からアウター側に向かうにつれて小さくなる。

次に、マグネトロンスパッタを行なって、第４図に示す
ような第２ターゲット材１７により下地層２３上にＣｏ
合金系、例えばＣｏＮ　ｉ　Ｃ　ｒの磁性層２４を形成
する（第５図、参照）。または、フラットな第２ターゲ
ット材１７により電磁石２２の位置を変えて下地層２３
上に磁性層２４を形成する（第５図、参照）。この場合
の磁性層２４の膜厚はインナー側からアウター側に向か
うにつれて小さくなる。

次に、マグネトロンスパッタを行なって、第３ターゲッ
ト材ｌ８により磁性層２４上に例えばＺｒ０２などの保
護層２５を形成する（第５図、参照）。

こうして、製造した磁気記録媒体（以下、媒体）２６の
断面を第５図に示す。

第５図において、１３は基板、２３はＣｒなどからなる
下地層、２４はＣｏＮ　ｉ　Ｃ　ｒなどからなる磁性層
、２５はＺｒＯ２などからなる保護層である。

下地層２３および磁性層２４には膜厚分布をそれぞれ持
たせてある。すなわち、下地層２３および磁性層２４は
、インナー側からアウター側に向かうにつれて膜厚が小
さくなるようになっている。

したがって、インナー側とアウター側において媒体２６
の周速が異なっていても、浮上マージンを増大させるこ
とができるので、媒体２６の記録密度を均一にすること
ができる。その結果、より高密度記録が可能となり、ゾ
ーンピットレコーディング方式を有効に活用することが
できる。

［発明の効果］ 以上説明してきたように、本発明によれば、磁気記録媒
体の下地層および磁性層にインナー側よりアウター側に
おいて膜厚が小さくなるような膜厚分布を持たせるよう
にしたため、ゾーンピットレコーディング時に生じる記
録密度の変化を一定にすることができ、その結果、より
高密度記録を行なうことが可能となり、ゾーンピットレ
コーディング方式を有効に活用することができる。

【図面の簡単な説明】 第１図（Ａ）．　　（Ｂ）は本発明の原理説明図、第２
図は本発明を実施するための装置を示す図、第３図は第
ｌターゲット材の断面図、 第４図は第２ターゲット材の断面図、 第５図は磁気記録媒体の断面図、 第６図は従来の製造工程を示す図、 第７図は従来の磁気記録媒体の断面図である。 図中、 １１・・・真空容器、 １２・・・入口、 １３・・・基板、 １４・・・ホルダー １５・・・加熱ヒータ、 １６・・・第１ターゲット材、 １７・・・第２ターゲット材、 １８・・・第３ターゲット材、 １．９．２１・・・パッキングプレート（基材）、２０
．２２・・・電磁石、 ２３・・・下地層、 ２４・・・磁性層、 ２５・・・保護層、 ２６・・・磁気記録媒体。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基板（１３）上に下地層（２３）、磁性層（２４
   ）および保護層（２５）を有する磁気記録媒体において
   、前記下地層（２３）および前記磁性層（２４）の膜厚
   が媒体のインナー側よりアウター側で小さいことを特徴
   とする磁気記録媒体。
2. （２）基板（１３）上に下地層（２３）、磁性層（２４
   ）および保護層（２５）を順次形成する磁気記録媒体の
   製造方法において（Ｓ１〜Ｓ３）、前記下地層（２３）
   および前記磁性層（２４）を形成する各ターゲット材の
   形状を変えるか、または、各ターゲット材の基材に配置
   する電磁石の位置を変えることにより、媒体のインナー
   側よりアウター側で下地層（２３）および磁性層（２４
   ）の膜厚を小さくなるように形成した（Ｓ１）ことを特
   徴とする磁気記録媒体の製造方法。