JPH03257107A

JPH03257107A - 高炉装入原料の粒度制御方法および装置

Info

Publication number: JPH03257107A
Application number: JP5453990A
Authority: JP
Inventors: Shinji Matsubara; 真二松原; Masaaki Sakurai; 桜井　雅昭; Takashi Sumikama; 隆志炭竃
Original assignee: NKK Corp; Nippon Kokan Ltd
Current assignee: JFE Engineering Corp
Priority date: 1990-03-06
Filing date: 1990-03-06
Publication date: 1991-11-15

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］この発明は、高炉装入原料の粒度を一定にする方法およ
びその装置に関する。

［従来の技術で高炉に装入する原料の粒度は、高炉炉況に影響を与える
重要な要因の一つである。高炉炉況の安定を図るために
は、装入原料の粒度分布を制御して、一定の粒度分布の
原料を装入することが肝要である。これを実現するため
に、 ■原料の粒度分布を代表する精度の高いサンプリング方
法、 ■サンプリングされた原料の粒度分布を迅速に測定する
技術、 ■得られた粒度分布情報に基づき装入原料の粒度を制御
する技術等の開発が要望されていた。

■の技術として公開された技術には、ベルトコンベヤの
排鉱部下室に、被送物の流れを横切るように、流れの中
以上の巾を有する受は皿を傾動可能に設けたもの（実開
昭５８−５１２５０号公報）、■の技術として公開され
た技術には、連続的に落下する粒状物に、側方から多周
波のマイクロ波を放射し、粒状物から反射する反射波の
強度を測定して粒度分布を求めるもの（特開昭６２−３
０９３８号公報）がある。

〔発明が解決しようとする課題］上述したように、粒状物のサンプリング方法や落下する
粒状物の粒度を測定する方法等のように単一技術はある
が、装入原料の粒度分布を一定に制御する総合的技術は
ない６本発明は、高炉炉況の安定化に必要な装入原料の
粒度分布を一定にする高炉装入原料の粒度制御方法およ
び装置を提供することを目的とするものである。

［課題を解決するための手段］本発明は上ｌ己のような目的を達・成しようとするもの
で、その一つは、高炉鉱石槽から切り出される原料をサ
ンプリングし、サンプリングした原料を落下させ、落下
する原料をテレビカメラで撮影、画像処理することで原
料の粒度分析を行い、粒度分析の結果に基づいて、鉱石
槽の切り出しゲート開度を制御することを特徴とする高
炉装入原料の粒度制御方法であり、他の一つは、鉱石槽
の下に設けた開閉駆動装置を有する切出ゲートと、切出
し電動フィーダの排出端近傍に設けた原料サンプリング
手段と、サンプリング原料の搬送手段と、該搬送手段か
ら排出落下する原料を撮影するテレビカメラと、テレビ
カメラで撮影した画像を処理、演算して粒度分布と求め
る演算機からなる高炉装入原料の粒度制御装置である。

［作用コ第７図（Ａ＞に示すように鉱石槽から切り出される原料
の平均粒度と切出しゲートの開度との間には、ゲート開
度を小さくすると、原料の平均粒径が大きくなるという
相関がある（なお、ゲート開度と粉率（−４■α％）の
間にも相関があり、その関係を第７図（Ｂ）に示す）、
従って、鉱石槽から切り出される原料をサンプリングし
、粒度測定を行いその結果に基づいて切り出しゲートの
開度を制御すれば、原料の平均粒度を目標とする一定粒
度にすることができる。従って、自動化したサンプリン
グ装置、テレビカメラ、演算機、切出しゲートの駆動装
置を制御回線で連結すれば、粒度の変化を迅速且つ精度
高く修正することができる。

［実施例］本発明の実施例を以下に詳細に説明する。第２図におい
て、１は焼結鉱や塊鉱石を貯蔵する鉱石槽で、一つの高
炉について２０槽前後設けられている。鉱石槽１から切
り出された原料は、スケールホッパーで秤量された後、
ベルトコンベヤ２１でリレーホッパー２２に搬送され、
ここで複数バッチの原料がまとめられ、高炉に装入され
る。

第１図は本発明を実施するための設備フロー図である。

１は焼結鉱、塊鉱石等の高炉装入原料を貯槽する鉱石槽
、１２は鉱石槽の切出しゲートで、駆動装置１１により
開閉できるようになっている。２は鉱石槽の原料を排出
する電動フィーダで、原料の移送面は粉原料を除去する
ため篩面となっている。３はフィーダ２の排出端に近接
して設けられたサンプリング手段、４はサンプリング手
段３で採取した原料を受け、下方に導くシュドで、スケ
ールホッパー２０の側部に沿って設けられている。シュ
ート４を出た原料はガイドホッパー５を経て、ベルトコ
ンベヤ６で移送され、その排出端から受はシュート７に
落下する。８はベルトコンベヤ排出端から落下する原料
粒子を撮影するテレビカメラ、９はテレビカメラて撮影
した画像を処理して、原料の粒度分布等を演算する演算
機、１０は演算機の演算結果を画面上に映し出すＣＲＴ
デイスプレーである。

上述のサンプリング手段について以下に説明する。第３
図に示したものはサンプリング板３１（電動フィーダ２
の篩面中より若干大きな巾を有している）が、電動フィ
ーダ２の排出端側に設けた支点軸の周りに回動可能に取
り付けられている。サンプリングは、原料が切り出され
ているとき、作動シリンダーのロッド３２を縮小させる
ことにより行う、第４図に示したものは、電動フィーダ
２の排出端に近接して、底Ｍ３４が開閉可能なサンプリ
ング樋体３３を設けである。この形式の場合は、原料が
切り出されてくると最初の原料（原料の粒度分布を代表
しない場合が多い）が樋体３３に入るので、サンプリン
グ時には、作動シリンダーのロッド３５を縮小して、底
蓋３４を開け、最初の原料を捨て、底蓋３４を閉めるこ
とにより粒度分布を測定する原料を採取する。第５図に
示したものは、電動フィーダ２の排土端に近接して、開
口板３６と開口３９を開閉する開閉板３７からなるサン
プリング体を設けたもので、サンプリングは、原料切出
し中に、作動シリンダーのロッド３８を縮小して、開口
を開くことにより行う。

次に本発明の方法について説明する。鉱石槽１から切り
比された原料は、電動フィーダ２で粉を除去されつつ移
送され、スケールホッパー２０に投入される。この間、
適宜時期において指令により、電動フィーダ２の排出端
に近接して設けられたサンプリング手段３を操作して、
原料がサンプリングされ、サンプリングされた原料はシ
ュート４を経て、ベルトコンベヤ６に乗り、移送されて
、その排出端から落下する。テレビカメラ８は落下途中
の原料粒子を撮影し、その画像信号を演算機９に送る。

演算機は画像信号を処理、演算して原料の粒度分布等を
求める。演算結果はＣＲＴデスプレー１０に映し出され
るようになっており、オペレータが適宜演算結果を見る
ことがてきる。演算機９には、予めインプットされた原
料の目標平均粒度（または目標粉率（４ｍｍ％））と演
算平均粒度（または演算粉率（４＋＋ｍ％））との偏差
を求め、該偏差と切出しゲートの開度操作量の関係グラ
フ（第８図（Ａ＞、（Ｂ））により、切出しゲート１２
の開度を演算し、その結果を制御信号に変えて、切出し
ゲートの駆動装置１２に送る。切出しゲート１２は目標
の平均粒度になるように、その開度が操作される。

第６図は鉱石槽の切出しゲートを調整しない従来方法と
本発明方法による場合の焼結鉱の平均粒度、粉率（−４
１％）等の時開的推移を示したグラフである９本実施例
の場合は、焼結鉱の平均粒度を１５ｍｍ、粉率（−４關
％）を７％以下を掻集目標値としている。ＣＡＳＥＩの
従来法では、当初平均粒度が１６ｍｍであったものが４
時間後に１５龍に下がり、粉率（−４■誼％）が７％に
上昇し、高炉通気抵抗指数が上昇して、スリップが発生
し始めた。これに対し、本発明法では、３時間後にゲー
ト開度が減少したので平均粒度は１５ｗ＋ｍ〜１５．５
ｍｍを推移し、粉率（４ｍｍ％）が７％以下に保持され
、スリップの発生はなかった。

ＣＡＳＥ２　（従来法では平均粒度が１６ｍｍから＝１
４肩口に下がる）およびＣＡＳＥ３　（従来法で１６＋
ｕから１３＋＊ｎに下がる）の場合も、本発明法では、
平均粒度が制御されて、通気抵抗指数の上昇が抑制され
、その結果、従来法に比較してスリップの発生回数が半
分以下に減少した。

［発明の効果］本発明は以上のように構成されているから、次のような
灯果がある。

（１）　　使用鉱石槽を決めておけば、鉱石槽のレベル
によって切り出される原料の平均粒度が変わると、切出
しゲートの開度が自動的に制御され、常に一定平均粒度
のものが切り出される。

（２）　（１）により一定平均粒度の原料を高炉に装入
することができるようになり、高炉の炉況を安定させる
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の設備フロー図、第２図は高炉の鉱石槽
〜リレーホッパーの説明図、第３図は本発明に使用する
サンプリング手段の一つの例を示す図、第４図は本発明
に使用するサンプリング手段の他の例を示す図、第５図
（Ａ）は本発明に使用するサンプリング手段のさらなる
他の例を示すズ、第５図（Ｂ）は第５図（Ａ）のＢ〜Ｂ
断面図、第６図は従来法と本発明法の平均粒度、高炉の
通気抵抗係数等の推移を示すグラフ、第７図は原料粒度
と切出しゲート開度の関係を示すグラフ図、第８図は平
均粒度の偏差と切出しゲート開度の操作量との関係を示
すグラフ図である。１・・・鉱石槽、２・電動フィーダ、３　サンプリング
手段、４・・・シュート、６・・ベルトコンベヤ、８・
・・テレビカメフ、９・・・演算機、０　・・・ＣＲＴデイスプレー１・・・ゲート駆動装置、２・・・切出しゲート。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）高炉鉱石槽から切り出される原料をサンプリング
し、サンプリングした原料を落下させ、落下する原料を
テレビカメラで撮影、画像処理することにより原料の粒
度分析を行い、粒度分析の結果に基づいて、鉱石槽の切
り出しゲート開度を制御することを特徴とする高炉装入
原料の粒度制御方法。
（２）鉱石槽の下に設けた開閉駆動装置を有する切出ゲ
ートと、切出し電動フィーダの排出端近傍に設けた原料
サンプリング手段と、サンプリング原料の搬送手段と、
該搬送手段から排出落下する原料を撮影するテレビカメ
ラと、テレビカメラで撮影した画像を処理、演算して粒
度分布を求める演算機からなる高炉装入原料の粒度制御
装置。