JPH03252625A - Electrode substrate for liquid crystal display panel - Google Patents

Electrode substrate for liquid crystal display panel

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JPH03252625A
JPH03252625A JP4954490A JP4954490A JPH03252625A JP H03252625 A JPH03252625 A JP H03252625A JP 4954490 A JP4954490 A JP 4954490A JP 4954490 A JP4954490 A JP 4954490A JP H03252625 A JPH03252625 A JP H03252625A
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JP
Japan
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resin
layer
substrate
liquid crystal
crystal display
Prior art date
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Pending
Application number
JP4954490A
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Mikoshiba
均 御子柴
Masao Suzuki
鈴木 将夫
Rinjiro Ichikawa
市川 林次郎
Eiji Nunoyama
英士 布山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujimori Kogyo Co Ltd
Teijin Ltd
Original Assignee
Fujimori Kogyo Co Ltd
Teijin Ltd
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Publication date
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Publication of JPH03252625A publication Critical patent/JPH03252625A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain the substrate having excellent transparency, electrical conductivity and durability by using a specific composite substrate and forming a transparent electrode mainly consisting of a metallic thin-film layer thereon. CONSTITUTION:A non-optically active transparent film or sheet which is formed of a polycarbonate resin, polyether sulfone resin, polysulfone resin or polyarylate resin and has <=30nm retardation value is used as a base material layer 1 constituting the substrate A. The composite substrate having the constitution consisting in providing an anchor coating layer 2 on at least one surface thereof and further, providing a layer 3 consisting of an air permeation resistant resin layer and/or a layer 4 consisting of the cured matter of a crosslinkable resin on the anchor coating layer 2 is used. The transparent electrode B mainly consisting of the metallic thin-film layer is formed thereon. The substrate A having the excellent transparency, electrical conductivity and durability of the transparent electrode B is obtd. in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、基板の少なくとも片面に透明電極を設けた液
晶表示パネル用電極基板に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an electrode substrate for a liquid crystal display panel in which a transparent electrode is provided on at least one side of the substrate.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、液晶表示パネルについては、■薄型化、■軽量化
、■大型化、■任意の形状化、0曲面化、■低コスト化
などの要求があり、これに応えるものとしてプラスチッ
ク基板を用いた液晶表示パネルが検討され、実用化され
はじめた。この液晶表示パネル用プラスチック基板には
、次のような特性が要求される。
In recent years, there have been demands for liquid crystal display panels to be thinner, lighter, larger, have arbitrary shapes, have zero curved surfaces, and lower costs, and to meet these demands plastic substrates have been used. Liquid crystal display panels were studied and began to be put into practical use. This plastic substrate for liquid crystal display panels is required to have the following characteristics.

(1)光学的に可視光線領域で透明であること。(1) Be optically transparent in the visible light range.

(2)光学的に等方性で、着色干渉縞が発生しないこと
(2) It should be optically isotropic and should not produce colored interference fringes.

(3)表面が平滑で硬いこと。(3) The surface is smooth and hard.

(4)液晶組立などの製造工程に耐える耐薬品性および
100°C以上の耐熱性があること。
(4) It must have chemical resistance that can withstand manufacturing processes such as liquid crystal assembly, and heat resistance of 100°C or higher.

(5)シール材との密着性がよく、長期にわたって気密
性があること。
(5) Good adhesion with the sealing material and long-term airtightness.

(6)耐透湿があること。(6) Must be moisture permeable.

(7)防気性(耐透気性)があること。(7) Must be air proof (air permeable).

(8)耐液晶性があり、長期にわたって安定であること
(8) It should have liquid crystal resistance and be stable over a long period of time.

特に、長期にわたる信頼性が要求される場合や自動車用
など過酷な条件下で使用される場合は、さらに優れた防
気性と耐液晶性が要求される。
In particular, when long-term reliability is required or when used under harsh conditions such as in automobiles, even better air resistance and liquid crystal resistance are required.

防気性が不充分な場合は、気泡が混入して表示部に黒色
を生じるなどの問題点があり、また耐液晶性が不充分な
場合は長期にわたり安定した性能が得られないなどの問
題点がある。
If the air resistance is insufficient, there will be problems such as air bubbles entering and causing a black color on the display area, and if the liquid crystal resistance is insufficient, there will be problems such as not being able to obtain stable performance over a long period of time. There is.

そこで、前記基板として、ポリカーボネート系樹脂、ポ
リエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂または
ポリアリレート系樹脂から成形されたレターデーション
値30nm以下の非旋光性透明フィルムまたはシートよ
りなる基材層の少なくとも片面に、水系媒体に溶解また
は分散したアンカー剤を用いて形成したアンカーコート
層を設け、さらに該アンカーコート層上に耐透気性樹脂
および/または架橋性樹脂硬化物からなる単層または複
層の保護層を設けた構成を有する複合基板を用いること
が提案された(特開昭63−71829号公報参照)。
Therefore, as the substrate, at least one side of a base material layer made of a non-optically active transparent film or sheet having a retardation value of 30 nm or less and molded from polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polysulfone resin, or polyarylate resin is used. , an anchor coat layer formed using an anchor agent dissolved or dispersed in an aqueous medium is provided, and a single-layer or multi-layer protective layer made of an air-permeable resin and/or a cured crosslinkable resin is further provided on the anchor coat layer. It has been proposed to use a composite substrate having a structure provided with (see Japanese Patent Application Laid-open No. 71829/1983).

しかし、透明電極の透明性、導電性、耐久性が低いとい
う問題があった。
However, there was a problem that the transparency, conductivity, and durability of the transparent electrode were low.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明は、かかる現状に鑑みなされたもので、透明電極
の透明性、導電性、耐久性に優れた液晶表示パネル用電
極基板の提供を目的とするものである。
The present invention was made in view of the current situation, and an object of the present invention is to provide an electrode substrate for a liquid crystal display panel having a transparent electrode having excellent transparency, conductivity, and durability.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は、基板(A)の少なくとも片面に透明電極(B
)を設けた液晶表示パネル用電極基板において、基板(
A)として、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテルス
ルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂またはポリアリレー
ト系樹脂から成形されたレターデーション値30nm以
下の非旋光性透明フィルムまたはシートよりなる基材層
(1)の少なくとも片面に、アンカーヨー1−層(2)
を設け、さらに該アンカーコート層(2)上に耐透気性
樹脂層(3)および/または架橋性樹脂硬化物からなる
層(4)を設けた構成を有する複合基板を用い、その上
に主として金属薄膜層からなる透明電極(B)を形成し
たことを特徴とする液晶表示パネル用電極基板を提供す
るものである。
The present invention provides a transparent electrode (B) on at least one side of the substrate (A).
) in an electrode substrate for a liquid crystal display panel provided with a substrate (
As A), at least one side of the base layer (1) made of a non-optically active transparent film or sheet with a retardation value of 30 nm or less formed from polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polysulfone resin, or polyarylate resin. Anchor yaw 1-layer (2)
A composite substrate is used which has a structure in which a permeable resin layer (3) and/or a layer (4) made of a cured cross-linked resin is provided on the anchor coat layer (2), and The present invention provides an electrode substrate for a liquid crystal display panel, characterized in that a transparent electrode (B) made of a metal thin film layer is formed.

以下本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

基林1ユ土) 基板(A)を構成する基材層(1)としては、ポリカー
ボネート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリス
ルホン系樹脂またはポリアリレート系樹脂から成形され
たレターデーション値(R値)30nm以下の非旋光性
透明フィルムまたはシートが用いられる。
The base material layer (1) constituting the substrate (A) is made of a material having a retardation value (R value) molded from a polycarbonate resin, a polyethersulfone resin, a polysulfone resin, or a polyarylate resin. ) A non-optically active transparent film or sheet with a diameter of 30 nm or less is used.

これらの樹脂以外の樹脂から成形されたフィルムまたは
シートは、液晶表示パネル用電極基板の用途を考慮する
と適当ではない。
Films or sheets molded from resins other than these resins are not suitable when considering the use of electrode substrates for liquid crystal display panels.

ここでレターデーション値(R値)とは、次式(I)の
ように、フィルムの厚さdと、該フィルムに対して垂直
方向の2つの屈折率の差の絶対値との積で表される値で
ある。
Here, the retardation value (R value) is expressed as the product of the film thickness d and the absolute value of the difference between the two refractive indexes in the direction perpendicular to the film, as shown in the following formula (I). is the value to be used.

R=d−nl   rlz   HHH(1)(ただし
、nl は任意方向の屈折率、n2はn。
R=d−nl rlz HHH (1) (where nl is the refractive index in any direction, and n2 is n.

方向と直交する屈折率) このR値が30nmを超えると、パネルとしての適性視
角が狭(なるとともに、干渉縞が発生し、例えば液晶表
示装置に応用した場合、その判読性が低下する。
If the R value exceeds 30 nm, the appropriate viewing angle for the panel becomes narrow (and interference fringes occur, reducing the readability when applied to, for example, a liquid crystal display device).

このような条件を満足するフィルムまたはシートの素材
となるべき樹脂は、非品性のものである。
The resin that is to be used as the material for the film or sheet that satisfies these conditions is of inferior quality.

結晶性があると部分的に結晶化して透明性が悪くなり、
また光学異方性を生じてR値が高くなるという問題に遭
遇する。
If it is crystalline, it will partially crystallize and become less transparent.
Further, a problem arises in that optical anisotropy occurs and the R value becomes high.

アンカーコート  2 前記基材層(1)の少なくとも片面には、耐透気性樹脂
層(3)または架橋性樹脂硬化物からなる層(4)の形
成に先立って、アンカーコート層(2)が設けられる。
Anchor coat 2 An anchor coat layer (2) is provided on at least one side of the base layer (1) prior to the formation of the air permeable resin layer (3) or the layer (4) made of a cured crosslinkable resin. It will be done.

耐透気性樹脂層(3)と基材層(1)との間のアンカー
コート層(2)は、水性媒体に溶解または分散したアン
カー剤を用いて形成することが好ましい。
The anchor coat layer (2) between the air-permeable resin layer (3) and the base layer (1) is preferably formed using an anchor agent dissolved or dispersed in an aqueous medium.

アンカー剤としては、各種の水溶性の樹脂(水溶性ポリ
エステル樹脂、水溶性ポリアミド樹脂、水溶性ポリウレ
タン樹脂など)や水分散性樹脂(エチレン−酢酸ビニル
系エマルジョン、(メタ)アクリル系エマルジョンなど
)が挙げられるが、親水基を有するポリエステル樹脂、
ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂またはイオン高分子
錯体を用いることが特に好ましい。
As anchoring agents, various water-soluble resins (water-soluble polyester resins, water-soluble polyamide resins, water-soluble polyurethane resins, etc.) and water-dispersible resins (ethylene-vinyl acetate emulsions, (meth)acrylic emulsions, etc.) can be used. Polyester resins having hydrophilic groups,
Particular preference is given to using polyamide resins, polyurethane resins or ionic polymer complexes.

親水基としては、スルホン酸金属塩基、カルボキシル基
、アルキル基置換三級窒素、アルキレン基置換三級窒素
、アルキル基置換四級アンモニウム塩およびアルキレン
基置換四級アンモニウム塩よりなる群から選ばれた少な
くとも1種の親水基が挙げられる。
The hydrophilic group is at least one selected from the group consisting of a sulfonic acid metal base, a carboxyl group, a tertiary nitrogen substituted with an alkyl group, a tertiary nitrogen substituted with an alkylene group, a quaternary ammonium salt substituted with an alkyl group, and a quaternary ammonium salt substituted with an alkylene group. One type of hydrophilic group is mentioned.

前記親水基を有する樹脂は、水、さらには必要に応じ水
溶性有機溶剤、界面活性剤、塩基性中和剤などを含有す
る水性媒体中に熔解ないし微少な粒子状に分散した状態
で基材層(1)上にコーティングされる。
The resin having a hydrophilic group is melted or dispersed in fine particles in an aqueous medium containing water and, if necessary, a water-soluble organic solvent, a surfactant, a basic neutralizer, etc., and then applied to the base material. Coated on layer (1).

本発明において、好適な親水基を有するポリエステル樹
脂としては、親水基としてスルホン酸金属塩基および/
またはカルボキシル基を5〜1.000当量/106g
樹脂の範囲で含有するものが挙げられる。該樹脂には、
必要に応じ分子量100〜6,000のポリエチレング
リコールを30重量%(対ポリエステル樹脂)を超えな
い範囲で配合することができる。
In the present invention, the polyester resin having a suitable hydrophilic group includes a sulfonic acid metal base and/or a hydrophilic group.
or carboxyl group from 5 to 1.000 equivalents/106g
Examples include those contained in the range of resins. The resin includes
If necessary, polyethylene glycol having a molecular weight of 100 to 6,000 may be blended in an amount not exceeding 30% by weight (based on the polyester resin).

本発明において好適な親水基を有するポリアミド樹脂と
しては、親水基としてスルホン酸金属塩基、カルボキシ
ル基、アルキル基置換三級窒素、アルキレン基置換三級
窒素、アルキル基置換四級アンモニウム塩およびアルキ
レン基置換四級アンモニウム塩の少なくとも1種を5〜
1,000当量7106g樹脂の範囲で含有するものが
挙げられる。該樹脂には、必要に応じ分子量6,000
未満のポリエチレンジアミンまたはポリエチレングリコ
ールを30重量%(対ポリアミド樹脂)を超えない範囲
で配合することができる。
In the present invention, suitable hydrophilic group-containing polyamide resins include a sulfonic acid metal base, a carboxyl group, an alkyl group-substituted tertiary nitrogen, an alkylene group-substituted tertiary nitrogen, an alkyl group-substituted quaternary ammonium salt, and an alkylene group-substituted hydrophilic group. At least one quaternary ammonium salt
Examples include those containing 1,000 equivalents of 7106 g of resin. The resin may have a molecular weight of 6,000 if necessary.
Polyethylene diamine or polyethylene glycol can be blended in an amount not exceeding 30% by weight (based on the polyamide resin).

また、本発明において好適な親水基を有するポリウレタ
ン樹脂としては、親水基としてスルボン酸金属塩基、カ
ルボキシル基、アルキル基置換三級窒素、アルキレン基
置換三級窒素、アルキル基置換四級アンモニウム塩およ
びアルキレン基置換四級アンモニウム塩の少なくとも1
種を5〜1.000当量/106g樹脂の範囲で含有す
るものが挙げられる。該樹脂には、必要に応し分子量6
,000未満のポリエチレンジアミンまたはポリエチレ
ングリコールを30重量%(対ポリウレタン樹脂)を超
えない範囲で配合することができる。
In addition, as the polyurethane resin having a hydrophilic group suitable for the present invention, examples of the hydrophilic group include a sulfonic acid metal base, a carboxyl group, an alkyl group-substituted tertiary nitrogen, an alkylene group-substituted tertiary nitrogen, an alkyl group-substituted quaternary ammonium salt, and an alkylene group. At least one group-substituted quaternary ammonium salt
Examples include those containing seeds in a range of 5 to 1.000 equivalents/106 g resin. The resin may have a molecular weight of 6 if necessary.
,000 polyethylene diamine or polyethylene glycol in an amount not exceeding 30% by weight (based on the polyurethane resin).

親水基を有するイオン高分子錯体としては、例0 えば、ポリエチレンイミンとポリアクリル酸と変性デン
プンとの混合物からなるものが用いられる。
As the ionic polymer complex having a hydrophilic group, for example, one made of a mixture of polyethyleneimine, polyacrylic acid, and modified starch is used.

架橋性樹脂硬化物からなる層(4)と基材層(1)との
間のアンカーコート層(2)は、前記の水性媒体に溶解
または分散したアンカー剤を用いて同様に形成すること
もできるが、基材層(1)と強固な密着性を得るために
は、後述の架橋性樹脂をアンカー剤として用いることが
好ましい。
The anchor coat layer (2) between the layer (4) made of a cured crosslinkable resin and the base layer (1) may be similarly formed using the anchor agent dissolved or dispersed in the aqueous medium. However, in order to obtain strong adhesion to the base layer (1), it is preferable to use a crosslinkable resin as described below as an anchor agent.

特に、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、ウレタン樹脂
が好ましい。
In particular, phenoxy ether type crosslinkable resins and urethane resins are preferred.

また、架橋性樹脂硬化物からなる層(4)を耐透気性樹
脂層(3)上に順次設ける場合、前者の層(4)と後者
の層(3)との間のアンカーコート層は特に必要としな
い。
In addition, when the layer (4) made of a cured cross-linked resin is sequentially provided on the air-permeable resin layer (3), the anchor coat layer between the former layer (4) and the latter layer (3) is particularly do not need.

耐1り111旧1℃L月 耐透気性樹脂は、その酸素透過率(ASTMD1434
−75に準じて測定)が30 Cc/24hr−n(・
atm以下であることが好ましく、かつ基材層(1)と
の剥離強度(ASTM  D1876に準じて測定)が
50g以上であることが好ましく、さらに好ましくは1
50g以上である。酸素透過率が30cc/  24h
r−ボ・atm以下であると、温度変化の厳しい過酷な
条件や長期間の使用により表示部に黒点が生じないから
である。また、剥離強度が50g以上であると、透明電
極処理や液晶パネル製造のパターン出し、酸、アルカリ
水溶液処理、有機薬品処理、組立工程などの工程におい
て、ごの耐透気性樹脂層(3)が剥離しないためである
The air permeable resin has a resistance of 111 months to 111 degrees Celsius, and its oxygen permeability (ASTMD1434
-75) is 30 Cc/24hr-n (・
ATM or less, and the peel strength with the base layer (1) (measured according to ASTM D1876) is preferably 50 g or more, more preferably 1
It is 50g or more. Oxygen permeability is 30cc/24h
This is because if the temperature is below r-boatm, black spots will not appear on the display section under harsh conditions with severe temperature changes or during long-term use. In addition, if the peel strength is 50 g or more, the air permeable resin layer (3) may be used in processes such as transparent electrode treatment, patterning in liquid crystal panel manufacturing, acid/alkaline aqueous solution treatment, organic chemical treatment, and assembly process. This is to prevent peeling.

なお、前記基材層(1)、アンカーコート層(2)とこ
の耐透気性樹脂層(3)との複合基板の可視光線透過率
は表示部のコントラストの点から60%以上が好ましい
Note that the visible light transmittance of the composite substrate of the base layer (1), the anchor coat layer (2), and the air-permeable resin layer (3) is preferably 60% or more from the viewpoint of the contrast of the display section.

このような条件を満たす耐透気性樹脂としては、アクリ
ロニトリル成分、ビニルアルコール成分またはハロゲン
化ビニリデン成分の少なくとも1種を含有する重合体が
好適に用いられる。液晶表示セルの製造工程や端末結線
などで耐熱性(例130°C以上)が必要な場合は、ア
クリロニトリル成分の重合体やビニルアルコールをグラ
フト基1 2 体とし、これにアクリロニトリルをグラフト重合して得
られた重合体を用いるとよい。
As the air-permeable resin that satisfies these conditions, a polymer containing at least one of an acrylonitrile component, a vinyl alcohol component, and a vinylidene halide component is preferably used. When heat resistance (example: 130°C or higher) is required in the manufacturing process of liquid crystal display cells or terminal connection, etc., acrylonitrile is graft-polymerized to a polymer of acrylonitrile component or vinyl alcohol as a graft group 1 2 . It is preferable to use the obtained polymer.

これらの耐透気性樹脂層(3)の厚さは1〜50μmが
好ましく、さらに好ましくは2〜20μmの範囲に設定
する。1μm未満では耐透気性が不充分であり、一方5
0μmを超えると複合基板を形成する際、カールする傾
向がある。
The thickness of these air-permeable resin layers (3) is preferably set in the range of 1 to 50 μm, more preferably in the range of 2 to 20 μm. If it is less than 1 μm, the air permeability is insufficient;
If it exceeds 0 μm, it tends to curl when forming a composite substrate.

基材層(1)上にアンカーコート層(2)を介して耐透
気性樹脂層(3)を設けるには、通常、前記耐透気性樹
脂をその溶剤の1種または2種以上に溶解ないし分散さ
せて基材層(1)上に設けられたアンカーコート層(2
)上に塗布、乾燥し、必要に応じて熱処理すればよい。
In order to provide the air-permeable resin layer (3) on the base layer (1) via the anchor coat layer (2), the air-permeable resin is usually dissolved in one or more solvents. The anchor coat layer (2) is dispersed and provided on the base layer (1).
), dry it, and heat treat it if necessary.

°なる  4 架橋性樹脂硬化物からなる層(4)は、好ましくは、フ
ェノキシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリ
ル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂またはウレタン
樹脂から選ばれた架橋性樹脂の硬化物から構成される。
The layer (4) consisting of a cured crosslinkable resin is preferably a cured crosslinkable resin selected from phenoxy ether type crosslinkable resins, epoxy resins, acrylic resins, melamine resins, phenolic resins, or urethane resins. It consists of

このうち典型的な例として、フェノキシエーテル型架橋
性樹脂とアクリル樹脂について詳述する。
As typical examples, phenoxy ether type crosslinkable resin and acrylic resin will be described in detail.

架橋性樹脂の巾で特に好ましい樹脂は、下記−船蔵(I
I)で示されるフェノキシエーテル型重合体またはその
水酸基の水素部分に多官能性化合物を架橋反応させたフ
ェノキシエーテル型架橋重合体である。
Particularly preferable resins in terms of width of crosslinkable resins are as follows - Funagura (I
This is a phenoxy ether type polymer represented by I) or a phenoxy ether type crosslinked polymer obtained by subjecting the hydrogen moiety of its hydroxyl group to a crosslinking reaction with a polyfunctional compound.

(式中、R’−R″は、それぞれ水素原子または炭素数
1〜3の低級アルキル基を、R7は炭素数2〜4の低級
アルキレン基を、nは20〜300の整数をそれぞれ意
味する。) 前記−船蔵(n)において、R’−R6で示される炭素
数1〜3の低級アルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基が挙げられ、R7で示
される炭素数2〜4の低級アルキレン基としては、エチ
レン基、プロピレン3 4 基、トリメチレン基、ブチレン基などが例示される。
(In the formula, R'-R'' each represents a hydrogen atom or a lower alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R7 represents a lower alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and n represents an integer of 20 to 300. ) In the above-Funazura (n), examples of the lower alkyl group having 1 to 3 carbon atoms represented by R'-R6 include a methyl group, ethyl group, propyl group, and isopropyl group, and the carbon represented by R7 Examples of the lower alkylene group having numbers 2 to 4 include ethylene group, propylene 34 group, trimethylene group, and butylene group.

また、架橋重合体を得るために反応させる多官能性化合
物としては、水酸基との反応活性が高い基、例えば、イ
ソシアネート基、カルボキシル基、カルボキシル基にお
ける反応性誘導基(例えばハライド、活性アミド、活性
エステル、酸無水物基など)、メルカプトなどを同一ま
たは異なって2以上有する化合物、例えばトリレンジイ
ソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、p−
フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシ
アネート、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネ
ート、トリフェニルメタン−p、pP″−トリイソシア
ネート、ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート
などのポリイソシアネートおよびそれらの多価アルコー
ル付加体、フェノールシブロックドトリレンジイソシア
不一トなどのブロックトポリイソシアネート、アジピン
酸、酒石酸、セバシン酸、フタル酸などの多価カルボン
酸およびカルボキシル基における反応性誘導体、チオグ
リコール酸などのメルカプト置換有機カルボン酸などの
ほか、エピクロルヒドリン、チオ硫酸ナトリウム、メラ
ミン−ホルムアルデヒド樹脂、フェノール−ホルムアル
デヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂などを用いる
ことができる。
In addition, as the polyfunctional compound to be reacted to obtain a crosslinked polymer, groups having high reaction activity with hydroxyl groups, such as isocyanate groups, carboxyl groups, and reactive derivative groups in carboxyl groups (such as halides, active amides, active ester, acid anhydride group, etc.), mercapto, etc., such as tolylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, p-
Polyisocyanates such as phenylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4'-diisocyanate, triphenylmethane-p, pP''-triisocyanate, polymethylene polyphenyl polyisocyanate, and their polyhydric alcohol adducts, phenol siblock Blocked polyisocyanates such as dotolylene diisocyanate, polyhydric carboxylic acids such as adipic acid, tartaric acid, sebacic acid, phthalic acid and reactive derivatives at carboxyl groups, mercapto-substituted organic carboxylic acids such as thioglycolic acid, etc. In addition, epichlorohydrin, sodium thiosulfate, melamine-formaldehyde resin, phenol-formaldehyde resin, urea-formaldehyde resin, etc. can be used.

また、アクリル樹脂としては、分子中に少なくとも3個
以上のアクリロイルオキシ基および/またはメタアクリ
ロイルオキシ基を含有する化合物〔以下、多官能(メタ
)アクリロイルオキシ基含有化合物という〕を主成分と
する多官能不飽和単量体および/またはその初期ラジカ
ル反応物を主成分とする組成物を挙げることができる。
In addition, as the acrylic resin, a compound containing at least three or more acryloyloxy groups and/or methacryloyloxy groups in the molecule [hereinafter referred to as polyfunctional (meth)acryloyloxy group-containing compound] is used as the main component. Mention may be made of compositions based on functional unsaturated monomers and/or their initial radical reactants.

特に好ましいのは、分子中に少なくとも3個以上の(メ
タ)アクリロイルオキシ基を含有する多官能不飽和単量
体を、全不飽和単量体に対して好ましくは50重量%以
上、さらに好ましくは70重量%、特に好ましくは90
重量%以上含有する不飽和単量体混合物および/または
その初期ラジカル反応物からなる組成物である。
Particularly preferably, the polyfunctional unsaturated monomer containing at least three (meth)acryloyloxy groups in the molecule is preferably 50% by weight or more, more preferably 50% by weight or more based on the total unsaturated monomers. 70% by weight, particularly preferably 90%
It is a composition consisting of an unsaturated monomer mixture and/or its initial radical reactant containing at least % by weight.

分子中に少なくとも3個以上の(メタ)アクリ5 6 0イルオキシ基を含有する多官能不飽和単量体としては
、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、ト
リメチロールエタントリ (メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが
挙げられる。
Examples of polyfunctional unsaturated monomers containing at least three (meth)acry560yloxy groups in the molecule include pentaerythritol tetra(meth)acrylate;
Examples include pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolethane tri(meth)acrylate, dipentaerythritol tetra(meth)acrylate, and dipentaerythritol hexa(meth)acrylate.

これらとともに使用できる不飽和単量体としては、分子
中に2個または1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を
有する不飽和単量体やその他のビニル系単量体である。
Unsaturated monomers that can be used together with these include unsaturated monomers having two or one (meth)acryloyloxy groups in the molecule and other vinyl monomers.

前記2官能単量体としては、1分子中の各(メタ)アク
リロイルオキシ基間を結合する基が100個以下の炭素
原子を含有する炭化水素残基、ポリエーテル残基または
ポリエステル残基である単量体が好ましい。例えば、エ
チレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブ
タンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサ
ンシオールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレング
リコールジ(メタ)アクリレート、ポリエステルジオー
ルジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
The bifunctional monomer is a hydrocarbon residue, a polyether residue, or a polyester residue in which the group bonding between each (meth)acryloyloxy group in one molecule contains 100 or less carbon atoms. Monomers are preferred. For example, ethylene glycol di(meth)acrylate, 1,4-butanediol di(meth)acrylate, 1,6-hexanethiol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polytetramethylene glycol di(meth)acrylate Examples include acrylate, polyester diol di(meth)acrylate, and the like.

前記1官能単量体としては、2−ヒドロキシメチル(メ
タ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、
(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステルの第
4級アンモニウム塩などを利用することができる。
As the monofunctional monomer, 2-hydroxymethyl (meth)acrylate, glycidyl (meth)acrylate,
(Meth)acrylic acid, a quaternary ammonium salt of (meth)acrylic acid ester, etc. can be used.

これらの架橋性樹脂も、前記耐透気性樹脂の場合と同様
の方法で成層することが可能である。
These crosslinkable resins can also be layered in the same manner as in the case of the air-permeable resin.

これらの架橋性樹脂硬化物からなる層(4)は、通常の
湿式製膜法、乾式製膜法、溶融製膜法によって形成され
るが、膜の光学的等方性を考慮すると、乾式製膜法が最
適である。
The layer (4) made of these cured crosslinkable resins is formed by the usual wet film forming method, dry film forming method, or melt film forming method. The membrane method is optimal.

架橋性樹脂硬化物からなる層(4)の厚さは、好ましく
は1〜500μm、さらに好ましくは2〜200μmで
ある。1μm未満では、耐薬品性が不充分であり、一方
500μmを超えると複合基板を形成する際、カールす
る傾向がある。
The thickness of the layer (4) made of the cured crosslinkable resin is preferably 1 to 500 μm, more preferably 2 to 200 μm. If it is less than 1 μm, chemical resistance is insufficient, while if it exceeds 500 μm, it tends to curl when forming a composite substrate.

透1匝■」0− 7 8 本発明の液晶表示パネル用電極基板を作成するため、前
記で得られた複合基板の片面または両面に主として金属
薄膜層からなる透明電極を設ける。
0-78 To prepare the electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention, a transparent electrode mainly consisting of a metal thin film layer is provided on one or both sides of the composite substrate obtained above.

透明電極(B)は、架橋性樹脂硬化物からなる層(4)
を介して基板(A)上に形成されることが透明電極パタ
ーン加工後の耐薬品性、耐液晶性の点で好ましい。
The transparent electrode (B) is a layer (4) made of a cured crosslinkable resin.
It is preferable to form the transparent electrode layer on the substrate (A) via the transparent electrode pattern from the viewpoint of chemical resistance and liquid crystal resistance after processing the transparent electrode pattern.

本発明に用いられる透明電極(B)は、主として金属薄
膜層からなる。金属薄膜層は、金、銀、銅よりなる群か
ら選ばれた少なくとも1種の金属を含むことが透明性、
導電性の点から好ましい。
The transparent electrode (B) used in the present invention mainly consists of a metal thin film layer. The metal thin film layer is transparent, and contains at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, and copper.
It is preferable from the viewpoint of conductivity.

例えば、金薄膜、銀薄膜、銅薄膜、金銀合金薄膜、金銅
合金薄膜、金銀銅合金薄膜、銀銅合金薄膜およびこれら
にさらにアルミニウム、ニッケル、パラジウム、白金、
インジウム、スズ、亜鉛などを添加した合金薄膜が挙げ
られる。特に、銅を1〜30重量%含む銀、金を3〜3
0重量%含む銀が、金属薄膜の透明性、導電性、熱や光
に対する安定性に優れ好ましく用いられる。
For example, gold thin film, silver thin film, copper thin film, gold silver alloy thin film, gold copper alloy thin film, gold silver copper alloy thin film, silver copper alloy thin film, and in addition to these, aluminum, nickel, palladium, platinum,
Examples include alloy thin films to which indium, tin, zinc, etc. are added. In particular, silver containing 1 to 30% by weight of copper and 3 to 3% of gold
Silver containing 0% by weight is preferably used because the metal thin film has excellent transparency, conductivity, and stability against heat and light.

金属薄膜の厚さは、導電性および透明性の点から50〜
300人が好ましく、特に70〜200人が好ましい。
The thickness of the metal thin film is 50 to 50 mm from the viewpoint of conductivity and transparency.
300 people is preferable, and 70 to 200 people is particularly preferable.

また、金属薄膜層が金、銀、銅よりなる群から選ばれた
少なくとも1種の金属を含む層(B1)と、チタン、ジ
ルコニウム、インジウム、ケイ素、炭素、コハル1−、
ニッケルからなる群から選ばれた少なくとも1種の金属
を含む層(B2)とからなり、かつ後者の層(B2)が
前者の層(B1)の上側または両側に接して設けられた
構成であると、熱や光に対する安定性が向上する場合が
多い。
Further, the metal thin film layer includes a layer (B1) containing at least one metal selected from the group consisting of gold, silver, and copper, titanium, zirconium, indium, silicon, carbon, cohar 1-,
a layer (B2) containing at least one metal selected from the group consisting of nickel, and the latter layer (B2) is provided above or in contact with both sides of the former layer (B1). This often improves stability against heat and light.

後者の層(B2)は、わずかに酸化されていてもよい。The latter layer (B2) may be slightly oxidized.

また、かかる膜構成をとる場合、前者の層(B1)の膜
厚は、導電性および透明性の点から50〜300人が好
ましく、特に70〜200人が好ましい。
Further, when such a film configuration is adopted, the thickness of the former layer (B1) is preferably 50 to 300 layers, particularly preferably 70 to 200 layers, from the viewpoint of conductivity and transparency.

一方、後者の層(B2)の膜厚は、熱や光に対する安定
性の向上効果および透明性の点から3〜100人が好ま
しく、特に5〜50人が好ましい。
On the other hand, the thickness of the latter layer (B2) is preferably 3 to 100 layers, particularly preferably 5 to 50 layers, from the viewpoint of improving stability against heat and light and transparency.

金属薄膜層の片面または両面に、さらに透明高9 0 屈折率薄膜層を設けてもよい。透明高屈折率薄膜層とし
ては、チタン、インジウム、亜鉛、スズ、イツトリウム
、エルビウム、ジルコニウム、セリウム、タンタルおよ
びハフニウムから選ばれた1種以上の金属の酸化物また
は硫化亜鉛などを挙げることができる。
A transparent high 90 refractive index thin film layer may be further provided on one or both sides of the metal thin film layer. Examples of the transparent high refractive index thin film layer include oxides of one or more metals selected from titanium, indium, zinc, tin, yttrium, erbium, zirconium, cerium, tantalum, and hafnium, or zinc sulfide.

金属薄膜層は、真空蒸着法、イオンプレーう〜インク性
、スパックリング法などの物理的製膜法や化学メツキ法
などの化学的製膜法およびそれらの組合せの方法いずれ
でも形成可能であるが、形成薄膜の均一性、膜形成速度
および製造の容易性の点から物理的製膜法が適している
The metal thin film layer can be formed by any of the following methods: physical film forming methods such as vacuum evaporation, ion spray ink, and spackling methods, chemical film forming methods such as chemical plating, and combinations thereof. A physical film forming method is suitable from the viewpoints of uniformity of the formed thin film, film formation speed, and ease of production.

また、透明高屈折率薄膜層は、前記の物理的製膜法や塗
工法などによって形成することができる。
Further, the transparent high refractive index thin film layer can be formed by the above-mentioned physical film forming method, coating method, or the like.

覚ゑ基板q籐揉戊 次に、図面により、本発明の電極基板の層構成を説明す
る。
Next, the layer structure of the electrode substrate of the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は、本発明の電極基板の一例を示した断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of an electrode substrate of the present invention.

この例では、基材層(1)の片面にアンカーコート層(
2)が形成され、さらにそのアンカーコート層(2)の
上に耐透気性樹脂層(3)、架橋性樹脂効果物からなる
層(4)が設けられており、これら各層が積層して基板
(A)が構成されている。そして基板(A)の架橋性樹
脂硬化物からなる層(4)の上に透明電極(B)が設け
られている。
In this example, an anchor coat layer (
2) is formed, and furthermore, on the anchor coat layer (2), an air-permeable resin layer (3) and a layer (4) consisting of a crosslinkable resin effect material are provided, and these layers are laminated to form a substrate. (A) is configured. A transparent electrode (B) is provided on the layer (4) of the cured crosslinkable resin of the substrate (A).

第2図は、本発明の電極基板の他の一例を示した断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view showing another example of the electrode substrate of the present invention.

この例では、基材層(1)の両面にアンカーコート層(
2)、(2)が形成され、さらに片方の面のアンカーコ
ート層(2)の上に耐透気性樹脂層(3)および架橋性
樹脂硬化物からなる層(4)が設けられており、またこ
れと反対面のアンカーコート層(2)の上に耐透気性樹
脂層(3)または架橋性樹脂硬化物からなる層(4)が
設けられており、これら各層が積層して基板(A)が構
成されている。そして、基板(A)の片方の架橋性樹脂
硬化物からなる層(4)の上に透明電極(B)が設けら
れている。
In this example, an anchor coat layer (
2), (2) are formed, and an air permeable resin layer (3) and a layer (4) made of a cured crosslinkable resin are provided on the anchor coat layer (2) on one side, Further, on the anchor coat layer (2) on the opposite side, an air-permeable resin layer (3) or a layer (4) made of a cured cross-linked resin is provided, and these layers are laminated to form a substrate (A ) is configured. A transparent electrode (B) is provided on one layer (4) of a cured crosslinkable resin of the substrate (A).

1 9 基材層(1)の両面に形成するアンカーコート層(2)
、(2)は、同種のものであっても他種のものであって
もよい。
1 9 Anchor coat layer (2) formed on both sides of base layer (1)
, (2) may be of the same type or of different types.

また、耐透気性樹脂(3)、(3)あるいは、架橋性樹
脂硬化物からなる層(4)、(4)も同種のものであっ
ても他種のものであってもよい。
Further, the air permeable resins (3), (3) or the layers (4), (4) made of cured crosslinkable resins may be of the same kind or of different kinds.

第3図は、本発明の電極基板のさらに他の一例を示した
断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing still another example of the electrode substrate of the present invention.

この例では、基11層(1)の両面にアンカーコート層
(2)、(2)が形成され、さらに片方のアンカーコー
ト層(2)の上に耐透気性樹脂層(3)および架橋性樹
脂硬化物からなる層(4)が設けられており、また、こ
れと反対面のアンカーコート層(2)の上に、架橋性樹
脂硬化物からなる層(4)が設けられており、これら各
層が積層して基板(A)が構成されている。そして、基
板(A)の片方の架橋性樹脂硬化物からなる層(4)上
に透明電極(B)が設けられている。
In this example, anchor coat layers (2), (2) are formed on both sides of the base 11 layer (1), and an air-permeable resin layer (3) and a crosslinkable resin layer are formed on one of the anchor coat layers (2). A layer (4) made of a cured resin is provided, and a layer (4) made of a cured crosslinkable resin is provided on the anchor coat layer (2) on the opposite side. Each layer is laminated to form a substrate (A). A transparent electrode (B) is provided on one layer (4) of a cured crosslinkable resin of the substrate (A).

アンカーコート層(2)、(2)、架橋性樹脂硬化物か
らなる層(4)、(4)はそれぞれ基材層(1)の両面
で同種のものであっても他種のものであってもよい。
The anchor coat layers (2), (2) and the layers (4), (4) made of cured crosslinkable resin may be of the same type or different types on both sides of the base layer (1), respectively. You can.

1艦羞販勿月1 本発明の液晶表示パネル用電極基板は、液晶表示装置は
勿論のこと、タッチパネル、光導電性感光体用電極、面
発熱体などの各種の透明電極または建築物の窓貼りなど
の各種デイスプレーのフィルターや化粧板として利用で
きる。
1. The electrode substrate for liquid crystal display panels of the present invention can be used not only for liquid crystal display devices, but also for various transparent electrodes such as touch panels, electrodes for photoconductive photoreceptors, surface heating elements, and windows of buildings. It can be used as a filter or decorative board for various day sprays.

〔実施例〕〔Example〕

以下に実施例をあげたて、本発明をさらに具体的に説明
する。
EXAMPLES The present invention will be explained in more detail by giving examples below.

実施例中、「部」、「%」とあるのは重量基準である。In the examples, "parts" and "%" are based on weight.

実施例1および比較例1 厚さ80μm、レターデーション値(R値)18部mの
ポリアリレートフィルム(鐘淵化学工業■製)(1)の
片面に、下記組成のアンカーコート剤溶液(第1液)を
0.1mmφのワイヤーラウンドドクターを使用して塗
布し、120 ”Cで約2分間乾燥して、厚さ0.5μ
mのアンカーコー3 4 ト層(2a)を形成させた。
Example 1 and Comparative Example 1 Anchor coating agent solution (first Liquid) was applied using a 0.1 mm diameter wire round doctor and dried at 120"C for about 2 minutes to a thickness of 0.5 μm.
An anchor coat layer (2a) of 34 m was formed.

このアンカーコート層(2a)の上に、下記組成で調整
した耐透気製樹脂溶液(第2液)をギャンプ85μmに
塗布したのち、70〜110″Cで10分間乾燥して、
厚さ10μmの耐透気性樹脂層(3)を形成させた。
On this anchor coat layer (2a), a gas-permeable resin solution (second liquid) prepared with the following composition was applied to a gap of 85 μm, and then dried at 70 to 110″C for 10 minutes.
An air-permeable resin layer (3) having a thickness of 10 μm was formed.

また、同アリレートフィルム(1)の耐通気性樹脂層(
3)を形成した面と反対面に前記のアンカー剤溶液(第
1液)を、0.5mmφのワイヤーラウンドで塗布し、
120°Cで3分間乾燥して、厚さ2μmのアンカーコ
ート層(2b)を形成させた。
In addition, the air-resistant resin layer (
3) Apply the anchor agent solution (first liquid) on the opposite side to the surface formed with a wire round of 0.5 mmφ,
It was dried at 120°C for 3 minutes to form an anchor coat layer (2b) with a thickness of 2 μm.

この耐透気性樹脂層(3)およびアンカーコート層(2
b)の上に下記組成の架橋性樹脂溶液(第3液)をアプ
リケーターを使用してギャップ35μmで塗布し、80
゛Cで4分間乾燥してから140 ”Cで30分間加熱
架橋して、厚さ約10μmの架橋性樹脂硬化物からなる
層(4a)、(4b)を設けることにより複合基板を作
成した。
This air-permeable resin layer (3) and anchor coat layer (2)
A crosslinkable resin solution (third liquid) having the following composition was applied onto b) using an applicator with a gap of 35 μm.
A composite substrate was prepared by drying at 140"C for 4 minutes and then heating and crosslinking at 140"C for 30 minutes to provide layers (4a) and (4b) of cured crosslinkable resin with a thickness of about 10 μm.

第1液組成 第2液の組成および調製 エチレン/ビニルアルコール共重合体40部(モル比3
2/6 B、株式会社クラレ製F101)、水90部、
ノルマルプロピルアルコール110部に10部のアクリ
ロニトリルを添加して窒素ガスを通じて攪拌しながら6
0゛cに加温した。
Composition of the first liquid Composition and preparation of the second liquid 40 parts of ethylene/vinyl alcohol copolymer (mole ratio 3
2/6 B, F101 manufactured by Kuraray Co., Ltd.), 90 parts of water,
10 parts of acrylonitrile was added to 110 parts of normal propyl alcohol, and nitrogen gas was passed through the mixture while stirring.
It was heated to 0°C.

この溶液に重合触媒として8%の過硫酸アンモニウム0
.5mlと4%の重亜硫酸ナトリウム0.5−を加えて
グラフト重合反応を1時間行った。以後、同様にして8
%の過硫酸アンモニウムおよび4%の重亜硫酸ナトリウ
ムを加えて同じ重合条件、操作で合計6回重ねて重合反
応を終了した(重合体の濃度18.2%)。
8% ammonium persulfate was added to this solution as a polymerization catalyst.
.. 5 ml of 0.5-ml of 4% sodium bisulfite was added, and the graft polymerization reaction was carried out for 1 hour. After that, do 8 in the same way.
% of ammonium persulfate and 4% of sodium bisulfite were added, and the same polymerization conditions and operations were repeated a total of 6 times to complete the polymerization reaction (polymer concentration: 18.2%).

重合終了後、同重合液を90°Cまで加温し残存モノマ
ーや一部溶媒を流去したのちノルマルプロピルアルコー
ル/水が65/35の混合液を加え5 6 第2液を調製した。得られた第2液は重合体濃度16%
、ノルマルプロピルアルコール/水が約55/45、グ
ラフト率16%であった。
After the polymerization was completed, the polymerization solution was heated to 90° C. to remove residual monomers and a portion of the solvent, and then a 65/35 mixture of normal propyl alcohol and water was added to prepare a second solution. The obtained second liquid had a polymer concentration of 16%.
, normal propyl alcohol/water was approximately 55/45, and the grafting rate was 16%.

第3液組成 得られた複合基板(A)をスパッタリング装置内にセッ
トし、真空度2X10−”Fo r rまで真空槽を排
気した。その後、Arガスを導入し、真空度を3X10
−3Torrに保った後、AgAu合金ターゲット(A
u15%)を用い、第3図に示したように架橋性樹脂硬
化物からなる層上に膜厚が70人のAgAu合金薄膜を
形成することにより透明電極(B)を形成し電極基板を
得た。
The composite substrate (A) obtained with the third liquid composition was set in a sputtering device, and the vacuum chamber was evacuated to a degree of vacuum of 2X10-''Four r.After that, Ar gas was introduced and the degree of vacuum was increased to 3X10.
After maintaining the temperature at −3 Torr, the AgAu alloy target (A
As shown in Fig. 3, a transparent electrode (B) was formed by forming an AgAu alloy thin film with a thickness of 70 mm on a layer made of a cured crosslinkable resin, and an electrode substrate was obtained. Ta.

また、前記複合基板(A)をスパッタリング装置内にセ
ットし、真空度2X 10−5To r rまで真空槽
を排気した。その後、Ar102混合ガス(0□20%
)を真空槽内に導入し、真空度を3XIO−3Torr
に保ったのち、I n / S n合金(Sn5%)よ
りなるターゲットを用いて反応性スパッタリング法によ
り膜厚が1,200人のITO膜からなる透明電極(B
)を形成し、比較例1の電極基板を得た。
Further, the composite substrate (A) was set in a sputtering apparatus, and the vacuum chamber was evacuated to a degree of vacuum of 2×10 −5 Torr. After that, Ar102 mixed gas (0□20%
) into the vacuum chamber, and the degree of vacuum was set to 3XIO-3Torr.
Then, a transparent electrode (B
) was formed to obtain an electrode substrate of Comparative Example 1.

実施例1および比較例1の電極基板の550nmにおけ
る透過率、抵抗、耐熱性(90°Cで1.000時間放
置後の抵抗値Rと初期抵抗値R0の比R/RO)、耐屈
曲性(透明電極面が内側または外側になるように直径5
φの棒の周囲に沿わせて10回曲げ伸ばしを繰り返した
のちの抵抗値Rと初期抵抗値R8の比R/RO)を第1
表に示す。
Transmittance at 550 nm, resistance, heat resistance (ratio R/RO of resistance value R after being left at 90°C for 1.000 hours and initial resistance value R0), bending resistance of the electrode substrates of Example 1 and Comparative Example 1 (The diameter is 5mm so that the transparent electrode surface is on the inside or outside.)
The ratio R/RO) of the resistance value R after repeating bending and stretching 10 times along the circumference of the rod of φ and the initial resistance value R8 is the first
Shown in the table.

実施例2 AgAu合金ターゲットにかえて、AgAu(Au15
%)ターゲットおよびIn金属ターゲットを用いて、7
0人のAgAu合金薄膜の上にさらに30人のIn薄膜
を積層するほかは実施例7 8 1と同様にして透明電極(B)を形成して、電極基板を
得、実施例1と同様に評価し、結果を第1表に示す。
Example 2 Instead of AgAu alloy target, AgAu (Au15
%) target and In metal target, 7
A transparent electrode (B) was formed in the same manner as in Example 7 8 1 except that a 30-person In thin film was further laminated on the 0-person AgAu alloy thin film, and an electrode substrate was obtained. The results are shown in Table 1.

実施例3 AgAuターゲッl□にかえて、AgCuターゲット(
Cu10%)およびTi金属ターゲットを用いて、70
人のAgCu合金薄膜の上にさらに30人のTi″a!
膜を積層するほかは実施例1と同様にして透明電極(B
)を形成して、電極基板を得、実施例1と同様に評価し
、結果を第1表に示本発明の液晶表示パネル用電極基板
は、透明電極の透明性、導電性、耐熱性、耐屈曲性など
の耐久性に優れている。
Example 3 Instead of AgAu target □, AgCu target (
70 using Cu10%) and Ti metal targets.
An additional 30 Ti″a on top of the AgCu alloy thin film!
A transparent electrode (B
) to obtain an electrode substrate, and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1. The electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention has excellent transparency, conductivity, heat resistance, It has excellent durability such as bending resistance.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は、透明性、導電性、耐久性に優れた液晶表示パ
ネル用電極基板を提供でき、この液晶表示パネル用電極
基板は液晶表示装置をはじめ、タッチパネル、光導電性
感光体用電極などの各種電極、各種デイスプレーなどに
広く利用できる。
The present invention can provide an electrode substrate for a liquid crystal display panel with excellent transparency, conductivity, and durability. Can be widely used for various electrodes, various displays, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明の液晶表示パネル用電極基板の一例を
示す断面図である。 第2図は、本発明の液晶表示パネル用電極基板の他の一
例を示す断面図である。 第3図は、本発明の液晶表示パネル用電極基板の別の一
例を示す断面図である。 A;基板、B;透明電極、1;基材層 2;アンカーコート層、3;耐透気性樹脂層、4;架橋
性樹脂硬化物からなる層。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of an electrode substrate for a liquid crystal display panel according to the present invention. FIG. 2 is a sectional view showing another example of the electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention. FIG. 3 is a sectional view showing another example of the electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention. A: Substrate, B: Transparent electrode, 1: Base layer 2: Anchor coat layer, 3: Air-permeable resin layer, 4: Layer made of cured crosslinkable resin.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基板(A)の少なくとも片面に透明電極(B)を設
けた液晶表示パネル用電極基板において、基板(A)と
して、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテルスルホン
系樹脂、ポリスルホン系樹脂またはポリアリレート系樹
脂から成形されたレターデーション値30nm以下の非
旋光性透明フィルムまたはシートよりなる基材層(1)
の少なくとも片面に、アンカーコート層(2)を設け、
さらに該アンカーコート層(2)上に耐透気性樹脂層(
3)および/または架橋性樹脂硬化物からなる層(4)
を設けた構成を有する複合基板を用い、その上に主とし
て金属薄膜層からなる透明電極(B)を形成したことを
特徴とする液晶表示パネル用電極基板。 2、耐透気性樹脂層(3)が、親水基を有するポリエス
テル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂およびイ
オン高分子錯体よりなる群から選ばれた少なくとも1種
のアンカー剤から形成されたアンカーコート層(2)を
介して基材層(1)上に設けられている請求項1記載の
液晶表示パネル用電極基板。 3、親水基が、スルホン酸金属塩基、カルボキシル基、
アルキル基置換三級窒素、アルキレン基置換三級窒素、
アルキル基置換四級アンモニウム塩およびアルキレン基
置換四級アンモニウム塩よりなる群から選ばれた少なく
とも1種の親水基である請求項2記載の液晶表示パネル
用電極基板。 4、耐透気性樹脂層(3)を構成する耐透気性樹脂が、
アクリロニトリル成分、ビニルアルコール成分またはハ
ロゲン化ビニリデン成分の少なくとも1種を含有する重
合体である請求項1記載の液晶表示パネル用電極基板。 5、架橋性樹脂硬化物からなる層(4)を構成する架橋
性樹脂硬化物が、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エ
ポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、フェノール
樹脂またはウレタン樹脂から選ばれた架橋性樹脂の硬化
物である請求項1記載の液晶表示パネル用電極基板。 6、透明電極(B)を構成する金属薄膜層が、金、銀、
銅よりなる群から選ばれた少なくとも1種の金属を含む
請求項1記載の液晶表示パネル用電極基板。 7、透明電極(B)が、架橋性樹脂硬化物からなる層(
4)上に設けられている請求項1記載の液晶表示パネル
用電極基板。
[Claims] 1. An electrode substrate for a liquid crystal display panel in which a transparent electrode (B) is provided on at least one side of the substrate (A), in which the substrate (A) is made of a polycarbonate resin, a polyethersulfone resin, or a polysulfone resin. Base layer (1) consisting of a non-optically active transparent film or sheet molded from resin or polyarylate resin and having a retardation value of 30 nm or less
An anchor coat layer (2) is provided on at least one side of the
Furthermore, an air permeable resin layer (
3) and/or a layer (4) consisting of a crosslinkable resin cured product
1. An electrode substrate for a liquid crystal display panel, characterized in that a transparent electrode (B) consisting mainly of a metal thin film layer is formed on the composite substrate, using a composite substrate having a structure in which a metal thin film layer is formed. 2. An anchor coat layer in which the air-permeable resin layer (3) is formed from at least one anchoring agent selected from the group consisting of a polyester resin having a hydrophilic group, a polyamide resin, a polyurethane resin, and an ionic polymer complex. 2. The electrode substrate for a liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the electrode substrate is provided on the base material layer (1) via the substrate layer (1). 3. The hydrophilic group is a sulfonic acid metal base, a carboxyl group,
Alkyl group-substituted tertiary nitrogen, alkylene group-substituted tertiary nitrogen,
3. The electrode substrate for a liquid crystal display panel according to claim 2, wherein the electrode substrate is at least one hydrophilic group selected from the group consisting of alkyl group-substituted quaternary ammonium salts and alkylene group-substituted quaternary ammonium salts. 4. The air-permeable resin constituting the air-permeable resin layer (3) is
The electrode substrate for a liquid crystal display panel according to claim 1, which is a polymer containing at least one of an acrylonitrile component, a vinyl alcohol component, and a vinylidene halide component. 5. The crosslinkable resin cured product constituting the layer (4) consisting of a crosslinkable resin cured product is a crosslinkable resin selected from phenoxy ether type crosslinkable resin, epoxy resin, acrylic resin, melamine resin, phenol resin, or urethane resin. The electrode substrate for a liquid crystal display panel according to claim 1, which is a cured product of a resin. 6. The metal thin film layer constituting the transparent electrode (B) is made of gold, silver,
The electrode substrate for a liquid crystal display panel according to claim 1, comprising at least one metal selected from the group consisting of copper. 7. The transparent electrode (B) is a layer (
4) The electrode substrate for a liquid crystal display panel according to claim 1, which is provided on the electrode substrate.
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