JPH0644116B2 - Electrode substrate for liquid crystal display panel - Google Patents

Electrode substrate for liquid crystal display panel

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JPH0644116B2
JPH0644116B2 JP59162360A JP16236084A JPH0644116B2 JP H0644116 B2 JPH0644116 B2 JP H0644116B2 JP 59162360 A JP59162360 A JP 59162360A JP 16236084 A JP16236084 A JP 16236084A JP H0644116 B2 JPH0644116 B2 JP H0644116B2
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liquid crystal
crystal display
display panel
electrode substrate
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林次郎 市川
忠司 犬飼
英治 千野
尚伸 小田
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Toyobo Co Ltd
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Toyobo Co Ltd
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    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133305Flexible substrates, e.g. plastics, organic film

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は平滑性、平面性が良好で、かつ酸素、窒素など
の耐透気性に優れた液晶表示パネル用電極基板に関する
ものであり、液晶表示装置は勿論のこと、その他、光導
電性感光体用電極、面発熱体、また建築物の窓貼りから
各種ディスプレイのフィルターや化粧板としても利用で
きる。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an electrode substrate for a liquid crystal display panel, which has good smoothness and flatness and excellent gas resistance to oxygen, nitrogen and the like. In addition to the display device, it can also be used as an electrode for a photoconductive photoconductor, a surface heating element, or as a filter or a decorative plate for various displays from window sticking of buildings.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年液晶パネルは(1)薄膜化、(2)軽量化、(3)大型化、
(4)任意の形状化、(5)曲面化、(6)低コスト化などの要
求があり、これに応えるものとしてプラスチック基板を
用いた液晶パネルが検討、実用化されはじめた。この液
晶パネル用プラスチック基板には次のような特性が要求
される。
In recent years, liquid crystal panels are (1) thinner, (2) lighter, (3) larger,
There are demands for (4) arbitrary shape, (5) curved surface, and (6) cost reduction, and liquid crystal panels using plastic substrates have been studied and put into practical use in order to meet these demands. The following characteristics are required for the plastic substrate for liquid crystal panel.

(1) 光学的に可視光領域で透明。(1) Optically transparent in the visible light range.

(2) 光学的に等方性で、着色干渉稿が発生しない。(2) It is optically isotropic and does not cause coloring interference.

(3) 表面が平滑で硬い。(3) The surface is smooth and hard.

(4) 液晶組立などの製造工程に耐える耐薬品性、耐熱
(100℃以上)があること。
(4) Chemical resistance and heat resistance (100 ° C or higher) that can withstand manufacturing processes such as liquid crystal assembly.

(5) シール材との密着力が良く、長期に亘って気密性
があること。
(5) Adhesion with the sealing material is good and it is airtight for a long period of time.

(6) 耐透湿性があること。(6) Must be moisture permeable.

(7) 耐透気性があること。(7) Must have air resistance.

(8) 耐液晶性があり、長期に亘って安定なこと。(8) It has liquid crystal resistance and is stable over a long period of time.

これらの特性を全て満すことは、困難であるが、本発明
者らはすでに、これらの特性を有する液晶表示用の透明
電極付プラスチック基板を提案した(特開昭56−1300
10 号公報参照)。
It is difficult to satisfy all of these characteristics, but the present inventors have already proposed a plastic substrate with a transparent electrode for liquid crystal display having these characteristics (Japanese Patent Laid-Open No. 56-1300).
(See Publication No. 10).

しかし、長期にわたる信頼性や自動車などの苛酷な条件
下で使用する際、さらに優れた耐透湿性特に耐透気性が
要求される。例えば、耐透湿性が不充分の場合には消費
電力が増加すると共に液晶及び肺向膜の劣化を生じるこ
とが判った。一方、耐透気性が不充分の場合には、気泡
が混入し表示部に黒点を生じるなどの決点を生じること
が判った。
However, further long-term reliability and, when used under severe conditions such as automobiles, further excellent moisture resistance, especially air resistance is required. For example, it has been found that when the moisture resistance is insufficient, the power consumption increases and the liquid crystal and lung tunica membrane deteriorate. On the other hand, it has been found that when the air resistance is insufficient, air bubbles are mixed and a fixed point such as a black dot is generated on the display portion.

前記欠点のうち耐透湿性を向上させることを目的とし
て、プラスチック気板の少なくとも片面に、該基板より
低透湿率であるプラスチック層を形成した表示素子用プ
ラスチック基板が知られ(特開昭55−135817号公
報)、プラスチック層の材質として、フッ素樹脂、無極
性樹脂、極性樹脂がそれぞれ例示されているが、これら
はプラスチック基板との密着性が悪かったり、また熱処
理などの後工程処理により変色するなどの欠点を有して
いて実用的ではなかった。
Among the above-mentioned drawbacks, a plastic substrate for a display device is known in which a plastic layer having a moisture permeability lower than that of the substrate is formed on at least one surface of a plastic plate for the purpose of improving the moisture resistance. -135817), fluororesin, non-polar resin, and polar resin are exemplified as the material of the plastic layer, but these have poor adhesion to the plastic substrate and discoloration due to post-process such as heat treatment. It was not practical because it had drawbacks such as

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

本発明者らは前記従来の技術にはおける欠点、つまり液
晶表示パネル用電極基板において、耐透気性が不充分な
ため気泡が混入して表示部に黒点を生じるなどの欠点、
さらに耐透気性を向上させるために生じる種々の欠点、
たとえば耐透気層とプラスチック基板との密着性、耐透
気層の着色などの問題を解決するための鋭意研究、努力
した結果、遂に本発明を完成させるに至ったものであ
る。
The present inventors have drawbacks in the above-mentioned conventional techniques, that is, in the liquid crystal display panel electrode substrate, defects such as black spots in the display portion due to air bubbles mixed due to insufficient air resistance,
Various defects that occur to further improve air resistance,
For example, as a result of earnest research and efforts to solve problems such as adhesion between the air-permeable layer and the plastic substrate and coloring of the air-permeable layer, the present invention has finally been completed.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

すなわち本発明はレターデーション値が100mμ以下の
非旋光性フイルムまたはシートの片面または両面に高分
子樹脂層を塗布または積層した可視光線透過率60%以
上の複合基板の少くとも片面に透明電極を設けてなる液
晶表示パネル用電極基板であって、前記高分子樹脂層
が、ビニルアルコール成分含有線状重合体、ビニルアル
コール成分含有グラフト共重合体およびハロゲン化ビニ
リデン成分60〜90モル%含有した共重合体より選ば
れた一種または二種以上であり、かつ酸素透過率30cc
/24hr・m2・atm以下、かつ非旋光性フイルムまたは
シートとの剥離強度が50g以上であることを特徴とす
る液晶表示パネル電極基板である。
That is, the present invention provides a transparent electrode on at least one surface of a composite substrate having a visible light transmittance of 60% or more prepared by coating or laminating a polymer resin layer on one or both surfaces of a non-optical rotation film or sheet having a retardation value of 100 mμ or less. An electrode substrate for a liquid crystal display panel, wherein the polymer resin layer contains a vinyl alcohol component-containing linear polymer, a vinyl alcohol component-containing graft copolymer, and a vinylidene halide component of 60 to 90 mol%. One or more selected from coalesce and oxygen permeability of 30cc
/ 24 hr · m 2 · atm or less and peel strength from a non-optically rotating film or sheet is 50 g or more.

本発明で用いる非旋光性フイルムまたはシートはレター
デーション値(R値)が100mμ以下、好ましくは30m
μ以下である。R値とは、フイルムの厚さdと、該フイ
ルムに対して垂直方向の2つの屈析率の差の絶対値|n1
−n2|との積で表わされる。
The non-optical rotatory film or sheet used in the present invention has a retardation value (R value) of 100 mμ or less, preferably 30 m.
It is less than or equal to μ. The R value is the absolute value | n1 of the difference between the film thickness d and the two diffraction rates in the direction perpendicular to the film.
It is expressed as the product of −n2 |

R=d|n1−n2| (但しn1は任意方向の屈折率、n2はn1方向と直交する方
向の屈折率) このR値が100mμを越えると、パネルとしての適正視角
が狭くなると共に干渉縞が発生し、たとえば液晶表示装
置に応用した場合、その判読性が低下する。
R = d | n1-n2 | (where n1 is the refractive index in an arbitrary direction and n2 is the refractive index in the direction orthogonal to the n1 direction) When this R value exceeds 100 mμ, the proper viewing angle as a panel becomes narrow and interference fringes occur. Occurs, the readability of the liquid crystal display device deteriorates.

この様な条件を満足するフイルムを素材となるべき合成
樹脂は非晶性のものであって、結晶性があると部分的に
結晶化して透明性が悪くなり、又光学的異方性を生じて
R値が高くなるという問題に遭遇する。この様な条件を
満足する樹脂は全て本発明において利用できるが、本発
明の用途を考慮すると、耐有機薬品性や耐液晶性等の化
学的安定性の優れたものであることが望まれる。そこで
本発明に利用できる合成樹脂としては、ポリー4−メチ
ルベンテン−1、ポリアクリロニトリル系樹脂、フエノ
キシエーテル型重合体、フエノキシエーテル型架橋重合
体、ポリフエニレンオキサイド系樹脂、エポキシ系樹
脂、セルロース系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン系共重
合体樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスルホン系樹
脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリアリーレンエス
テル系樹脂、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリエステ
ル、ポリメタクリル酸メチル、ポリ塩化ビニル、エポキ
シブタジエン共重合体、芳香族ポリエーテルアミド(特
開昭58−208729号参照)、ポリクロロエチレン、多官能
アクリレート樹脂等が例示されるが、本発明において、
好ましい合成樹脂は下記一般式で示されるフエノキシエ
テール型重合体または水酸基の水素部分に多官性化合物
を架橋反応させたフエノキシエーテル型加工重合体であ
る。
A synthetic resin that should be used as a material for a film that satisfies these conditions is amorphous, and if it has crystallinity, it partially crystallizes, resulting in poor transparency and optical anisotropy. Encounters the problem of high R value. All resins satisfying such conditions can be used in the present invention, but considering the use of the present invention, it is desired that they have excellent chemical stability such as organic chemical resistance and liquid crystal resistance. Then, as the synthetic resin which can be used in the present invention, poly-4-methylpentene-1, polyacrylonitrile resin, phenoxy ether type polymer, phenoxy ether type crosslinked polymer, polyphenylene oxide type resin, epoxy type resin Resin, cellulose resin, vinyl resin, styrene copolymer resin, polycarbonate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyarylene ester resin, polyamide, polyolefin, polyester, polymethylmethacrylate, polychlorination Vinyl, epoxy butadiene copolymer, aromatic polyether amide (see JP-A-58-208729), polychloroethylene, polyfunctional acrylate resin and the like are exemplified, but in the present invention,
A preferred synthetic resin is a phenoxyether type polymer represented by the following general formula or a phenoxyether type processed polymer obtained by crosslinking a hydrogen moiety of a hydroxyl group with a polyfunctional compound.

(式中R1〜R6は、夫々水素又は炭素数1〜3の低級アル
キル基、R7は炭素数2乃至4の低級アルキル基、mは0
〜3の整数、nは20〜300の整数を夫々意味する) 上記一般式において、R1〜R6で示される炭素数1〜3の
低級アルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、
イソプロピル等の飽和低級アルキルが例示され、R7で示
される炭素数2乃至4の低級アルキレン基としては、エ
チレン、プロピレン、トリメチレン、ブチレンが示され
る。
(Wherein R 1 to R 6 are each hydrogen or a lower alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, R 7 is a lower alkyl group having 2 to 4 carbon atoms, and m is 0
Is an integer of 3 to 3, and n is an integer of 20 to 300 respectively.) In the above general formula, examples of the lower alkyl group having 1 to 3 carbon atoms represented by R 1 to R 6 include methyl, ethyl, propyl,
Saturated lower alkyl such as isopropyl is exemplified, and the lower alkylene group having 2 to 4 carbon atoms represented by R 7 includes ethylene, propylene, trimethylene and butylene.

また、架橋重合体を得るために反応させる多官性化合物
としては、水酸基との反応活性が高い基、例えばイソシ
アナト基、カルボキシ基、カルボキシ基における反応性
誘導基(例えばハライド、活性アミド、活性エステル、
酸無水物基等)、メルカプト基等を同一又は異なって2
以上有する化合物、例えばトリレンジイソシアネート、
m−フエニレンジイソシアネート、p−フエニレンジイ
ソシアネート、4,4′−ジフエニルメタンジイソシアネ
ート等のポリイソシアネートおよびそれらの多価アルコ
ール付加体;フエノールブロックドトリレンジイソシイ
アネート等のプロックドポリイソシアネート;アジピン
酸、酒石酸、セパシン酸、フタル酸等の多価カルボン酸
及びカルボキシ基における反応性誘導体;チオグリコー
ル酸等のメルカプト置換有機カルボン酸;等の他、エピ
クロルヒドリン、チオ硫酸ナトリウム、メラミン−ホル
ムアルデヒド、フエノール樹脂、尿素−ホルムアルデヒ
ド樹脂等を用いることもできる。
Further, as the polyfunctional compound to be reacted to obtain a crosslinked polymer, a group having high reaction activity with a hydroxyl group, for example, an isocyanato group, a carboxy group, a reactive induction group in a carboxy group (for example, halide, active amide, active ester) ,
Acid anhydride group, etc.), mercapto group, etc.
A compound having the above, for example, tolylene diisocyanate,
Polyisocyanates such as m-phenylene diisocyanate, p-phenylene diisocyanate and 4,4'-diphenylmethane diisocyanate and their polyhydric alcohol adducts; blocked polyisocyanates such as phenol blocked tolylene diisocyanate; Adipic acid, tartaric acid, sepacic acid, phthalic acid and other polycarboxylic acids and reactive derivatives at the carboxy group; mercapto-substituted organic carboxylic acids such as thioglycolic acid; and others, epichlorohydrin, sodium thiosulfate, melamine-formaldehyde, phenol Resins, urea-formaldehyde resins and the like can also be used.

これらの合成樹脂は、通常の湿式製膜法、乾式製膜法、
溶融製膜法によってフイルム状またはシート状に成形さ
れるが、膜の光学的等方性を考慮すると、乾式製膜法が
最適である。フイルムまたはシートの厚みは通常5〜1
000μ、好ましくは20〜200μである。
These synthetic resins are produced by the usual wet film forming method, dry film forming method,
The film is formed into a film or a sheet by the melt film forming method, but the dry film forming method is optimal in consideration of the optical isotropy of the film. The thickness of the film or sheet is usually 5 to 1
It is 000μ, preferably 20 to 200μ.

本発明において、前記非旋光性フイルムまたはシートと
の複合基板を構成する高分子樹脂層(以下耐透気層とい
う)はその酸素透過率(ASTM・D−1434−75に準じ
て測定)が30cc/24hr・m2・atm以下、好ましくは
20cc/24hr・m2・atm以下、かつ非旋光性フイルム
またはシートとの剥離強度(ASTM・D1876に準じて
測定)50g以上好ましくは150g以上である。酸素透過
率が30cc/24hr・m2・atmを越えると、厚さをいく
ら厚くしても温度変化の厳しい可酷な条件や長期間の使
用により表示部に黒点が生じるので好ましくない。また
剥離強度が50g未満では、次工程の透明電極処理や液
晶パネル製造のパターン出し酸、アルカリ水溶液処理、
有機薬品処理、組立工程などの際に剥離してしまうので
好ましくない。
In the present invention, the polymer resin layer (hereinafter referred to as an air permeation resistant layer) constituting the composite substrate with the non-optical rotatory film or sheet has an oxygen permeability (measured according to ASTM D-1434-75) of 30 cc. / 24 hr · m 2 · atm or less, preferably 20 cc / 24 hr · m 2 · atm or less, and a peel strength (measured according to ASTM D1876) from a non-optically-rotating film or sheet of 50 g or more, preferably 150 g or more. If the oxygen transmission rate exceeds 30 cc / 24 hr · m 2 · atm, no matter how thick the thickness may be, black spots may appear on the display due to severe conditions with severe temperature changes and long-term use, which is not preferable. When the peel strength is less than 50 g, the transparent electrode treatment in the next step or the patterning acid / alkali aqueous solution treatment for liquid crystal panel production,
It is not preferable because it peels off during the organic chemical treatment, the assembly process and the like.

なお前記非旋光性フイルムまたはシートと耐透気層との
複合基板の可視光線透過率は60%以上必要である。6
0%未満では表示部のコントラストが悪くなるので好ま
しくない。
The visible light transmittance of the composite substrate of the non-optical rotatory film or sheet and the air permeation resistant layer must be 60% or more. 6
If it is less than 0%, the contrast of the display portion is deteriorated, which is not preferable.

以上の条件を満たす耐透気層を形成する耐透気性高分子
樹脂としては、ビニルアルコール(以下VAという)成
分含有線状重合体、VA成分含有グラフト共重合体、ハ
ロゲン化ビニリデン成分60〜90モル%含有した共重
合体などが挙げられる。
Examples of the gas-permeable polymer resin that forms the gas-permeable layer satisfying the above conditions include vinyl alcohol (hereinafter referred to as VA) component-containing linear polymer, VA component-containing graft copolymer, and vinylidene halide components 60 to 90. The copolymer etc. which contained mol% are mentioned.

VA成分含有重合体は、VA含有量が50〜95モル%
の含VAの線状及びグラフト共重合体で必要に応じてこ
れに架橋剤を添加する。線状の含VA共重合体として
は、オレフィン−ビニルアルコール(以下OVAとい
う)共重合体及び酢酸ビニル−ビニルアルコール(以下
Va・VAという)共重合体を含むもので、OVA共重
合体は、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニ
ル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニ
ル、ステアリン酸ビニル、トリメチル酢酸ビニル、クロ
ロ酢酸ビニル、安息香酸ビニル、p−メチル安息香酸ビ
ニル等の置換若しくは非置換脂肪族又は芳香族カルボン
酸のビニルエステルを所定量のオレフィン(例えばエチ
レン、プロピレン或はこれらの混合物やエチレン−プロ
ピレン共重合体等)と共重合させてビニルエステルを5
0〜95モル%含むオレフィン−ビニルエステル共重合
体を得、これをケン化することにより得られる。尚この
ケン化は完全ケン化であってもよいが、一部末ケン化の
エステル結合を残していてもよい。またVa・VA共重
合体は酢酸ビニル重合体を部分ケン化することによって
得られる。
The VA component-containing polymer has a VA content of 50 to 95 mol%.
If necessary, a crosslinking agent is added to the VA-containing linear and graft copolymers. The linear VA-containing copolymer includes an olefin-vinyl alcohol (hereinafter referred to as OVA) copolymer and a vinyl acetate-vinyl alcohol (hereinafter referred to as Va · VA) copolymer, and the OVA copolymer is Substituted or non-substituted fats such as vinyl formate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl caproate, vinyl caprylate, vinyl stearate, trimethyl vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl benzoate, vinyl p-methylbenzoate, etc. Vinyl ester of aromatic or aromatic carboxylic acid is copolymerized with a predetermined amount of olefin (for example, ethylene, propylene or a mixture thereof, ethylene-propylene copolymer, etc.) to give a vinyl ester.
It is obtained by obtaining an olefin-vinyl ester copolymer containing 0 to 95 mol% and saponifying this. The saponification may be complete saponification, but part of the saponified ester bond may remain. The Va / VA copolymer can be obtained by partially saponifying a vinyl acetate polymer.

オレフィン−ビニルエステル共重合体及び酢酸ビニル重
合体のケン化法としては、該重合体をメタノール、エタ
ノール、ブタノール等の溶媒に溶解し、少量の酸或はア
ルカリの存在下でエステル交換反応させ、或は過剰量の
アルカリの存在下で加水分解反応させる方法が採用され
る。ここでOVA共重合体又はVa・VA共重合体中の
VA含有率が50モル%未満であるとガス透過性が高く
なり、充分な耐透気性が得られない。一方95モル%を
越えると、耐湿性が低下し、吸湿によりガス透過性が高
くなる。
As a method for saponifying an olefin-vinyl ester copolymer and a vinyl acetate polymer, the polymer is dissolved in a solvent such as methanol, ethanol or butanol, and transesterified in the presence of a small amount of acid or alkali, Alternatively, a method in which the hydrolysis reaction is carried out in the presence of an excessive amount of alkali is adopted. Here, if the VA content in the OVA copolymer or the Va · VA copolymer is less than 50 mol%, the gas permeability becomes high and sufficient air resistance cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 95 mol%, the moisture resistance is lowered and the gas permeability is increased due to moisture absorption.

VA成分含有グラフト共重合体とは、ポリ酢酸ビニルの
50〜100%ケン化のポリビニルアルコール(以下P
VAという)に付加重合性単量体をグラフト共重合した
ものである。ケン化度が50%未満のものでは後述のグ
ラフト化物を得ても安定なエマルジョンラテックスとす
ることができない。従って塗工しても十分な密着性が得
られず、又十分な耐透気性が得られない。
The VA component-containing graft copolymer is a polyvinyl alcohol of 50 to 100% saponification of polyvinyl acetate (hereinafter referred to as P
This is referred to as VA) and an addition-polymerizable monomer is graft-copolymerized. If the degree of saponification is less than 50%, a stable emulsion latex cannot be obtained even if the grafted product described below is obtained. Therefore, even if it is applied, sufficient adhesion cannot be obtained and sufficient air resistance cannot be obtained.

前記付加重合性単量体としては、付加重合性の2重結合
を有し、且つ水不溶性の化合物が用いられる。尚水不溶
性とは、PVAを不溶化させる為の要求特性で、一般的
には20℃の水に対する溶解度が10重量%以下である
ことが推奨される。10%を越える単量体を用いると、
得られたグラフト共重合物を利用するに当って安定した
エマルジョンドープが得られず、耐湿性が低下してガス
のバリヤーも十分なものではない。上記条件に適うもの
であれば全て本発明における好適モノマーとして利用で
きるが、より具体的な例をもって説明すると、オレフィ
ン系モノマー(例えばエチレン、プロピレン等)、ジエ
ン系モノマー(例えばブタジエン等)、スチレン系モノ
マー(例えばビニルベンゼン、ジビニルベンゼン等)、
ハロゲン化ビニル(例えば塩化ビニル、臭化ビニル、ク
ロロプレン、等)、酢酸ビニル系モノマー(例えば酢酸
ビニル等)、アクリロニトリル系モノマー(例えばアク
リロニトリル等)、シアン化ビニリデン、ビニルエーテ
ル系(例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエー
テル、n−ブチルビニルエーテル等)、アクリル酸エス
テル系モノマー〔例えばメチルアクリレート、エチルア
クリレート、n−アミルアクリレート、n−プロピルア
クリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、モ
ノ(2−アクリロイロキシエチル)アシッドホスフエー
ト等〕、メタクリル酸エステル系モノマー〔例えばメチ
ルメタクリレート、エチルメタクリレート、n−プロピ
ルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、iso−
プロピルメタクリレート、sec−ブチルメタクリレー
ト、n−アミルメタクリレート、メトキシエチルメタク
リレート、n−ブトキシエチルメタクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルメタクリレート、グリジルメタクリレ
ート、1,3−ブタンジオールメタクリレート、モノ
(2−メタクリロイロキシエチル)アシッドホスフエー
ト等〕等が挙げられ、これらは必要に応じて他の置換
分、例えば低級アルキル基(メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル等)、低級アルコキシ基(メトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、プトキシ等)、ハロゲン等を有してい
ても良い。
As the addition-polymerizable monomer, a water-insoluble compound having an addition-polymerizable double bond is used. Water-insolubility is a required property for insolubilizing PVA, and it is generally recommended that the solubility in water at 20 ° C. is 10% by weight or less. With more than 10% monomer,
When the obtained graft copolymer is used, a stable emulsion dope cannot be obtained, the moisture resistance is lowered, and the gas barrier is not sufficient. Any of those that meet the above conditions can be used as the preferred monomer in the present invention. To explain with more specific examples, olefin-based monomers (such as ethylene and propylene), diene-based monomers (such as butadiene), and styrene-based monomers. Monomers (eg vinylbenzene, divinylbenzene, etc.),
Vinyl halides (eg vinyl chloride, vinyl bromide, chloroprene, etc.), vinyl acetate monomers (eg vinyl acetate etc.), acrylonitrile monomers (eg acrylonitrile etc.), vinylidene cyanide, vinyl ethers (eg methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether) , N-butyl vinyl ether, etc.), acrylic acid ester-based monomer [eg, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-amyl acrylate, n-propyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, mono (2-acryloyloxyethyl) acid phosphate, etc.] , Methacrylic acid ester-based monomers [eg methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, iso-
Propyl methacrylate, sec-butyl methacrylate, n-amyl methacrylate, methoxyethyl methacrylate, n-butoxyethyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, glycyl methacrylate, 1,3-butanediol methacrylate, mono (2-methacryloyloxyethyl) acid And the like, and other substituents such as lower alkyl groups (methyl, ethyl, propyl, butyl, etc.), lower alkoxy groups (methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, etc.), halogens, etc. Etc. may be included.

PVA及び重合性単量体からグラフト重合体を製造する
為の反応条件については特段の制限を設けないが、通常
は硝酸第2セリウムアンモニウム、硫酸セリウムアンモ
ニウム、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸
ナトリウム、過酸化水素等の水溶性重合開始剤を共存さ
せ、水媒体中で反応を行なう。反応系におけるPVAの
濃度は、一般に2〜50%が好ましい。これは反応終了
後の混合物をそのまま成膜用ドープとして利用すること
を考慮した為であり、2%未満では均一厚さのフイルム
を得ることができない。又50%を超えると成膜にドー
プのゲル化が起こり、均質な塗膜を得ることができなく
なる。他方重合性単量体の濃度は、PVA100重量部
に対して1〜70重量部使用するのが良い。1重量部未
満では耐湿性がなく、他方70重量部を越えるとPVA
の特性が低下して、いずれも耐透気性が不十分である。
The reaction conditions for producing a graft polymer from PVA and a polymerizable monomer are not particularly limited, but are usually cerium ammonium nitrate, cerium ammonium sulfate, potassium persulfate, ammonium persulfate, sodium persulfate. And a water-soluble polymerization initiator such as hydrogen peroxide are allowed to coexist, and the reaction is carried out in an aqueous medium. Generally, the concentration of PVA in the reaction system is preferably 2 to 50%. This is because the mixture after the reaction is used as it is as a dope for film formation, and if it is less than 2%, a film having a uniform thickness cannot be obtained. When it exceeds 50%, gelation of the dope occurs in the film formation, and it becomes impossible to obtain a uniform coating film. On the other hand, the concentration of the polymerizable monomer is preferably 1 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of PVA. If it is less than 1 part by weight, it has no moisture resistance, while if it exceeds 70 parts by weight, it is PVA.
And the air resistance is insufficient.

又水溶性重合開始剤としては、PVA100重量部に対し
て0.05〜10重量部配合するのが良い。0.05重量部
未満では重合反応の開始が困難であり、他方10重量部
を越えると開始剤の為にPVAが劣化することがあり、
グラフト重合率が却って低下するからである。但し更に
好ましい添加量は、上記基準に対して0.5〜5重量部
である。尚グラフト重合反応は通常冷却乃至加熱下に行
なわれ、一般的には0〜100℃、好ましくは5〜80
℃が推奨される。0℃未満では重合速度が遅く、100℃
超では重合開始剤の分解を招き、重合系の安定性が低下
してゲル化等を生じるからである。
The water-soluble polymerization initiator is preferably added in an amount of 0.05 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of PVA. If it is less than 0.05 parts by weight, it is difficult to start the polymerization reaction, while if it exceeds 10 parts by weight, the PVA may deteriorate due to the initiator.
This is because the graft polymerization rate rather decreases. However, the more preferable addition amount is 0.5 to 5 parts by weight based on the above-mentioned standard. The graft polymerization reaction is usually carried out under cooling or heating, and is generally 0 to 100 ° C, preferably 5 to 80 ° C.
℃ is recommended. Below 0 ℃, the polymerization rate is slow,
This is because if it exceeds the above range, the polymerization initiator is decomposed, the stability of the polymerization system is lowered, and gelation occurs.

こうして得られる反応物中にはグラフト共重合体物の他
に、PVAや重合性単量体同士のホモポリマー等が混在
するが、これらは分離せずにそのままフイルム基材とす
ることができる。
In the reaction product thus obtained, in addition to the graft copolymer product, PVA and homopolymers of polymerizable monomers are mixed, but these can be directly used as the film substrate without separation.

前記VA成分含有重合体の耐湿性、耐薬品性向上のため
添加する架橋剤としては、例えばホルマリン系の架橋
剤、ホルマリン、グリオキザール、パラホルム、アルデ
ヒド、N−メチロール樹脂系の架橋剤としてはジメチロ
ール尿素、ジメロールエチレン尿素、トリメチロールメ
ラミン。水溶性ウレタン系架橋剤としてはプロックイン
シアナートや水溶性のエポキシ樹脂などが挙げられる。
これらの架橋剤の添加量は前記のVA含有重合体1重量
部に対して0.05〜0.5重量部、特に0.1〜0.
3重量部添加するのが好ましい。VA含有重合体1重量
部に対して0.05重量部以下では添加効果が得られ
ず、0.5重量部を越えると溶液がゲル化し易く、均質
の塗膜を得ることができなくなる。
Examples of the crosslinking agent added to improve the moisture resistance and chemical resistance of the VA component-containing polymer include formalin-based crosslinking agents, formalin, glyoxal, paraform, aldehydes, and N-methylol resin-based crosslinking agents. , Dimethylol ethylene urea, trimethylol melamine. Examples of the water-soluble urethane cross-linking agent include block isocyanate and water-soluble epoxy resin.
The addition amount of these cross-linking agents is 0.05 to 0.5 parts by weight, particularly 0.1 to 0.1 parts by weight based on 1 part by weight of the VA-containing polymer.
It is preferable to add 3 parts by weight. If it is less than 0.05 parts by weight with respect to 1 part by weight of the VA-containing polymer, the effect of addition will not be obtained, and if it exceeds 0.5 parts by weight, the solution tends to gel and a uniform coating film cannot be obtained.

以上の他、ハロゲン化ビニリデン成分を60〜90モル
%含有した共重合体が挙げられ、たとえば、塩化ビニリ
デン、臭化ビニリデン、フッ化ビニリデンなどのハロゲ
ン化ビニリデンと酢酸ビニル、アクリロニトリル、エチ
レン塩化ビニル、臭化ビニル、フッ化ビニル、スチレ
ン、ビニルアクリレート等との共重合体が挙げられる。
ハロゲン化ビニリデン成分が60モル%未満では耐透気
性が向上せず、一方90モル%を越えると高温に加熱し
たときに着色したりするので好ましくない。
In addition to the above, a copolymer containing a vinylidene halide component in an amount of 60 to 90 mol% is exemplified, and for example, vinylidene halide such as vinylidene chloride, vinylidene bromide, vinylidene fluoride and vinyl acetate, acrylonitrile, ethylene vinyl chloride, Examples thereof include copolymers with vinyl bromide, vinyl fluoride, styrene, vinyl acrylate and the like.
If the vinylidene halide component is less than 60 mol%, the gas permeation resistance will not be improved, while if it exceeds 90 mol%, it will be colored when heated to a high temperature, which is not preferable.

本発明において、前記高分子樹脂で形成される耐透気層
の厚さは1〜50μ、好ましくは2〜20μである。こ
れは1μ未満では耐透気性向上が不充分であり、50μ
を越えると複合基板を形成する際、カールしたりするの
で好ましくない。
In the present invention, the air permeation resistant layer formed of the polymer resin has a thickness of 1 to 50 µ, preferably 2 to 20 µ. If it is less than 1μ, the improvement of air resistance is insufficient, and 50μ
If it exceeds, curling may occur when the composite substrate is formed, which is not preferable.

次に本発明において、非旋光性フイルムまたはシートと
耐透気層とで複合基板を形成する方法としては、通常、
前記耐透気性高分子樹脂をその溶剤の1種または2種以
上に溶解させて、非旋光性フイルムまたはシート面上に
塗布、乾燥し、熱処理して耐透気層を形成させて複合基
板が得られる。
Next, in the present invention, as a method for forming a composite substrate with a non-optical rotatory film or sheet and an air permeation resistant layer,
The air-permeable polymer resin is dissolved in one or more of its solvents, coated on the non-optical rotation film or sheet surface, dried, and heat-treated to form a gas-proof layer to form a composite substrate. can get.

前記耐透気性高分子樹脂のうち、VA成分含有の線状共
重合体の場合は水とアルコールの混合液、特に水とイソ
プロパノール(混合比1:1)、水とn−ブタノール
(混合比1:1)などの混合液が挙げられる。VA成分
含有のグラフト共重合体の場合はそのまゝ塗布する。一
方ハロゲン化ビニリデン成分含有重合体を用いる場合の
溶剤としてはジメチルホルムアミド、テトラヒドロフラ
ン、シクロヘキサノン、ジメチルアセトアミド、ジオキ
サン、トリクロルエタン、エチレンクロリド、モノクロ
ルベンゼン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
Among the air-permeable polymer resins, in the case of a linear copolymer containing a VA component, a mixed liquid of water and alcohol, particularly water and isopropanol (mixing ratio 1: 1), water and n-butanol (mixing ratio 1 1) and the like. In the case of the graft copolymer containing the VA component, it is applied as it is. On the other hand, when the vinylidene halide component-containing polymer is used, examples of the solvent include dimethylformamide, tetrahydrofuran, cyclohexanone, dimethylacetamide, dioxane, trichloroethane, ethylene chloride, monochlorobenzene, and methyl ethyl ketone.

耐透気性高分子樹脂を前記溶剤に溶解させた溶液を塗布
する方法としては、ロールコーター、グラビヤロールコ
ーター、ロッドコーター、エヤナイフコーター、スプレ
ーコーターなどの通常の方法が採用される。このように
して耐透気性高分子樹脂を塗布し、通常の方法で乾燥し
て溶剤を除去してのち剥離強度(ASTMD1876)50
g以上の密着性を得るためには、熱処理を行うことが必
要である。熱処理条件は被塗布フイルム又はシートや塗
布する耐透気性高分子樹脂により適宜選択して行うこと
ができるが、通常100℃〜250℃、望ましくは120℃〜200
℃、数分〜数十分行うが必要に応じて被塗布フイルムを
コロナ処理してのち塗布・乾燥後熱処理すると密着性が
向上し熱処理効果が顕著となる。特に硬化タイプのフイ
ルムやシートの場合はコロナ処理による密着性効果がよ
い。使用する耐透気性高分子樹脂による通常の熱処理条
件としては、VA成分含有線状共重合体の場合は150〜2
20℃、数分〜数十分、VA成分含有のグラフト共重合体
及びハロゲン化ビニリデン成分含有の樹脂の場合は120
℃〜160℃、数分〜数十分で行うのが好ましい。いずれ
も場合も熱処理条件が不十分な場合は十分は密着性が得
られず、熱処理を可酷に行うと着色を生じて得られた複
合膜の可視光線透過率は60%未満となるので好ましく
ない。
As a method for applying the solution in which the air-permeable polymer resin is dissolved in the solvent, a usual method such as a roll coater, a gravure roll coater, a rod coater, an air knife coater, and a spray coater is adopted. In this way, the air-permeable polymer resin is applied and dried by a usual method to remove the solvent, and then the peel strength (ASTM D1876) 50
It is necessary to perform heat treatment in order to obtain adhesion of g or more. The heat treatment conditions may be appropriately selected depending on the film or sheet to be coated or the air-permeable polymer resin to be coated, but usually 100 ° C to 250 ° C, preferably 120 ° C to 200
It is carried out at a temperature of several minutes to several tens of minutes, but if necessary, the film to be coated is subjected to a corona treatment, and then heat is applied after coating and drying, whereby the adhesion is improved and the heat treatment effect becomes remarkable. Particularly in the case of a hardening type film or sheet, the adhesion effect by corona treatment is good. The normal heat treatment conditions for the air-permeable polymer resin used are 150 to 2 for the linear copolymer containing the VA component.
20 ° C., several minutes to several tens of minutes, 120 in the case of a resin containing a VA component-containing graft copolymer and a vinylidene halide component.
C. to 160.degree. C., preferably several minutes to several tens of minutes. In either case, if the heat treatment conditions are insufficient, sufficient adhesion cannot be obtained, and if the heat treatment is performed severely, coloring occurs and the resulting composite film has a visible light transmittance of less than 60%, which is preferable. Absent.

なお、本発明複合基板の製造法は以上の方法に制限され
るものではなく、耐透気性高分子樹脂膜を形成し、該膜
の少くとも片面に非旋光性フイルムまたはシートを密着
形成して複合基板を得ることができる。たとえばポリエ
ステルのフイルム上にエチレン/ビニルアルコール共重
合体(モル比30/70)の水とイソプロピルアルコー
ル混合溶液を塗布、乾燥して耐透気性膜を形成のち該膜
上にフエノキシ樹脂/トリレンジ・イソシアネトの溶液
を塗布、乾燥してのち熱処理し、上記ポリエステルフイ
ルムを除くことによって複合基板が得られる。
The method for producing the composite substrate of the present invention is not limited to the above-mentioned method, and a gas permeable polymer resin film is formed, and a non-optical rotatory film or sheet is closely formed on at least one surface of the film. A composite substrate can be obtained. For example, a polyester film is coated with a mixed solution of ethylene / vinyl alcohol copolymer (molar ratio 30/70) in water and isopropyl alcohol and dried to form an air-permeable film, and then a phenoxy resin / tolylene diisocyanate is formed on the film. A composite substrate is obtained by applying the solution of (1), drying it, and then heat-treating it to remove the polyester film.

次に本発明液晶表示パネル用電極基板を作製するため、
前記方法で得られた複合基板の片面または両面に透明導
電層を形成して透明導電性を付与する。上記形成方法
は、公知方法及び今後開発される新規方法の如何を問わ
ないが、代表的な方法としては、真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、金属溶射法、金属
メッキ法等が採用される。これらのうち、薄層が形成で
きること、及び均一層が形成できることの2点を満足す
るものとしては、真空蒸着法とスパッタリング法が推奨
される。導電層を形成する為の素材としては、Sn、In、
Ti、Pb等の金属又はそれらの酸化物が汎用され、金属単
体を上記の方法で基板上に形成したときは、希望に応じ
てその後酸化する場合もある。尚当初から酸化物層とし
て付着形成させる方法もあるが、最初は金属単体又は低
級酸化物の形態で被膜を形成し、しかる後加熱酸化、陽
極酸化或は液相酸化等の酸化処理を施して透明化する手
段を採用することもできる。尚上記以外にAu、Pt、Ag等
の貴金属を用いる場合もある。又これら金属或はそれら
の酸化物からなる導電層は透明性や導電性等の要求特性
に応じた層厚とするが、通常は100Å以上、安定な導電
性を与る為には、300Å以上とすることが望まれる。
Next, to prepare an electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention,
A transparent conductive layer is formed on one side or both sides of the composite substrate obtained by the above method to impart transparent conductivity. The forming method may be a known method or a new method to be developed in the future, but as a typical method, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a metal spraying method, a metal plating method or the like is adopted. To be done. Among these, the vacuum deposition method and the sputtering method are recommended for satisfying the two points of forming a thin layer and forming a uniform layer. As the material for forming the conductive layer, Sn, In,
Metals such as Ti and Pb or oxides thereof are generally used, and when a simple substance of metal is formed on the substrate by the above method, it may be oxidized thereafter if desired. There is also a method of depositing and forming as an oxide layer from the beginning, but first, a film is formed in the form of a simple metal or a lower oxide, and then subjected to an oxidation treatment such as heating oxidation, anodic oxidation or liquid phase oxidation. It is also possible to employ a transparent means. In addition to the above, noble metals such as Au, Pt and Ag may be used. Also, the conductive layer made of these metals or their oxides should have a layer thickness according to the required characteristics such as transparency and conductivity, but usually 100 Å or more, 300 Å or more to give stable conductivity. Is desired.

上記導電層は、通常単一層でもよいが、機械的強度や耐
薬品性を考慮して2以上の複数層として形成することも
できる又被膜の均一性や密着性等、更には耐摩耗性等を
向上する目的で、アンダーコートやオーバーコートを施
こす場合もある。前者の例としては、シリコン系やエポ
キシ系の樹脂が利用され、後者の例としてはゼラチン、
シリコン、コロージョン等が利用される。又更に必要で
あればこれらのうえに、更に光電導性物質の層やエレク
トロ・ルミネツセンス材料の層を形成する場合もある。
The above-mentioned conductive layer may be usually a single layer, but it may be formed as a plurality of two or more layers in consideration of mechanical strength and chemical resistance. Further, the uniformity and adhesion of the coating, and further abrasion resistance and the like. An undercoat or overcoat may be applied for the purpose of improving Silicon-based and epoxy-based resins are used as the former example, and gelatin is used as the latter example.
Silicon, corrosion, etc. are used. If necessary, a layer of a photoconductive substance or a layer of an electroluminescence material may be further formed on these.

次に図面を用いて本発明を説明する。Next, the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明電極基板を用いて作製した液晶表示パネ
ルの断面図である。1は液晶、2は透明導電膜、3は非
旋光性フイルム、4は耐透気層、5は偏光板を示し、偏
光板5と耐透気層4との間に粘着層があってもよい。第
2〜5図はそれぞれ本発明液晶表示パネル用電極基板の
種々の実施態様例の断面図である。第2図は耐透気層4
が透明導電膜2側に形成されており、第3図はそれが非
旋光性フイルム3の両面に形成されている。第4図は透
明導電膜2と複合基板(非旋光性フイルム3+耐透気層
4)との間に、接着性を強固にするためシランカップリ
ング剤などのアンカー剤層を有しており、第5図は複合
基板として、他にポリエーテルスルホン、ポリエステ
ル、ポリアリレートなどの耐熱性、耐湿性あるいは脆さ
などをさらに改善するための強化層を形成した例であ
り、強化層の位置は任意である。
FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal display panel manufactured using the electrode substrate of the present invention. Reference numeral 1 is a liquid crystal, 2 is a transparent conductive film, 3 is a non-optical rotatory film, 4 is an air permeation resistant layer, 5 is a polarizing plate, and even if there is an adhesive layer between the polarizing plate 5 and the air permeation resistant layer 4. Good. 2 to 5 are cross-sectional views of various embodiments of the liquid crystal display panel electrode substrate of the present invention. Figure 2 shows the air-permeable layer 4
Is formed on the transparent conductive film 2 side, and in FIG. 3, it is formed on both sides of the non-optical rotatory film 3. FIG. 4 shows that an anchor agent layer such as a silane coupling agent is provided between the transparent conductive film 2 and the composite substrate (non-optically rotatory film 3 + permeation resistant layer 4) to strengthen the adhesiveness. FIG. 5 shows an example in which a reinforcing layer such as polyether sulfone, polyester, or polyarylate is formed as a composite substrate to further improve heat resistance, moisture resistance or brittleness, and the position of the reinforcing layer is arbitrary. Is.

(実施例) 以下実施例を用いて本発明の具体的に説明する。なお、
レターデション値は偏光顕微鏡を備えたセナルモンコン
ベンセーター(日本地科社製)を用い、ナトリウムラン
プを光源とした。
(Examples) The present invention will be specifically described below with reference to examples. In addition,
The retardation value was measured using a Senarmont convensor equipped with a polarizing microscope (manufactured by Japan Chika Co., Ltd.) and a sodium lamp as a light source.

剥離強度はASTM・D1876により、テンシロンUTM
−3L(東洋ボールドウィン社製)を使用、20℃、6
5%RH、サンプル巾25mmでT型剥離強度を測定した。
Peel strength according to ASTM D1876, Tensilon UTM
-3L (manufactured by Toyo Baldwin), 20 ° C, 6
The T-type peel strength was measured at 5% RH and a sample width of 25 mm.

酸素透過率はASTM・D1434・75により産工試式気
体透過率測定装置(理化精機工学製)を使用25℃、0
%RHで測定した。なお、実施例中部とあるのは重量部を
意味する。
Oxygen permeability is measured according to ASTM D1434 / 75, using industrial and industrial trial type gas permeability measuring device (manufactured by Rika Seiki Engineering Co., Ltd.).
It was measured in% RH. In addition, "parts in the examples" means "parts by weight".

実施例1 フエノキシ樹脂(ユニオン・カーバイド社製)40部を
メチルエチルケトン/セルソルブアセテート(65/3
5重量比)60部に加熱溶解したのち、室温に冷却して
コロネートL(多官能イソシアネート、日本ポリウレタ
ン製)40部を加え、撹拌した均一溶液を50μのポリ
エステルフイルム上に流延80℃で10分間乾燥しての
ちポリエステルフイルムから剥離し金枠に固定し160
℃30分間、熱固定して厚さ105μ、レターデーショ
ン値8nm、可視光線透過率良好(400mμ:87
%、500mμ:91%)の非旋光性フイルムを得た。
得られた非旋光性のフイルムの片面に160Vの印加電
圧でコロナ処理を行い、このコロナ面上にアプリケータ
ーを使用し、ドクターナイフを用い、下記の耐透気性の
高分子樹脂溶液をギャップ150μに塗布のち70℃、
10分間乾燥、更に金属製枠に固定して200℃、10
分間熱処理した。得られた複合基板の厚さは120μ
(ガス・バリヤー層の厚さ:約15μ)、可視光線透過
率良好(400mμ:86%、500mμ:90%)、
耐熱性、耐液晶性、耐薬品性も良好であり、レターデー
ション値9nmであった。この複合基板の非旋光性フイ
ルムと耐透気層との剥離強度を測定したところ、全く剥
離せず、凝集破壊を生じた。そして、ガス透過性は2c
c/24h・m・atmで極めて良好であった。耐透
気性高分子樹脂溶液(A液) 得られた複合基板の耐透気層の反対面にテトラオクチル
チタネートの0.08%、n−ヘキサン溶液を塗布し、
100℃、10分間加熱してプライマー処理をし、低温
スパッタリング装置で下記条件で透明導電膜処理した。
導電膜層の厚さは280Å、抵抗値は610Ω/cm
であった。
Example 1 40 parts of phenoxy resin (manufactured by Union Carbide Co.) was mixed with methyl ethyl ketone / cellosolve acetate (65/3).
(5 wt.%), Dissolved in 60 parts by heating, cooled to room temperature, added with 40 parts of Coronate L (polyfunctional isocyanate, made by Nippon Polyurethane), and the stirred homogeneous solution was cast on a polyester film of 50 μm at 80 ° C. for 10 minutes. After drying for a minute, peel it from the polyester film and fix it in a metal frame 160
After heat-setting at 30 ° C. for 30 minutes, the thickness is 105 μ, the retardation value is 8 nm, and the visible light transmittance is good (400 mμ: 87).
%, 500 mμ: 91%) of a non-optical rotatory film was obtained.
One side of the obtained non-optical rotatory film was subjected to corona treatment with an applied voltage of 160 V, an applicator was used on this corona surface, and a gas-permeable polymer resin solution described below was formed into a gap of 150 μ using a doctor knife. After applying 70 ℃,
Dry for 10 minutes, then fix to a metal frame at 200 ° C for 10
Heat treated for minutes. The thickness of the obtained composite substrate is 120μ.
(Gas barrier layer thickness: about 15μ), good visible light transmittance (400mμ: 86%, 500mμ: 90%),
The heat resistance, liquid crystal resistance, and chemical resistance were good, and the retardation value was 9 nm. When the peel strength between the non-optical rotatory film and the air permeation resistant layer of this composite substrate was measured, it was not peeled at all, and cohesive failure occurred. And the gas permeability is 2c
It was extremely good at c / 24 h · m 2 · atm. Air-permeable polymer resin solution (liquid A) A 0.08% solution of tetraoctyl titanate in n-hexane was applied to the surface of the obtained composite substrate opposite to the air-permeable layer,
It was heated at 100 ° C. for 10 minutes to perform a primer treatment, and a transparent conductive film treatment was performed with a low temperature sputtering device under the following conditions.
The thickness of the conductive film layer is 280Å and the resistance value is 610 Ω / cm 2.
Met.

〔透明導電膜処理条件〕[Transparent conductive film processing conditions]

得られた電極基板は可視光線透過率400mμで78
%、500mμで84%と良好で、耐液晶性、耐薬品性
もよく、耐透気性は透明電極処理前と同じ2cc/24
h・m、atmであった。該電極基板を用いて液晶表
示パネルを作製して、信頼性試験を実施したところ、試
験前と同様の良好な表示能力が得られた。
The obtained electrode substrate had a visible light transmittance of 400 mμ and was 78
%, Good at 84% at 500 mμ, good liquid crystal resistance, chemical resistance, and air resistance of 2 cc / 24 before transparent electrode treatment.
It was h · m 2 and atm. When a liquid crystal display panel was produced using the electrode substrate and a reliability test was carried out, the same good display performance as that before the test was obtained.

実施例2 二軸延伸されたポリエステルフイルム上に実施例1と同
じ耐透気性高分子樹脂溶液(A液)を塗布、乾燥し、厚
さ16μのフイルムを得た。次いで、このフイルム上に
実施例1で用いたフエノキシ樹脂の硬化溶液を塗布、乾
燥してのちポリエステルフイルムから剥離し、金属枠に
固定210℃、10分間熱処理した。得られた複合基板
は厚さ106μで、レターデーション値3nmであっ
た。該複合基板の複合面を剥離試験を実施したところ剥
離不能で凝集破壊を生じ密着性良好であった。一方、耐
透気性能は1.5cc/24h・m・atm(25
℃、0%RH)であった。
Example 2 The same air-permeable polymer resin solution (solution A) as in Example 1 was applied onto a biaxially stretched polyester film and dried to obtain a film having a thickness of 16 μm. Then, the curing solution of the phenoxy resin used in Example 1 was applied onto this film, dried, and then peeled from the polyester film and fixed on a metal frame and heat-treated at 210 ° C. for 10 minutes. The obtained composite substrate had a thickness of 106 μ and a retardation value of 3 nm. When a peeling test was performed on the composite surface of the composite substrate, peeling was impossible, cohesive failure occurred, and adhesion was good. On the other hand, the air permeation resistance is 1.5cc / 24h ・ m 2・ atm (25
C, 0% RH).

次いで耐透気層の反対面に、実施例1と同様の条件で、
透明導電膜処理をして電極基板を得た。
Then, on the side opposite to the air-permeable layer, under the same conditions as in Example 1,
A transparent conductive film treatment was performed to obtain an electrode substrate.

実施例3 実施例1で得られた厚さ105μの非旋光性(レターデ
ーション値:8nm)フエノキシ樹脂硬化フイルムの片
面に、下記の耐透気性樹脂溶液(B液)をアプリケータ
ーにて塗布、80℃、15分間乾燥した。この複合フイ
ルムを金属製の枠に固定して、130℃、2時間の熱処
理した。得られた複合基板は厚さ120μ(耐透気層の
厚さ:約15μ)レターデション値8nm、可視光線透
過率良好(400mμ:86%、500mμ:90%)
であった。この複合基板の耐透気層の密着性は350g
/25mm、酸素ガス透過度は2cc/24hr・m
・atmであった。次いで、耐透気層の反対面に、実施
例1と同様な条件で、透明導電膜処理をして電極基板を
得た。耐透気性高分子樹脂溶液(B液) 実施例4 実施例1で用いた厚さ105μの非旋光性フイルムの片
面に160Vの印加電圧でコロナ処理した。一方ポリビ
ニルアルコール(日本合成化学:ゴセノールNH−2
0)100部に硝酸セリウムの存在下、グリシジルメタ
クリレート10部、ブチルアクリレート10部をグラフ
トした共重合体の水溶液(11wt%)100部にスミ
テックスレンジM3(メチロールメラミン縮合物:住友
化学工業)2.5部、及びスミテックスアクセレーター
MX(住友化学工業製)1部を加え撹拌し均一な混合溶
液を調製した。該混合溶液を前記の非旋光性フイルムの
コロナ処理面上に流延80℃5分間乾燥したのち、15
0℃、10分間熱処理して厚さ117μ(ガス、バリヤ
ー層の厚さ:約12μ)、レターデーション値7nm、
可視光線透過率良好(400mμ:82%、500m
μ:86%)の複合基板を得た。該複合基板の耐透気層
と非旋光性フイルムとの剥離強度は342gr/25m
mで酸素ガス透過度2.5cc/24hr・m・at
mであった。次いで、耐透気層の反対面に実施例1と同
様な条件で透明導電膜処理をして電極基板を得た。
Example 3 A non-optical rotatory (retardation value: 8 nm) phenoxy resin cured film having a thickness of 105 μm obtained in Example 1 was coated with an applicator on one side of the following air-permeable resin solution (solution B), C., and dried for 15 minutes. This composite film was fixed on a metal frame and heat-treated at 130 ° C. for 2 hours. The obtained composite substrate had a thickness of 120 μ (permeation-resistant layer thickness: about 15 μ), retardation value of 8 nm, and good visible light transmittance (400 mμ: 86%, 500 mμ: 90%).
Met. The air-permeable layer of this composite substrate has an adhesion of 350 g.
/ 25mm, oxygen gas permeability is 2cc / 24hr · m 2
・ It was atm. Then, a transparent conductive film treatment was performed on the surface opposite to the air permeation resistant layer under the same conditions as in Example 1 to obtain an electrode substrate. Air-permeable polymer resin solution (B liquid) Example 4 The non-optical rotatory film having a thickness of 105 μm used in Example 1 was corona-treated on one side with an applied voltage of 160V. On the other hand, polyvinyl alcohol (Nippon Gosei Kagaku: Gosenol NH-2
0) 100 parts of an aqueous solution of a copolymer obtained by grafting 10 parts of glycidyl methacrylate and 10 parts of butyl acrylate in the presence of cerium nitrate (11 wt%) Sumitex Range M3 (methylol melamine condensate: Sumitomo Chemical Co., Ltd.) 2 0.5 parts and 1 part of Sumitex Accelerator MX (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) were added and stirred to prepare a uniform mixed solution. The mixed solution was cast on the corona-treated surface of the non-optical rotation film and dried at 80 ° C. for 5 minutes.
After heat treatment at 0 ° C. for 10 minutes, the thickness is 117 μ (thickness of gas and barrier layer: about 12 μ), retardation value is 7 nm,
Good visible light transmittance (400mμ: 82%, 500m
A composite substrate of μ: 86%) was obtained. The peel strength between the air-permeable layer and the non-optical rotatory film of the composite substrate was 342 gr / 25 m.
Oxygen gas permeability of 2.5 cc / 24 hr · m 2 · at
It was m. Then, a transparent conductive film treatment was performed on the surface opposite to the air permeation resistant layer under the same conditions as in Example 1 to obtain an electrode substrate.

比較例 実施例1で用いたフエノキシ樹脂硬化膜用の溶液を実施
例1と同様の条件で、ポリエステルフイルム上に流延
し、80℃、10分間、更に100℃5分間乾燥してポ
リエステルフイルムから剥離した。このフイルムを実施
例1と同様に金属製の枠に固定して160℃、30分間
熱処理して厚さ125μ、レターデション値9nm可視
光線透過率(400mμ:86%、500mμ:90
%)良好の非旋光性フイルムを得た。このフイルムの酸
素ガス透過性は45cc/24h・m・atmであっ
た。次いで該非旋光性フイルムの片面に実施例1と同様
の処理条件で透明導電膜を形成した。導電層の膜厚36
0Å抵抗値500Ω/cm、可視光線透過率400mμ
で79%、500mμで85%、耐液晶性、耐薬品性、
耐熱性など良好な電極基板を得たが、該基板の酸素ガス
透過性はやはり45cc/24h・m・atmであっ
た。
Comparative Example The solution for a cured phenoxy resin film used in Example 1 was cast on a polyester film under the same conditions as in Example 1 and dried at 80 ° C. for 10 minutes, and then at 100 ° C. for 5 minutes to remove the polyester film from the polyester film. Peeled off. This film was fixed to a metal frame in the same manner as in Example 1 and heat-treated at 160 ° C. for 30 minutes to have a thickness of 125 μ and a retardation value of 9 nm visible light transmittance (400 mμ: 86%, 500 mμ: 90).
%) A good non-optical rotatory film was obtained. The oxygen gas permeability of this film was 45 cc / 24 h · m 2 · atm. Then, a transparent conductive film was formed on one surface of the non-optical rotatory film under the same processing conditions as in Example 1. Conductive layer thickness 36
0Å resistance value 500Ω / cm 2 , visible light transmittance 400mμ
79%, 85% at 500 mμ, liquid crystal resistance, chemical resistance,
Although an electrode substrate having good heat resistance was obtained, the oxygen gas permeability of the substrate was still 45 cc / 24 h · m 2 · atm.

次に該電極基板を用いて実施例1と同様に液晶表示パネ
ルを作製し、該パネルを−20〜100℃のサイクル試
験を実施したところ、空気透過による黒点が表示部に発
生し試験前に比べ表示能力が低下し、該電極基板の耐透
気性が不十分であることが判った。
Next, a liquid crystal display panel was produced using the electrode substrate in the same manner as in Example 1, and the panel was subjected to a cycle test at −20 to 100 ° C., whereupon black spots due to air permeation occurred in the display part and before the test. It was found that the display ability was lower than that of the conventional one, and the air permeation resistance of the electrode substrate was insufficient.

(発明の効果) 以上、かかる構成よりなる本発明液晶表示パネル用電極
基板は、 (1) 光学的に可視光領域で透明。
(Effects of the Invention) As described above, the electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention having such a configuration is (1) optically transparent in the visible light region.

(2) 光学的に等方性で、着色干渉稿が発生しない。(2) It is optically isotropic and does not cause coloring interference.

(3) 表面が平滑で硬い。(3) The surface is smooth and hard.

(4) 液晶組立などの製造工程に耐える耐薬品性、耐熱
性(100℃以上)があること。
(4) Chemical resistance and heat resistance (100 ° C or higher) that can withstand manufacturing processes such as liquid crystal assembly.

(5) シール材との密着力が良く、長期に亘って気密性
があること。
(5) Adhesion with the sealing material is good and it is airtight for a long period of time.

(6) 耐透湿性があること。(6) Must be moisture permeable.

(7) 耐透気性があること。(7) Must have air resistance.

(8) 耐液晶性があり、長期に亘って安定なこと。など
の特長を有しているため、本発明基板を用いた液晶表示
パネルは、屋内外の苛酷な条件や長期間の使用に耐える
ことができ、特に耐透気性に優れているため、空気の混
入による黒点の発生がなく、そのことによって始めて、
プラスチック基板を用いた液晶表示パネルとして市場に
供し得ることができたのである。
(8) It has liquid crystal resistance and is stable over a long period of time. Since the liquid crystal display panel using the substrate of the present invention can withstand harsh indoor and outdoor conditions and long-term use because it has features such as There are no black spots due to mixing, so for the first time,
It could be put on the market as a liquid crystal display panel using a plastic substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明電極基板を用いて作製した液晶表示パネ
ルの断面図、第2〜5図は本発明電極基板の種々の実施
態様例の断面図である。 1:液晶 2:透明導電膜 3:非旋光性フイルム 4:耐透気層 5:偏光板 6:アンカー剤層 7:強化層
FIG. 1 is a sectional view of a liquid crystal display panel manufactured by using the electrode substrate of the present invention, and FIGS. 2 to 5 are sectional views of various embodiments of the electrode substrate of the present invention. 1: Liquid crystal 2: Transparent conductive film 3: Non-optical rotatory film 4: Air permeation resistant layer 5: Polarizing plate 6: Anchor layer 7: Strengthening layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−17135(JP,A) 特開 昭58−160924(JP,A) 特開 昭58−68721(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) References JP-A-55-17135 (JP, A) JP-A-58-160924 (JP, A) JP-A-58-68721 (JP, A)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】レターデーション値が100mμ以下の非
旋光性フイルムまたはシートの片面または両面に高分子
樹脂層を塗布または積層した可視光線透過率60%以上
の複合基板の少なくとも片面に透明電極を設けてなる液
晶表示パネル用電極基板であって、前記高分子樹脂層
が、ビニルアルコール成分含有線状重合体、ビニルアル
コール成分含有グラフト共重合体およびハロゲン化ビニ
リデン成分60〜90モル%含有した共重合体より選ば
れた一種または二種以上であり、かつ酸素透過率30cc
/24h・m2・atm以下、かつ非旋光性フイルムまたは
シートとの剥離強度が50g/25mm以上であることを
特徴とする液晶表示パネル用電極基板。
1. A transparent electrode is provided on at least one surface of a composite substrate having a visible light transmittance of 60% or more obtained by coating or laminating a polymer resin layer on one or both surfaces of a non-optically rotating film or sheet having a retardation value of 100 mμ or less. An electrode substrate for a liquid crystal display panel, wherein the polymer resin layer contains a vinyl alcohol component-containing linear polymer, a vinyl alcohol component-containing graft copolymer, and a vinylidene halide component of 60 to 90 mol%. One or more selected from coalesce and oxygen permeability of 30cc
/ 24 h · m 2 · atm or less and peel strength from a non-optically rotating film or sheet is 50 g / 25 mm or more, an electrode substrate for a liquid crystal display panel.
【請求項2】非旋光性フイルムまたはシートあるいは高
分子樹脂層と透明電極との間にアンカー剤が存在してい
る特許請求の範囲第(1)項記載の液晶表示パネル用電極
基板。
2. The electrode substrate for a liquid crystal display panel according to claim 1, wherein an anchor agent is present between the non-optical rotatory film or sheet or the polymer resin layer and the transparent electrode.
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