JPH0268519A - Reactive air permeation resistant polymer for production of electrode substrate for liquid crystal display panel and electrode substrate for liquid crystal display panel using the same - Google Patents

Reactive air permeation resistant polymer for production of electrode substrate for liquid crystal display panel and electrode substrate for liquid crystal display panel using the same

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JPH0268519A
JPH0268519A JP22064388A JP22064388A JPH0268519A JP H0268519 A JPH0268519 A JP H0268519A JP 22064388 A JP22064388 A JP 22064388A JP 22064388 A JP22064388 A JP 22064388A JP H0268519 A JPH0268519 A JP H0268519A
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air
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Abstract

PURPOSE:To maintain stable performance over a long period of time even under severe use conditions by using the reactive air permeation resistant polymer formed by polymerizing a monomer mixture consisting of a specific ethylenic unsatd. amide monomer and a vinyl polymerizable monomer in the copresence of a vinyl alcohol polymer as a substrate material. CONSTITUTION:The monomer mixture (M) consisting of the ethylenic unsatd. amide monomer (Ma) expressed by formula I and the vinyl polymerizable monomer (Mb) having a carboxyl group in the molecule is polymerized in the copresence of the vinyl alcohol polymer (V) to obtain the reactive air permeation resistant polymer. In formula I, R<1>, R<2> are H or lower alkyl group; R<3> is 1 to 4C alkylene group. The molar ratio of (Ma)/(Mb) or this reactive air permeation resistant polymer (Ma)/(Mb) is 0.05 to 5.0 and the weight ratio of (M)/(V) is 0.02 to 0.5. The layer 2 consisting of such reactive air permeation resistant polymer is provided on one or both surfaces of a base material layer consisting of a non-optically active transparent film or sheet having <=80nm retardation value, by which the electrode substrate is formed.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、液晶表示パネル用電極基板製造用に適した反
応性耐透気性ポリマーおよびそれを用いた液晶表示パネ
ル用電極基板に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention relates to a reactive air permeation-resistant polymer suitable for manufacturing an electrode substrate for a liquid crystal display panel and an electrode substrate for a liquid crystal display panel using the same.

従来の技術 近年液晶表示パネルについては、■薄膜化、■軽量化、
■大型化、■任意の形状化、■曲面化、■低コスト化な
どの要求があり、これに応えるものとしてプラスチック
ス基板を用いた液晶表示パネルが検討され、実用化され
はじめた。
Conventional technology In recent years, liquid crystal display panels have become thinner, lighter, and lighter.
There are demands for ■larger size, ■arbitrary shapes, ■curved surfaces, and ■lower costs.As a response to these demands, liquid crystal display panels using plastic substrates have been studied and put into practical use.

本発明者らのうちの1人も、この目的のプラスチク6ク
ス基板につき、下記に列挙するような特許出願にかかる
発明をしている。
One of the present inventors has also made inventions related to plastic 6x substrates for this purpose, which are listed in the following patent applications.

すなわち、フェノキシエーテル型架橋重合体から形成さ
れた非旋光性フィルムに透明導電層を設けた透明導電膜
(特公昭61−27841号公報)、スチレン誘導体成
分を含む共重合体またはアクリロニトリル成分を含む誘
導体から形成された非旋光性フィルムに透明導電層を設
けた透明導電膜(特開昭56−146750号公報)、
レターデーション値30nm以下の非晶質合成樹脂フィ
ルムに硬化性樹脂または単量体を塗布したのち硬化させ
て得られる複合膜に透明導電層を形成させた液晶表示用
導電膜(特開昭57−11319号公報)、フェノキシ
エーテル型重合体を用いた着色非旋光性フィルムに透明
導電層を形成した着色導電膜(特開昭60−35409
号公報)、エポキシ化合物とカルボキシル基含有光重合
性化合物とを含む硬化型樹脂組成物を成形した非旋光性
フィルム(特開昭60−158420号公報)、プラズ
マ処理した高分子フィルムに透明導電層を形成した透明
導電膜(特開昭60−230307号公報)、フェノキ
シエーテル型架橋重合体から形成された非旋光性フィル
ムに硬化性高分子被膜を形成し、さらにその上に透明導
電層を設けた透明導電膜(特開昭60−232612号
公報)、レターデーション値1100n以下の非旋光性
フィルムに耐透気性を有する高分子樹脂層を設け、さら
に透明電極を設けた液晶表示パネル用電極基板(特開昭
61−41122号公報)、レターデーション値30n
m以下の非旋光性フィルムの水性のアンカーコーティン
グ層を形成した後、その上に耐透気性樹脂または/およ
び架橋性樹脂硬化物からなる保護層を設けた複合基板に
透明電極を設けた液晶表示パネル用電極基板(特開昭6
3−71829号公報)などである、特に最後の2件、
つまり特開昭61−41122号公報と特開昭63−7
1829号公報に記載の発明が重要である。
In other words, a transparent conductive film in which a transparent conductive layer is provided on a non-optically active film formed from a phenoxy ether crosslinked polymer (Japanese Patent Publication No. 61-27841), a copolymer containing a styrene derivative component, or a derivative containing an acrylonitrile component. A transparent conductive film in which a transparent conductive layer is provided on a non-optically active film formed from
A conductive film for liquid crystal displays in which a transparent conductive layer is formed on a composite film obtained by coating an amorphous synthetic resin film with a retardation value of 30 nm or less with a curable resin or a monomer and then curing the film (Japanese Patent Laid-Open No. 1983-1999) 11319), a colored conductive film in which a transparent conductive layer is formed on a colored non-optically active film using a phenoxy ether type polymer (JP-A-60-35409)
(Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-158420), a non-optically active film formed from a curable resin composition containing an epoxy compound and a carboxyl group-containing photopolymerizable compound (Japanese Patent Application Laid-open No. 158420/1983), a transparent conductive layer on a plasma-treated polymer film. A curable polymer film is formed on a non-optically active film formed from a phenoxy ether type crosslinked polymer (Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-230307), and a transparent conductive layer is further provided on the non-optically active film. transparent conductive film (Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-232612), an electrode substrate for a liquid crystal display panel in which a non-optically active film with a retardation value of 1100 n or less is provided with a polymer resin layer having air permeability, and a transparent electrode is further provided. (Unexamined Japanese Patent Publication No. 61-41122), retardation value 30n
A liquid crystal display in which a transparent electrode is provided on a composite substrate on which an aqueous anchor coating layer of a non-optically active film with a diameter of less than m is formed, and then a protective layer made of an air-permeable resin or/and a cured cross-linked resin is provided thereon. Electrode substrate for panels (Unexamined Japanese Patent Publication No. 6
3-71829), especially the last two cases,
In other words, JP-A-61-41122 and JP-A-63-7
The invention described in Publication No. 1829 is important.

発明が解決しようとする課題 液晶表示パネル用のプラスチック基板としては、一般に
次のような特性が要求される。
Problems to be Solved by the Invention Plastic substrates for liquid crystal display panels are generally required to have the following characteristics.

(1)光学的に可視光線領域で透明であること。(1) Be optically transparent in the visible light range.

(2)光学的に等方性で、着色干渉縞が発生しないこと
(2) It should be optically isotropic and should not produce colored interference fringes.

(3)表面が平滑で硬いこと。(3) The surface is smooth and hard.

(4)液晶組立などの製造工程に耐える耐薬品性および
100℃以上の耐熱性があること。
(4) It must have chemical resistance that can withstand manufacturing processes such as liquid crystal assembly, and heat resistance of 100°C or higher.

(5)シール材との密着力が良く、長期にわたって気密
性があること。
(5) Good adhesion with the sealing material and long-term airtightness.

(6)耐透湿性があること。(6) Must be moisture permeable.

(7)耐透気性があること。(7) Must be air permeable.

(8)耐液晶性があり、長期にわたって安定であること
(8) It should have liquid crystal resistance and be stable over a long period of time.

特に長期にわたる信頼性が要求される場合や自動車用な
ど過酷な条件下で使用される場合には、耐透気性がすぐ
れているだけでなく、その湿度依存性が小さいこと(高
湿下においても耐透気性が低下しないこと)が要求され
、かつ、居間密着性、耐液晶性および耐熱性が一段とす
ぐれていることが要求される。これらの要求を全て満足
しないと、気泡が混入して標示部に黒点を生じたり、長
期にわたり安定した性能が得られないなどの問題が発生
する。
Especially when long-term reliability is required or when used under harsh conditions such as in automobiles, it is important to not only have excellent air permeability but also to have low humidity dependence (even under high humidity). It is required that there is no decrease in air permeability), and further excellent adhesion to living rooms, liquid crystal resistance, and heat resistance is required. If all of these requirements are not met, problems will occur, such as air bubbles being mixed in and causing black spots on the marking section, and stable performance not being achieved over a long period of time.

しかしながら、従来の液晶表示パネル用のプラスチック
基板は、必ずしもこのような厳しい要求を満たすもので
はなかった。
However, conventional plastic substrates for liquid crystal display panels do not necessarily meet such strict requirements.

本発明者らは、特開昭61−41122号公報および特
開昭63−71829号公報に記載の発明をさらに改良
することを試みる中で、耐透気性層として特定の反応性
耐透気性ポリマーの層を用いることにより、上記要求に
充分に応えうる電極基板を見出すに至った。
In an attempt to further improve the invention described in JP-A-61-41122 and JP-A-63-71829, the present inventors discovered a specific reactive air-permeable polymer as an air-permeable layer. By using this layer, we have found an electrode substrate that can fully meet the above requirements.

課題を解決するための手段 本発明の液晶表示パネル用電極基板製造用の反応性耐透
気性ポリマーは、ビニルアルコール系重合体(V)の共
存下に、式 (式中、Hl  、 R7−はHまたは低級アルキル基
、R3は炭素数1〜4のフルキレン基)で示されるエチ
レン性不飽和アミド系モノマー(Ha)と分子内にカル
ボキシル基を有するビニル重合性モノマー(Mb)から
なるモノマー混合物(M)を重合して得られるものであ
る。
Means for Solving the Problems The reactive air permeability resistant polymer for producing an electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention has the following formula (where Hl, R7- is A monomer mixture consisting of an ethylenically unsaturated amide monomer (Ha) represented by H or a lower alkyl group, R3 is a fullkylene group having 1 to 4 carbon atoms) and a vinyl polymerizable monomer (Mb) having a carboxyl group in the molecule. It is obtained by polymerizing M).

また、本発明の液晶表示パネル用電極基板は。Further, the electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention is as follows.

レターデーション値80n璽以下の非旋光性透明フィル
ムまたはシートよりなる基材層(1)の片面または両面
に耐透気性層(2)を設けた積層構成を有し、該積層物
の耐透気性層(2)側の面に透明電極を設けることによ
り液晶表示パネル用の基板となすための電極基板におい
て、前記耐透気性層(2)が、上記の反応性耐透気性ポ
リマー(P)の層からなることを特徴とするものである
It has a laminated structure in which an air permeation resistant layer (2) is provided on one or both sides of a base layer (1) made of a non-optically active transparent film or sheet with a retardation value of 80 nm or less, and the air permeation resistance of the laminate is In an electrode substrate for forming a substrate for a liquid crystal display panel by providing a transparent electrode on the layer (2) side surface, the air permeation resistant layer (2) is made of the above reactive air permeation resistant polymer (P). It is characterized by being composed of layers.

さらにまた、本発明の液晶表示パネル用電極基板は、レ
ターデーション値80nm以下の非旋光性透明フィルム
またはシートよりなる基材層(1)の片面または両面に
耐透気性層(2)を設け、さらに該耐透気性層(2)の
うちの少なくとも一方の層上に架橋性樹脂硬化物(C)
よりなる保護層(3)を設けた積層構成を有し、該積層
物の保護層(3)側の面または耐透気性層(2)側の面
に透明電極を設けることにより液晶表示パネル用の基板
となすための電極基板において、前記耐透気性層(2)
が、上記の反応性耐透気性ポリマー(P)の層からなる
ことを特徴とするものである。
Furthermore, the electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention is provided with an air permeable layer (2) on one or both sides of the base layer (1) made of a non-optically active transparent film or sheet with a retardation value of 80 nm or less, Furthermore, a crosslinkable resin cured product (C) is applied on at least one of the air permeable layers (2).
It has a laminated structure in which a protective layer (3) is provided, and a transparent electrode is provided on the surface of the laminate on the protective layer (3) side or on the surface of the air-permeable layer (2) side. In the electrode substrate for use as a substrate, the air permeability layer (2)
is characterized by comprising a layer of the above-mentioned reactive air-permeable polymer (P).

以下本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

基   IQ− 基材層(1)は、レターデーション値80n−以下、殊
に30nm以下の非旋光性透明フィルムまたはシートで
構成される。
The base layer (1) is composed of a non-optically active transparent film or sheet having a retardation value of 80 nm or less, particularly 30 nm or less.

ここでレターデーション値(R)とは、次式のように、
フィルムの厚さdと、該フィルムに対して垂直方向の2
つの屈折率の差の絶対値との積で表わされる値である。
Here, the retardation value (R) is as shown in the following formula,
The thickness d of the film and 2 in the direction perpendicular to the film
This is the value expressed as the product of the absolute value of the difference between the two refractive indices.

R=d * l n’  −n” 1 (ただし、nl は任意方向の屈折率、R2−はn1方
向と直交する屈折率) し、タープ−ジョン値が80nmを越えると、パネルと
しての適正視角が狭くなると共に、干渉縞が発生し、液
晶表示装置に応用した場合、その判読性が低下する。
R=d*ln'-n" 1 (where nl is the refractive index in any direction, R2- is the refractive index perpendicular to the n1 direction), and if the turbulence value exceeds 80 nm, the appropriate viewing angle for the panel is As the width becomes narrower, interference fringes occur, and when applied to a liquid crystal display device, the readability deteriorates.

このような条件を満足するフィルムまたはシートの素材
となるべき樹脂は非品性のものであって、結晶性がある
と部分的に結晶化して透明性が悪くなり、また光学異方
性を生じてレターデーション値が高くなるという問題に
遭遇する。
The resin that should be used as the material for the film or sheet that satisfies these conditions is of inferior quality, and if it has crystallinity, it will partially crystallize, resulting in poor transparency and optical anisotropy. The problem is that the retardation value becomes high.

基材層(1)の具体例としては、ポリカーボネート系樹
脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂
、ポリアリーレンエステル系樹脂、ポリパラバン酸系樹
脂、ポリイミド系樹脂などの樹脂から形成された層があ
げられる。
Specific examples of the base layer (1) include layers formed from resins such as polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polysulfone resin, polyarylene ester resin, polyparabanic acid resin, and polyimide resin. It will be done.

耐」ピ」社」[工U 耐透気性層(2)は、ビニルアルコール系重合体(V)
の共存下に1式 (式中、R、RはHまたは低級アルキル基。
The air permeable layer (2) is made of vinyl alcohol polymer (V).
in the coexistence of 1 formula (wherein R and R are H or a lower alkyl group.

Rは炭素数1〜4のフルキレン基)で示されるエチレン
性不飽和アミド系モノマー(Ma)ト分子内にカルボキ
シル基を有するビニル重合性モノマ−(Mb)とからな
るモノマー混合物CM)を重合して得られる反応性耐透
気性ポリマー(P)の層で構成される。
A monomer mixture CM) consisting of an ethylenically unsaturated amide monomer (Ma) represented by R is a fullkylene group having 1 to 4 carbon atoms and a vinyl polymerizable monomer (Mb) having a carboxyl group in the molecule is polymerized. It consists of a layer of reactive air permeability polymer (P) obtained by

ここでビニルアルコール系重合体(V)としては、■各
種重合度、ケン化度のポリビニルアルコール、■α−オ
レフィン、エチレン性不飽和カルボン酸またはそのエス
テル、アクリロニトリル、メタクリ口こトリル、アクリ
ルアミド、メタクリルアミドをはじめ酢酸ビニルと共重
合可能な任意のコモノマーで変性した共重合変性ポリビ
ニルアルコール、■これらのポリビニルアルコールまた
は共重合変性ポリビニルアルコールの後変性物(たとえ
ばアセタール化やウレタン化物)、などがあげられる。
Here, as the vinyl alcohol polymer (V), ■ polyvinyl alcohol with various degrees of polymerization and saponification, ■ α-olefin, ethylenically unsaturated carboxylic acid or its ester, acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamide, methacryl Copolymerized modified polyvinyl alcohols modified with any comonomer that can be copolymerized with vinyl acetate, including amides, ■ Post-modified products of these polyvinyl alcohols or copolymerized modified polyvinyl alcohols (e.g., acetalized or urethanized products), etc. .

これらの中では、エチレン含量20〜60モル%のエチ
レン−酢酸ビニル共重合体の酢酸ビニル単位を70モル
%以上、さらには90モル%以上ケン化して得られるエ
チレン−ビニルアルコール共重合体が、耐水性および耐
透気性の双方の性質がすぐれているので特に有用であり
、またポリビニルアルコールも実用上有用である。
Among these, ethylene-vinyl alcohol copolymers obtained by saponifying the vinyl acetate units of ethylene-vinyl acetate copolymers with an ethylene content of 20 to 60 mol% are 70 mol% or more, and even 90 mol% or more. It is particularly useful because it has excellent properties in terms of both water resistance and air permeability, and polyvinyl alcohol is also practically useful.

式(i)で示されるエチレン性不飽和アミド系モノマー
(Ma)としては、N−ヒドロキシメチル(メタ)アク
リルアミド、N−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルア
ミド、N−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド
、N−メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−エ
トキシメチル(メタ)アクリルアミド、N−プロポキシ
エチル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシメチル(
メタ)アクリルアミド、N−メトキシエチル(メタ)ア
クリルアミド、N−エトキシエチル(メタ)アクリルア
ミド、N−プロポキシエチル(メタ)アクリルアミド、
N−ブトキシエチル(メタ)アクリルアミド、N−メト
キシプロピル(メタ)アクリルアミド、N−エトキシプ
ロピル(メタ)アクリルアミド、N−プロポキシプロピ
ル(メタ)アクリルアミド、N−ブトキシプロピル(メ
タ)アクリルアミドなどがあげられる。
As the ethylenically unsaturated amide monomer (Ma) represented by formula (i), N-hydroxymethyl (meth)acrylamide, N-hydroxyethyl (meth)acrylamide, N-hydroxypropyl (meth)acrylamide, N-methoxy Methyl (meth)acrylamide, N-ethoxymethyl (meth)acrylamide, N-propoxyethyl (meth)acrylamide, N-butoxymethyl (
meth)acrylamide, N-methoxyethyl (meth)acrylamide, N-ethoxyethyl (meth)acrylamide, N-propoxyethyl (meth)acrylamide,
Examples include N-butoxyethyl (meth)acrylamide, N-methoxypropyl (meth)acrylamide, N-ethoxypropyl (meth)acrylamide, N-propoxypropyl (meth)acrylamide, and N-butoxypropyl (meth)acrylamide.

分子内にカルボキシル基を有するビニル重合性モノマー
(Mb)としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロト
ン酸などのエチレン性不飽和モノカルボン酸;マレイン
酸、フマール酸、イタコン酸などのエチレン性不飽和ジ
カルボン酸、これらのモノアルキルエステル、これらの
g水物(フマール酸は無水物を作らないので除く);式
0式% で示される不飽和トリカルボン酸;などがあげられる。
Examples of the vinyl polymerizable monomer (Mb) having a carboxyl group in the molecule include ethylenically unsaturated monocarboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, and crotonic acid; ethylenically unsaturated dicarboxylic acids such as maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid. Acids, monoalkyl esters thereof, g-hydrates thereof (fumaric acid is excluded because it does not form anhydrides); unsaturated tricarboxylic acids represented by the formula 0; and the like.

反応性耐透気性ポリマー(P)は、典型的には、ビニル
アルコール系重合体(V)を水または/および低級アル
コールなどの溶媒(たとえば、水、水/n−プロパツー
ル、水/イソプロパツール混合溶媒等)中に溶解し、該
溶液中において重合触媒(レドックス重合触媒、過酸化
物触媒等)の存在下にエチレン性不飽和アミド系モノマ
ー(Ma)とカルボキシJjkz基含有ビニル重合性七
ツマ−(Mb)とからなるモノマー混合物(M)を重合
させることにより得られる。このような重合により、少
なくとも部分的にグラフト重合が起こるものと考えられ
る。
The reactive air-permeable polymer (P) is typically prepared by combining the vinyl alcohol-based polymer (V) with water or/and a solvent such as a lower alcohol (e.g., water, water/n-propanol, water/isopropanol). In the solution, an ethylenically unsaturated amide monomer (Ma) and a carboxy Jjkz group-containing vinyl polymerizable 7 It can be obtained by polymerizing a monomer mixture (M) consisting of Mb and Mb. It is believed that graft polymerization occurs at least partially through such polymerization.

この場合、(Ma) / (Mb)のモル比は0.05
〜5.0の範囲内とすることが好ましく、この範囲から
はずれると重合により得られる反応性耐透気性ポリマー
(P)の架橋点が不足するため、湿度が高くなると耐透
気性が低下したり、密着性に悪影響を及ぼすおそれがあ
る。
In this case, the molar ratio of (Ma)/(Mb) is 0.05
It is preferable to set it within the range of ~5.0; if it deviates from this range, the reactive air permeability resistant polymer (P) obtained by polymerization will lack crosslinking points, so when the humidity increases, the air permeability may decrease. , which may adversely affect adhesion.

また、(M)/ (V)(7)重量比は0.02〜0.
5 (7)範囲内とすることが好ましく、その比が余り
に小さいと重合により得られる反応性耐透気性ポリマー
(P)の架橋点が不足し、一方余りに大きいとその耐透
気性が損なわれるようになる。
In addition, the (M)/(V)(7) weight ratio is 0.02 to 0.
5 (7) It is preferable that the ratio be within the range; if the ratio is too small, the reactive air permeability resistant polymer (P) obtained by polymerization will lack crosslinking points, while if it is too large, its air permeability will be impaired. become.

そして、このようにして得られる反応性耐透気性ポリマ
ー(P)よりなる耐透気性層(2)の酸素透過率(AS
TM D−1434−75に準じて測定)が30cc/
 24hr * rn” * atm以下、好ましくは
20cc/24hr@ゴ・atm以下となるように、重
合原料の種類あるいは仕込み比を設定する。酸素透過率
が30cc/ 24hr * m″eat11を越える
と、温度変化の厳しい過酷な条件や長期間の使用により
表示部に黒点が生ずるおそれがある。
The oxygen permeability (AS) of the air permeable layer (2) made of the reactive air permeable polymer (P) thus obtained is
Measured according to TM D-1434-75) is 30cc/
The type of polymerization raw material or the charging ratio is set so that it is less than 24hr * rn" * atm, preferably less than 20cc/24hr@go・atm. If the oxygen permeability exceeds 30cc/24hr * m"eat11, the temperature There is a risk that black spots may appear on the display due to harsh conditions that are subject to severe changes or long-term use.

保1すiユ」つ− 保護層(3)は架橋性樹脂硬化物(C)で構成される。Ho 1 Suiyu” Tsu- The protective layer (3) is composed of a cured crosslinkable resin (C).

この保護層(3)は、必要に応じて設ける任意層である
This protective layer (3) is an optional layer provided as necessary.

架橋性樹脂硬化物(C)としては、フェノキシエーテル
型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、メラミン
樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂などの硬化物があ
げられる。
Examples of the crosslinkable resin cured product (C) include cured products of phenoxy ether type crosslinkable resins, epoxy resins, acrylic resins, melamine resins, phenol resins, urethane resins, and the like.

架橋性樹脂の中で特に好ましい樹脂は、フェノキシエー
テル型重合体である。この重合体の水酸基の水素部分に
架橋剤である多官能性化合物を架橋反応させると、フェ
ノキシエーテル型架橋重合体が得られる。架橋重合体を
得るために反応させる架橋剤(多官能性化合物)として
は、水酸基との反、応活性が高い基、たとえば、インシ
アネート基、カルボキシル基、カルボキシル基における
反応性誘導基(たとえばハライド、活性アミド、活性エ
ステル、酸無水物基等)、メルカプト基等を同一または
異゛なって2以上有する化合物などがあげられる。
A particularly preferred resin among the crosslinkable resins is a phenoxy ether type polymer. A phenoxy ether type crosslinked polymer is obtained by subjecting the hydrogen moieties of the hydroxyl groups of this polymer to a crosslinking reaction with a polyfunctional compound as a crosslinking agent. The cross-linking agent (polyfunctional compound) to be reacted to obtain a cross-linked polymer is a group having a high reaction activity with a hydroxyl group, such as an incyanate group, a carboxyl group, or a reactive derivative group in a carboxyl group (such as a halide). , active amide, active ester, acid anhydride group, etc.), mercapto groups, etc., and compounds having two or more of the same or different mercapto groups.

他の好ましい架橋性樹脂はアクリル樹脂である。該樹脂
としては、分子中に少なくとも3個以上のアクリロイル
オキシ基または/およびメタアクリロイルオキシ基を含
有する化合物を主成分とする多官能不飽和単量体または
/およびその初期ラジカル反応物を主成分とする組成物
をあげることができる。
Other preferred crosslinkable resins are acrylic resins. The resin is mainly composed of a polyfunctional unsaturated monomer containing a compound containing at least three or more acryloyloxy groups or/and methacryloyloxy groups in the molecule or/and its initial radical reactant. Examples include compositions that have the following properties.

アンカーコー−ング  4 基材層(1)と耐透気性層(2)との間、あるいは耐透
気性層(2)と保護層(3)との間には、必要に応じア
ンカーコーティング層(4)を介在させることができる
Anchor coating 4 Anchor coating layer ( 4) can be interposed.

アンカーコーティング層(4)としては、ウレタン系、
エポキシ系、ポリエステル系、アクリル系など通常の有
機溶剤タイプのものも用いることができるが、特に基材
層(1)と耐透気性層(2)との間にアンカーコーティ
ング層(4)を介在させるときは、核層(4)を、水ま
たは水とアルコールとからなる水性媒体に溶解または分
散したアンカー剤を用いて形成することが望ましい。
The anchor coating layer (4) is urethane-based,
Ordinary organic solvent types such as epoxy, polyester, and acrylic can also be used, but in particular, an anchor coating layer (4) is interposed between the base layer (1) and the air permeability layer (2). In this case, it is desirable to form the core layer (4) using an anchoring agent dissolved or dispersed in water or an aqueous medium consisting of water and alcohol.

このような水性系のアンカー剤の中では、エステル結合
、アミド結合、ウレタン結合およびエーテル結合よりな
る群から選ばれた少なくとも1種の結合基により高分子
化した高分子であって、自身を水性媒体中に溶解または
分散させるに足る量の親木基を分子内に有するポリマー
を主剤とするものが最適であり、そのような親木基の例
としては、スルホン酸金属塩基、カルボキシル基、第1
級アミン基、第2級アミン基、第3級アミン基、第4級
アンモニウム塩基などがあげられる。アンカー剤には、
主剤、水またはこれと水溶性有機溶剤のほか、界面活性
剤、塩基性中和剤等を含有させることができる。
Among such aqueous-based anchoring agents, polymers are polymerized with at least one type of bonding group selected from the group consisting of ester bonds, amide bonds, urethane bonds, and ether bonds, and are polymers that are polymerized by at least one type of bonding group selected from the group consisting of ester bonds, amide bonds, urethane bonds, and ether bonds. It is best to use a polymer based on a polymer having a sufficient amount of parent groups in the molecule to dissolve or disperse it in the medium. Examples of such parent groups include sulfonic acid metal bases, carboxyl groups, 1
Examples include a secondary amine group, a secondary amine group, a tertiary amine group, and a quaternary ammonium base. Anchor agents include
In addition to the main ingredient, water or a water-soluble organic solvent, a surfactant, a basic neutralizing agent, etc. can be included.

親木基を分子内に宥するポリマーの代表例としては、上
述の親木基を含有するポリエステル樹脂、上述の親木基
を含有するポリアミド樹脂、上述の親木基を含有するポ
リウレタン樹脂、上述の親木基を含有するポリエルテル
ウレタン樹脂、ポリエチレンイミンとポリアクリル酸と
変性デンプンとの混合物からなるイオン高分子錯体など
があげられる。
Typical examples of polymers containing parent wood groups in the molecule include polyester resins containing the above parent wood groups, polyamide resins containing the above parent wood groups, polyurethane resins containing the above parent wood groups, and polyurethane resins containing the above parent wood groups. Examples include polyester urethane resin containing parent wood groups, and ionic polymer complexes consisting of a mixture of polyethyleneimine, polyacrylic acid, and modified starch.

良j 本発明の液晶表示パネル用電極基板は、次のような積層
構成を有する。
Good: The electrode substrate for a liquid crystal display panel of the present invention has the following laminated structure.

■ 基材層(1)/耐透気性層(2) ■ 耐透気性層(2)/基材層(1)/耐透気性層(2
) ■ 基材層(1)/耐透気性層(2)/保護層■ 耐透
気性層(2)/基材層(1)/耐透気性層(2)/保護
層(3) ■ 保護層(3)/耐透気性層(2)/基材層(1)/
ITFt透気性層(2)/保護層(3)基材層(1)と
耐透気性層(2)との間、耐透気性層(2)と保護層(
3)との間には、必要に応じアンカーコーティング層(
4)を介在させることができることは先に述べた通りで
ある。
■ Base material layer (1)/Air permeability layer (2) ■ Air permeability layer (2)/Base material layer (1)/Air permeability layer (2)
) ■ Base layer (1) / Air permeable layer (2) / Protective layer ■ Air permeable layer (2) / Base layer (1) / Air permeable layer (2) / Protective layer (3) ■ Protection Layer (3)/Air permeability layer (2)/Base layer (1)/
ITFt air permeable layer (2)/protective layer (3) between the base layer (1) and the air permeable layer (2), the air permeable layer (2) and the protective layer (
3), an anchor coating layer (
As mentioned above, 4) can be intervened.

第1〜5図は本発明の電極基板の例を示した断面図であ
り、第1図が上記■、第2図が上記■、第3図が上記■
、第4図が上記■、第5図が上記■に相当する。なお各
図においては、基材層(1)と耐透気性層(2)との間
にアンカーコーティング層(4)を介在させた場合を典
型的な例として示した。各図中、仮想線で表わした(5
)は透明電極である。
1 to 5 are cross-sectional views showing examples of the electrode substrate of the present invention.
, FIG. 4 corresponds to the above (2), and FIG. 5 corresponds to the above (2). In addition, in each figure, the case where the anchor coating layer (4) was interposed between the base material layer (1) and the air-permeable layer (2) was shown as a typical example. In each figure, the virtual line (5
) is a transparent electrode.

基材層(1)は、湿式製膜法(キャスティング)、乾式
製膜法、溶融製膜法などによって成形する。基材層(1
)の厚さは、20〜1000用m程度が適当である。
The base material layer (1) is formed by a wet film forming method (casting), a dry film forming method, a melt film forming method, or the like. Base material layer (1
) is suitably about 20 to 1000 m thick.

基材層(1)上にアンカーコーティング層(4)を設け
るときは、基材層(1)上にアンカー剤を塗布、乾燥し
、必要に応じて加熱処理する。アンカーコーティング層
(4)の厚さは、0.5〜5ILm程度とすることが多
い。
When providing the anchor coating layer (4) on the base layer (1), an anchor agent is applied onto the base layer (1), dried, and heat-treated if necessary. The thickness of the anchor coating layer (4) is often about 0.5 to 5 ILm.

基材層(1)上に直接またはアンカーコーティング層(
4)を介して耐透気性層(2)を設けるには、前記の反
応性耐透気性ポリマー(P)をその溶媒に溶解ないし分
散させて(通常は重合液をそのままあるいは濃度調整し
て用いる)、基材層(1)に直接塗布、乾燥するか、ア
ンカーコーティング層(4)上に塗布、乾燥し、ついで
加熱処理すればよい、ただし保護層(3)を設けるとき
は、この加熱処理は、保護層(3)の硬化のための加熱
処理で兼ねることができる。
Directly or anchor coating layer (
4) To form the air-permeable layer (2) through the layer, the reactive air-permeable polymer (P) is dissolved or dispersed in the solvent (usually the polymer solution is used as it is or after adjusting the concentration). ), it can be applied directly to the base layer (1) and dried, or it can be applied to the anchor coating layer (4), dried, and then heat-treated.However, when providing the protective layer (3), this heat treatment is sufficient. This can also serve as a heat treatment for curing the protective layer (3).

耐透気性層(2)の厚さ(1層の厚さ)は1〜50JL
11、好ましくは2〜20ルmの範囲に設定する。1用
層未満では耐透気性が不十分であり、50用履を越える
と基板を形成する際、カールする傾向がある上、コスト
の点で不利となる。
The thickness of the air permeable layer (2) (thickness of one layer) is 1 to 50 JL
11, preferably in the range of 2 to 20 lm. If it is less than 1 layer, the air permeability will be insufficient, and if it exceeds 50 layers, it will tend to curl when forming a substrate and will be disadvantageous in terms of cost.

基材層(1)と耐透気性層(2)との間の剥離強度(A
STM D−1878ニ準シテ測定)は、50g以上、
好ましくは150g以上、さらには200g以上である
ことが要求される。剥離強度が50g未満では、次工程
の透明電極処理や液晶パネル製造のパターン出し、酸、
アルカリ水溶液処理、有機薬品処理、組立工程などの工
程において、基材層(1)から耐透気性層(2)(また
は耐透気性層(2)と保;J層(3))が剥離してしま
うおそれがある。従って、基材層(1)と耐透気性層(
2)との間の剥離強度が不足するときは、前述のように
アンカーコーティング層(4)l)在させるのがよい。
Peel strength (A
STM D-1878 standard measurement) is 50g or more,
It is preferably 150 g or more, more preferably 200 g or more. If the peel strength is less than 50g, it may be necessary to use transparent electrode treatment in the next process, pattern formation for liquid crystal panel manufacturing, acid,
In processes such as alkaline aqueous solution treatment, organic chemical treatment, and assembly process, the air permeable layer (2) (or the air permeable layer (2) and the J layer (3)) may peel off from the base layer (1). There is a risk that the product may become damaged. Therefore, the base material layer (1) and the air permeability layer (
When the peel strength between 2) and 2) is insufficient, it is preferable to provide an anchor coating layer (4) as described above.

なお、アンカーコーティング層(4)の形成を水または
水−アルコール混合溶媒に溶解または分散したアンカー
剤を用いて行うと、爾後の工程における溶剤が基材層(
1)の表面を侵すのを確実に抑えることができる。
In addition, if the anchor coating layer (4) is formed using an anchor agent dissolved or dispersed in water or a water-alcohol mixed solvent, the solvent in the subsequent process will be used to form the base material layer (4).
1) It is possible to reliably prevent the surface from being corroded.

保護層(3)を設けるときは、その形成も耐透気性層(
2)形成の場合と同様の方法で行うことができる。
When providing the protective layer (3), its formation also depends on the air permeability layer (
2) It can be carried out in the same manner as in the case of formation.

耐透気性M(2)上への保護層(3)の形成に際しては
、架橋剤として、架橋性樹脂を架橋すると共に耐透気性
層(2)とも反応しうるものを用いると、両層間にアン
カーコーティング°層(4)を介在させなくても、強固
な居間密着性が得られる。たとえば、保護層(3)とし
てフェノキシエーテル型重合体にポリイソシアネートを
配合したフェノキシエーテル型架橋性樹脂を用いると、
アンカーコーティング層(4)を介在させなくても、耐
透気性層(2)との間に剥離不可能なほどの(基材破壊
を起こすほどの)強固な密着性が得られる。
When forming the protective layer (3) on the air permeability M (2), use a crosslinking agent that can crosslink the crosslinkable resin and also react with the air permeability layer (2). Strong living room adhesion can be obtained without intervening the anchor coating layer (4). For example, if a phenoxy ether type crosslinkable resin containing a phenoxy ether type polymer and a polyisocyanate is used as the protective layer (3),
Even without intervening the anchor coating layer (4), strong adhesion with the air-permeable layer (2) can be obtained to the extent that it cannot be peeled off (to the extent that it causes destruction of the base material).

保護層(3)の厚さ(1層の厚さ)は1〜1ooo舊醜
、好ましくは5〜500 p、tmの範囲に設定する。
The thickness of the protective layer (3) (thickness of one layer) is set in the range of 1 to 100 mm, preferably 5 to 500 mm.

この範囲において耐液晶性および軽量性の確保が好適に
なされる。
Within this range, liquid crystal resistance and light weight can be suitably ensured.

上記■〜■の積層構成を有する本発明の電極基板全体の
厚さは広く変えうるが、50〜500gm程度が適当で
ある。電極基板全体の可視光線透過率は60%以上、好
ましくは70%以上を必要とし、60%未満では表示部
のコントラストが悪くなる。
Although the overall thickness of the electrode substrate of the present invention having the laminated structure of (1) to (4) above may vary widely, it is suitably about 50 to 500 gm. The visible light transmittance of the entire electrode substrate needs to be 60% or more, preferably 70% or more, and if it is less than 60%, the contrast of the display portion will deteriorate.

透10【極二m 上記で得られた電極基板の片面または両面には、透明導
電層を形成して透明電極(5)とする。上記■および■
の場合には耐透気性層(2)側の面に透明電極(5)を
設け、■および■の場合には保護層(3)側の面に透明
電極(5)を設ける。上記■の場合には、保護層(3)
側または耐透気性層(2)側のいずれの面に透明電極(
5)を設けてもよい。
A transparent conductive layer is formed on one or both sides of the electrode substrate obtained above to form a transparent electrode (5). ■ and ■ above
In case 2, a transparent electrode (5) is provided on the surface facing the air-permeable layer (2), and in cases 1 and 2, a transparent electrode (5) is provided on the surface facing the protective layer (3). In the case of ■ above, protective layer (3)
A transparent electrode (
5) may be provided.

透明導電層の形成方法は、その方法の如何を問わないが
、代表的な方法としては、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンブレーティング法、金属溶射法、金属メツキ
法等が採用される。これらのうち、薄層が形成できるこ
とおよび均一層が形成できることの2点を満足するもの
として、真空蒸着法とスパッタリング法が特に推奨され
る。
Although any method may be used to form the transparent conductive layer, typical methods include vacuum evaporation, sputtering, ion blasting, metal spraying, and metal plating. Among these, the vacuum evaporation method and the sputtering method are particularly recommended as they satisfy the two requirements of being able to form a thin layer and being able to form a uniform layer.

透明導電層を形成するための素材としては、Sn、In
、Ti 、Pb等の金属、またはそれらの酸化物が汎用
され、金属単体を上記の方法で基板上に形成したときは
、希望に応じてその後酸化する場合もある。当初から酸
化物層として付着形成させる方法もあるが、最初は金属
単体または低級酸化物の形態で被膜を形成し、しかるの
ち加熱酸化:陽極酸化あるいは液相酸化等の酸化処理を
施して透明化する手段を採用することもできる。
Examples of materials for forming the transparent conductive layer include Sn and In.
, Ti, Pb, or their oxides are commonly used, and when a single metal is formed on a substrate by the above method, it may be oxidized afterwards as desired. There is also a method of depositing it as an oxide layer from the beginning, but first a film is formed in the form of a single metal or a lower oxide, and then it is made transparent by performing oxidation treatment such as thermal oxidation, anodic oxidation, or liquid phase oxidation. It is also possible to adopt means to do so.

なお上記以外に、Au、Pt、Ag等の貴金属を用いる
場合もある。
In addition to the above, noble metals such as Au, Pt, and Ag may also be used.

これらの金属あるいはそれらの酸化物からなる導電層は
、透明性や導電性等の要求特性に応じた層厚に設定する
が1通常は100A以上とし、安定な導電性を与えるた
めには3ooA以上とすることが望ましい。
The thickness of the conductive layer made of these metals or their oxides is set according to the required characteristics such as transparency and conductivity.1 Usually, the thickness is 100A or more, and in order to provide stable conductivity, the thickness is 3ooA or more. It is desirable to do so.

上記導電層は、通常単一層でもよいが、機械的強度や耐
薬品性を考慮して2層以上の複数層として形成すること
もできる。また、皮膜の均一性や密着性等、さらには耐
摩耗性等を向上する目的で、アンダーコートやオー/(
−コートを施す場合もある。前者の例としてはシリコン
系やエポキシ系の樹脂が使用され、後者の例としてはゼ
ラチン、シリコーン、コロジオン等が使用される。また
さらに必要であれば、これらの上にさらに光電溝物質の
層やエレクトロ・ルミネッセンス材料の層を形成する場
合もある。
The above-mentioned conductive layer may normally be a single layer, but may also be formed as a plurality of layers of two or more layers in consideration of mechanical strength and chemical resistance. In addition, in order to improve the uniformity and adhesion of the film, as well as its abrasion resistance, undercoat and O/(
- May be coated. Examples of the former include silicone-based and epoxy-based resins, and examples of the latter include gelatin, silicone, collodion, and the like. Furthermore, if necessary, a layer of photovoltaic groove material or a layer of electroluminescent material may be further formed on these.

肚童 本発明の電極基板は、液晶表示装置は勿論のこと、光導
電性感光体用電極、面発熱体、または建築物の窓貼り等
の各種デイスプレーのフィルターや化粧板等として利用
できる。
The electrode substrate of the present invention can be used not only for liquid crystal display devices, but also as filters and decorative plates for various displays such as electrodes for photoconductive photoreceptors, surface heating elements, and building window panels.

作   用 本発明においては、耐透気性層(2)として、特定の反
応性耐透気性ポリマー(P)の層、つまりビニルアルコ
ール系重合体(V)の共存下に式(i)で示されるエチ
レン性不飽和アミド系モノマー(Ma)と分子内にカル
ボキシル基を有するビニル重合性モノマー(Mb)とか
らなるモノマー混合物(M)を重合して得られる反応性
耐透気性ポリマー(P)の層を用いている。
Function In the present invention, the air permeation resistant layer (2) is a layer of a specific reactive air permeation resistant polymer (P), that is, a layer represented by formula (i) in the coexistence of a vinyl alcohol polymer (V). A layer of a reactive air permeable polymer (P) obtained by polymerizing a monomer mixture (M) consisting of an ethylenically unsaturated amide monomer (Ma) and a vinyl polymerizable monomer (Mb) having a carboxyl group in the molecule. is used.

反応性耐透気性ポリマー(P)は、加熱により三次元化
するので、耐通気性を維持しながらも湿度依存性が小さ
くなる。
Since the reactive air-permeable polymer (P) becomes three-dimensional by heating, its humidity dependence is reduced while maintaining its air-permeability.

従って、耐透気性層(2)は、高湿下においても基材層
(1)に対する密着性が良好であり、高湿下にあっても
耐通気性の低下が小さく、かつ耐熱性、耐液晶性もさら
に向上する。そのため、本発明の電極基板に透明電極(
5)を設け、液晶表示パネルを作製したとき、長期にわ
たり信頼性が保たれる。
Therefore, the air permeable layer (2) has good adhesion to the base layer (1) even under high humidity, has a small decrease in air resistance even under high humidity, and has good heat resistance and Liquid crystallinity is also further improved. Therefore, the transparent electrode (
5), and when a liquid crystal display panel is manufactured, reliability is maintained over a long period of time.

実  施  例 次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。Example Next, the present invention will be further explained with reference to Examples.

実施例1 1  のフ ルム 厚さ80gm、レターデーション値20nmのポリカー
ボネートフィルム(三菱瓦斯化学株式会社製)を準備し
た。
Example 1 A polycarbonate film (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.) having a film thickness of 80 gm and a retardation value of 20 nm was prepared.

アンカーコーチ ング  4  のアンカーポリエステ
ルウレタンを主剤とする固形分40%の水性分散液(楠
本化成株式会社製NeoRezR−9314)を水で稀
釈して固形分20%の水性分散液としたちの100部に
、水溶性エポキシ系硬化剤(協立化学産業株式会社製ワ
ールドロックX −2030) 2.5部を配合するこ
とにより、アンカー剤を調製した。
Anchor Coaching 4 An aqueous dispersion with a solid content of 40% based on anchor polyester urethane (NeoRezR-9314, manufactured by Kusumoto Kasei Co., Ltd.) was diluted with water to make 100 parts of an aqueous dispersion with a solid content of 20%. An anchor agent was prepared by blending 2.5 parts of a water-soluble epoxy curing agent (World Lock X-2030, manufactured by Kyoritsu Kagaku Sangyo Co., Ltd.).

ポリマー 攪拌器、温度計、還流冷却器および窒素導入管を備えた
四つ目フラスコに、n−プロパツール 137.5gと
精製水112.5gとを仕込み、攪拌しながら、エチレ
ン−ビニルアルコール(モル比32/68)共重合体(
株式会社クラレ製のエバールEP−F  IOIA)5
0gを加えた。系を70〜80℃の加熱下に約4時間攪
拌し、エチレン−ビニルアルコール共重合体を完全に溶
解させた。
A fourth flask equipped with a polymer stirrer, thermometer, reflux condenser, and nitrogen inlet tube was charged with 137.5 g of n-propanol and 112.5 g of purified water, and while stirring, ethylene-vinyl alcohol (mol. ratio 32/68) copolymer (
EVAL EP-F IOIA) 5 manufactured by Kuraray Co., Ltd.
Added 0g. The system was stirred for about 4 hours while heating at 70 to 80°C to completely dissolve the ethylene-vinyl alcohol copolymer.

系を40〜50℃に冷却し、N−メトキシメチルアクリ
ルアミド2.5gとメタクリル酸1.0gを加え、窒素
を通して系中の酸素を充分に追い出した。4%過硫酸ア
ンモニウム水溶液2.0gを加え、よく攪拌し、5分後
に2%重亜硫酸ナトリウム水溶液2.0gを加え、重合
を開始させた。2時間ごとに前記と同様に開始剤を加え
、約8時間重合を行った。この間、内温は40〜50’
0に保持した。
The system was cooled to 40 to 50°C, 2.5 g of N-methoxymethylacrylamide and 1.0 g of methacrylic acid were added, and oxygen in the system was sufficiently expelled by passing nitrogen through the system. 2.0 g of a 4% aqueous ammonium persulfate solution was added and stirred well, and 5 minutes later, 2.0 g of a 2% aqueous sodium bisulfite solution was added to initiate polymerization. The initiator was added every 2 hours in the same manner as above, and polymerization was carried out for about 8 hours. During this time, the internal temperature was 40-50'
It was held at 0.

こ、れにより、固形公約16%の粘稠な半透明の反応性
耐透気性ポリマー液が得られた。
This resulted in a viscous, translucent, reactive, air-resistant polymer liquid of approximately 16% solids.

3の 下記組成の架橋性樹脂液を調製した。3's A crosslinkable resin liquid having the following composition was prepared.

上記のポリカーボネートフィルム(1)の片面に、 0
.1mmφのワイヤーラウンドドクターを使用して上記
のアンカー剤を塗布し、120℃で2分間乾燥して、厚
さ 1.5pmのアンカーコーティング層(4)を形成
させた。
On one side of the above polycarbonate film (1), 0
.. The above anchor agent was applied using a 1 mmφ wire round doctor and dried at 120° C. for 2 minutes to form an anchor coating layer (4) with a thickness of 1.5 pm.

このアンカーコーティング層(4)上に上記の反応性耐
透気性ポリマー液をアプリケーターを使用してギャップ
85 p−raで塗布し、70〜90℃で10分間乾燥
して、約104mの耐透気性層(2)を形成させた。
On this anchor coating layer (4), the above-mentioned reactive air permeability resistant polymer liquid was applied using an applicator with a gap of 85 p-ra, and dried at 70 to 90°C for 10 minutes, resulting in an air permeability of about 104 m. Layer (2) was formed.

同様にして、ポリカーボネートフィルム(1)の他の面
にも同じアンカーコーティング層(4)を形成させた。
Similarly, the same anchor coating layer (4) was formed on the other side of the polycarbonate film (1).

さらにそのアンカーコーティング層(4)上にも、同様
にして約10 p、rsの耐透気性層(2)を形成させ
た。
Further, on the anchor coating layer (4), an air permeability layer (2) of approximately 10 p, rs was formed in the same manner.

これにより、(2)/ (4)/ (1)/ (4)/
(2)の層構成を有する第2図に断面図を示した電極基
板が得られた。この電極基板の特性値、外観は次の通り
であった。
As a result, (2)/ (4)/ (1)/ (4)/
An electrode substrate having the layer structure (2) and whose cross-sectional view is shown in FIG. 2 was obtained. The characteristic values and appearance of this electrode substrate were as follows.

基材層(1)−耐透気性層(2)間の剥離強度片方  
       580 g/25m+a他方     
    575 g/25+sm酸素ガス透過性 20℃、98%RH1,2cc/24hr * m’ 
* atm30°C198%RH2,Elcc/24h
r * rn’ e atm全光線透過率 89% レターデーション値 17部m 外観 極めて優秀 上記で得た電極基板の片面に、酸化インジウムと酸化ス
ズとの重量比で95:5の混合物による厚さ500Aの
透明導電層をスパッタリング法により形成させ、透明電
極(5)となした。
Peel strength between base layer (1) and air permeable layer (2)
580 g/25m+a other side
575 g/25+sm Oxygen gas permeability 20℃, 98%RH 1,2cc/24hr * m'
* atm30°C198%RH2, Elcc/24h
r * rn' e atm Total light transmittance 89% Retardation value 17 partsm Appearance is excellent One side of the electrode substrate obtained above is coated with a thickness of 500A made of a mixture of indium oxide and tin oxide in a weight ratio of 95:5. A transparent conductive layer was formed by a sputtering method to form a transparent electrode (5).

液jLI友jヱ土止」ど 上記で得た基板を用いて常法により液晶表示パネルを作
製したが、耐通気性、居間密着性、耐熱性のいずれの点
でも極めて好ましいものであり、また透明電極(5)の
亀裂や剥離も認められず、耐液晶性もすぐれていた。
A liquid crystal display panel was prepared by a conventional method using the substrate obtained above, and it was found to be extremely preferable in terms of air resistance, adhesion to living rooms, and heat resistance. No cracks or peeling of the transparent electrode (5) was observed, and the liquid crystal resistance was excellent.

実施例2 実施例1で得られた(2)/ (4)/ (1)/(4
)/ (2)の層構成を有する積層物の片方の面に、ア
プリケーターを使用してギャップ354mで直接上記の
架橋性樹脂液を塗布し、80℃で10分、さらに120
℃で30分加熱し、厚さ10 gmの保護層(3)を形
成させた。同様にもう一方の面にも厚さ10 gtaの
保護層(3)を形成させた。
Example 2 (2)/(4)/(1)/(4) obtained in Example 1
)/(2) Using an applicator, apply the above crosslinking resin liquid directly to one side of the laminate with a gap of 354 m, and heat at 80°C for 10 minutes, and then heat for 120 m.
℃ for 30 minutes to form a protective layer (3) with a thickness of 10 gm. Similarly, a protective layer (3) with a thickness of 10 gta was formed on the other side.

これにより、(3)/ (2)/ (4)/ (1)/
 (4)/ (2)/ (3)の層構成を有する第5図
に断面図を示した電極基板が得られた。この電極基板の
特性値、外観は次の通りであった。
As a result, (3)/ (2)/ (4)/ (1)/
An electrode substrate having a layer structure of (4)/(2)/(3) and whose cross-sectional view is shown in FIG. 5 was obtained. The characteristic values and appearance of this electrode substrate were as follows.

基材層(1)−耐透気性層(2)間の剥離強度片方  
       625 g/25+gn他方     
     600 g/25mm酎透気性層耐2)−保
護層(3)間の剥離強度片方         基材破
壊 他方         基材破壊 酸素ガス透過性 20℃、98XRH0,8cc/24hr @ rn”
 a atm30℃、98%R81,5cc/24hr
 a rn” e atm全光線透過率 87% レターデーション値 7nm 外・観 極めて優秀 上記で得た電極基板の片面に、実施例1と同様にして透
明電極(5)を形成させ、さらにこの基板を用いて常法
により液晶表示パネルを作製したが、耐通気性、層間密
着性、耐熱性のいずれの点でも極めて好ましいものであ
り、また透明電極(5)の亀裂や剥離も認められず、耐
液晶性もすぐれていた。
Peel strength between base layer (1) and air permeable layer (2)
625 g/25+gn other
600 g/25mm Peel strength between air permeable layer 2) and protective layer (3) One side Base material failure Other side Base material failure Oxygen gas permeability 20℃, 98XRH0.8cc/24hr @ rn”
a atm30℃, 98%R81,5cc/24hr
a rn"e atmTotal light transmittance 87% Retardation value 7 nmExcellent appearance and appearanceA transparent electrode (5) was formed on one side of the electrode substrate obtained above in the same manner as in Example 1, and this substrate was A liquid crystal display panel was prepared by a conventional method using the same, and it was found to be extremely favorable in terms of air resistance, interlayer adhesion, and heat resistance, and no cracks or peeling of the transparent electrode (5) were observed. The liquid crystal quality was also excellent.

比較例1 耐透気性層(2)の形成(厚さ各約lO終腸)を、エチ
レン−ビニルアルコール(モル比32768)共重合体
20部、水48部、n−プロパツール32部およびメチ
ロール化メラミン(住友化学工業株式会社製スミチック
M−3)4部からなる溶液を用いて行ったほかは実施例
2を繰り返して、電極基板を製造した。この電極基板の
特性値、外観は次の通りであり、実施例2に比しては密
着性、耐通気性が不足していた。
Comparative Example 1 The air permeability layer (2) was formed (each approximately 1O2 thick) using 20 parts of ethylene-vinyl alcohol (molar ratio 32768) copolymer, 48 parts of water, 32 parts of n-propanol, and methylol. An electrode substrate was produced by repeating Example 2, except that a solution consisting of 4 parts of melamine (Sumitic M-3, manufactured by Sumitomo Chemical Industries, Ltd.) was used. The characteristic values and appearance of this electrode substrate were as follows, and compared to Example 2, the adhesiveness and air resistance were insufficient.

基材層(1)−耐透気性層(2)間の剥離強度片方 他方 耐透気性層(2)−保護層 片方 他方 酸素ガス透過性 20℃、98XRH 30℃、98XRH 全光線透過率 87”% レターデーション値 17n+s 2.8cc/24hr *  rn” e  atm?
、5cc/24hr @rn” * atm3 2 5
 g/25層層 3 1 0 g/25m膳 (3)間の剥離強度 基材破壊 基材破壊 外観 極めて優秀 実施例3〜5 エチレン−ビニルアルコール(モル比32/68)共重
合体50gに、N−ブトキシメチルアクリルアミド3.
5gとアクリル酸2.0gを重合したほかは実施例1と
同様にして反応性耐透気性ポリマー液を得た(実施例3
)。
Peel strength between base layer (1) and air-permeable layer (2), one side air-permeable layer (2)-protective layer, one side oxygen gas permeability 20°C, 98XRH 30°C, 98XRH Total light transmittance 87" % Retardation value 17n+s 2.8cc/24hr *rn” e atm?
, 5cc/24hr @rn” * atm3 2 5
g/25 layer Layer 3 10 g/25 m Peel strength between layers (3) Base material fracture Base material fracture Appearance Excellent Examples 3 to 5 50 g of ethylene-vinyl alcohol (molar ratio 32/68) copolymer, N-butoxymethylacrylamide 3.
A reactive air-permeable polymer liquid was obtained in the same manner as in Example 1, except that 5 g of acrylic acid and 2.0 g of acrylic acid were polymerized (Example 3).
).

ま、た、エチレン−ビニルアルコール(モル比32/6
8)共重合体50gに、N−メトキシメチルアクリルア
ミド4.Ogとアクリル酸5.0gを重合したほかは実
施例1と同様にして反応性耐透気性ポリマー液を得た(
実施例4)。
Also, ethylene-vinyl alcohol (molar ratio 32/6
8) Add 4.0 g of N-methoxymethylacrylamide to 50 g of copolymer. A reactive air-permeable polymer liquid was obtained in the same manner as in Example 1, except that Og and 5.0 g of acrylic acid were polymerized (
Example 4).

さらにまた、エチレン−ビニルアルコール(モル比32
/68)共重合体50gに、N−メチロールアクリルア
ミド2.5gとメタクリル酸2.5gを重合したほかは
実施例1と同様にして反応性耐透気性ポリマー液を得た
(実施例5)。
Furthermore, ethylene-vinyl alcohol (molar ratio 32
/68) A reactive air-permeable polymer liquid was obtained in the same manner as in Example 1, except that 2.5 g of N-methylolacrylamide and 2.5 g of methacrylic acid were polymerized to 50 g of the copolymer (Example 5).

実施例1における反応性耐透気性ポリマー液として上記
で得たものを用いたほかは、実施例1を繰り返したとこ
ろ、実施例1の場合とほぼ同等の結果が得られた。
When Example 1 was repeated except that the above-obtained reactive air-permeable polymer liquid was used as the reactive air-permeable polymer liquid in Example 1, almost the same results as in Example 1 were obtained.

実施例6 フラスコにポリビニルアルコール(重合度1500、ケ
ン化度88モル%)の13%水溶液350gを仕込んだ
後、系を40〜50℃に加熱し、N−メチロールアクリ
ルアミド4.5gとメタクリル酸2.0gを加え、窒素
を通して系中の酸素を充分に追い出した。4%過硫酸ア
ンモニウム水溶液3.0gを加え、よく攪拌し、5分後
に2%重亜硫酸ナトリウム水溶液3.0gを加え、重合
を開始させた。2時間ごとに前記と同様に開始剤を加え
、約8時間重合を行った。この間、内温は40〜50℃
に保持した。
Example 6 After charging 350 g of a 13% aqueous solution of polyvinyl alcohol (degree of polymerization 1500, degree of saponification 88 mol%) into a flask, the system was heated to 40 to 50°C, and 4.5 g of N-methylolacrylamide and 2 methacrylic acid were charged. .0 g was added, and oxygen in the system was sufficiently expelled by passing nitrogen through the system. 3.0 g of a 4% aqueous ammonium persulfate solution was added and stirred well, and 5 minutes later, 3.0 g of a 2% aqueous sodium bisulfite solution was added to initiate polymerization. The initiator was added every 2 hours in the same manner as above, and polymerization was carried out for about 8 hours. During this time, the internal temperature is 40-50℃
was held at

これにより、固形公約14%の粘稠な半透明の反応性耐
透気性ポリマー液が得られた。
This resulted in a viscous, translucent, reactive, air-resistant polymer liquid of approximately 14% solids.

3の 実施例1の処方の架橋性樹脂液を用いた。3's A crosslinkable resin liquid having the formulation of Example 1 was used.

11L振二11 上記の反応性耐透気性ポリマー液、架橋性樹脂液を用い
たほかは実施例2に準じて、(3)/(2)/ (4)
/ (1)/ (4)/ (2)の層構成を有する第4
図に断面図を示した電極基板を作製した。ただし、耐透
気性層(2)の厚さは各8終履、保護層(3)の厚さは
12ル履に設定した。
11L Shinji 11 According to Example 2 except that the above reactive air-permeable polymer liquid and crosslinkable resin liquid were used, (3)/(2)/(4)
/ (1) / (4) / The fourth layer having the layer structure of (2)
An electrode substrate whose cross-sectional view is shown in the figure was manufactured. However, the thickness of the air permeable layer (2) was set to 8 mm, and the thickness of the protective layer (3) was set to 12 mm.

こ・の電極基板の特性値、外観は次の通りであった。The characteristic values and appearance of this electrode substrate were as follows.

基材層(1)−耐透気性層(2)間の剥離強度片方  
       540 g/25mm他方      
             5 7 0 g/25曹層
耐透気性層(2)−保護層(3)間の剥離強度片方  
       基材破壊 他方         基材破壊 酸素ガス透過性 20℃、98$RH1,2cc/24hr * m’ 
* atm30℃、 98$RH2,1cc/24hr
 *  rn”  *  atm全光線透過率 89% レターデーション値 1nm 外観 極めて優秀 実施例7 実施例1に準じて、基材層(1)の片面にアンカーコー
ティング層(4)、その上に耐透気性層(2)、さらに
その上に保護層(3)を形成させた。
Peel strength between base layer (1) and air permeable layer (2)
540 g/25mm other side
5 7 0 g/25 Peel strength between carbon dioxide layer air permeable layer (2) and protective layer (3) (one side)
Base material destruction Other Base material destruction oxygen gas permeability 20°C, 98$RH1,2cc/24hr * m'
* atm30℃, 98$RH2, 1cc/24hr
* rn'' * atm Total light transmittance 89% Retardation value 1 nm Excellent appearance Example 7 According to Example 1, an anchor coating layer (4) was placed on one side of the base material layer (1), and an air permeation resistant layer was added on top of it. A layer (2) was formed, and a protective layer (3) was further formed thereon.

これにより、(1)/ (4)/ (2)/ (3)の
層構成を有する第3図に断面図を示した電極基板が得ら
れたので、その保護層(3)上に実施例1と同様にして
透明電極(5)を形成させた。
As a result, an electrode substrate having a layer structure of (1)/(4)/(2)/(3) and whose cross-sectional view is shown in FIG. 3 was obtained. A transparent electrode (5) was formed in the same manner as in Example 1.

実施例8 実施例1に準じ、基材層(1)の片面にアンカーコーテ
ィング層(4)、その上に耐透気性層(2)を形成させ
た。
Example 8 According to Example 1, an anchor coating layer (4) was formed on one side of the base layer (1), and an air-permeable layer (2) was formed thereon.

これにより、(2)/ (4)/ (1)の層構成を有
する第1図に断面図を示した電極基板が得られたので、
その耐透気性層(2)上に実施例1と同様にして透明電
極(5)を形成させた。
As a result, an electrode substrate having a layer structure of (2)/(4)/(1) and whose cross-sectional view is shown in FIG. 1 was obtained.
A transparent electrode (5) was formed on the air-permeable layer (2) in the same manner as in Example 1.

実施例9 基材層(1)として、厚さloo8Lm、レターデーシ
ョン値14nmのポリエーテルスルホンフィルム(IC
Iジャパン株式会社製のVictnex300PIをジ
メチルホルムアミドに溶解した溶液を用いて製膜)を用
い、アンカー剤として実施例1で使ったものを用い、ア
ンカーコーティング層(4)の厚さをいずれも約3pm
に設定したほかは、実施例1に準じて電極基板を作製し
た。
Example 9 As the base layer (1), a polyether sulfone film (IC
A film was formed using a solution of Victnex 300PI (manufactured by I Japan Co., Ltd.) dissolved in dimethylformamide, and the same anchor agent used in Example 1 was used, and the thickness of the anchor coating layer (4) was approximately 3 pm in each case.
An electrode substrate was produced in accordance with Example 1, except that the following settings were made.

実施例10 アンカー剤として、樹脂濃度30%の水性ポリアミド系
アンカー剤(スルホン酸塩基、カルボキシル基、アルキ
ル基置換第三級窒素およびアルキレン基置換第四級窒素
を含有)を用い、アンカーコーティング層(4)の厚さ
をいずれも約3ル菖に設定したほかは、実施例1に準じ
て電極基板を作製した。
Example 10 An aqueous polyamide anchoring agent (containing a sulfonic acid group, a carboxyl group, an alkyl group-substituted tertiary nitrogen group, and an alkylene group-substituted quaternary nitrogen group) with a resin concentration of 30% was used as the anchor agent, and an anchor coating layer ( Electrode substrates were produced according to Example 1, except that the thickness of 4) was set to about 3 mm.

実施例11 基材層(1)として、厚さ100JL鵬、レターデーシ
ョン値17nmのポリアリーレンエステルフィルム(ユ
ニチカ株式会社製)を用い、アンカー剤として、樹脂濃
度20%の水性ポリウレタン系アンカー剤(スルホン酸
塩基、カルボキシル基、アルキル基置換第三級窒素およ
びアルキレン基置換第四級窒素を含有)を用い、アンカ
ーコーティング層(4)の厚さをいずれも約1.51部
mに設定したほかは、実施例1に準じて電極基板を作製
した。
Example 11 A polyarylene ester film (manufactured by Unitika Co., Ltd.) with a thickness of 100 JL and a retardation value of 17 nm was used as the base layer (1), and as an anchoring agent, an aqueous polyurethane anchoring agent (sulfonate) with a resin concentration of 20% was used. The anchor coating layer (4) was set to about 1.51 parts m in thickness. An electrode substrate was produced according to Example 1.

実施例12 基材層(1)として、厚さ100μm、レターデーショ
ン値15nmのポリスルホンフィルム(ユニオンカーバ
イド社製のニーデルを1.1,2゜2−テトラクロルエ
タンに溶解した溶液を用いて製膜)を用い、保護層(3
)として、ペンタエリスルトールテトラアクリレート4
0部、ベンゾインエチルエーテル0.02部、メチルセ
ロソルブ60部、ベンゾイルパーオキサイド1.5部か
らなる組成物を塗布形成させた暦を用いたほかは、実施
例2と同様にして電極基板を作製した。
Example 12 As the base layer (1), a polysulfone film with a thickness of 100 μm and a retardation value of 15 nm (made by Union Carbide Co., Ltd.) was formed using a solution in which needle was dissolved in 1.1,2° 2-tetrachloroethane. ), and a protective layer (3
) as pentaerythritol tetraacrylate 4
An electrode substrate was prepared in the same manner as in Example 2, except that a calendar coated with a composition consisting of: did.

以上実施例6〜12で得た電極基板の特性値は、実施例
1または2に準するものであった。
The characteristic values of the electrode substrates obtained in Examples 6 to 12 were similar to those in Example 1 or 2.

発明の効果 本発明の電極基板は、特定の耐透気性層を用いたため、
この電極基板を用いて作製した液晶表示パネルは、高湿
雰囲気下、高温雰囲気下など過酷な条件下で使用しても
、長期にわたり製造直後と同様の安定した性能が発揮さ
れる。
Effects of the Invention Since the electrode substrate of the present invention uses a specific air-permeable layer,
A liquid crystal display panel manufactured using this electrode substrate exhibits stable performance over a long period of time, similar to that immediately after manufacture, even when used under harsh conditions such as a high humidity atmosphere or a high temperature atmosphere.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1〜5図は本発明の電極基板の例を示した断面図であ
る。 (1)・・・基材層、(2)・・・耐透気性層、(3)
・・・保護層、(4)・・・アンカーコーティング層、
(5)・・・透明電極 第1図
1 to 5 are cross-sectional views showing examples of the electrode substrate of the present invention. (1) Base material layer, (2) Air permeability layer, (3)
...protective layer, (4) ...anchor coating layer,
(5)...Transparent electrode Figure 1

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ビニルアルコール系重合体(V)の共存下に、式 ▲数式、化学式、表等があります▼(i) (式中、R^1、R^2はHまたは低級アルキル基、R
^3は炭素数1〜4のアルキレン基)で示されるエチレ
ン性不飽和アミド系モノマー(Ma)と分子内にカルボ
キシル基を有するビニル重合性モノマー(Mb)からな
るモノマー混合物(M)を重合して得られる液晶表示パ
ネル用電極基板製造用の反応性耐透気性ポリマー。 2、ビニルアルコール系重合体(V)の水または/およ
び低級アルコール溶液に式(i)で示されるモノマー混
合物(M)を加えて重合して得られるものである請求項
1記載の液晶表示パネル用電極基板製造用の反応性耐透
気性ポリマー。 3、反応性耐透気性ポリマー(P)における(Ma)/
(Mb)のモル比が0.05〜5.0であり、かつ(M
)/(V)の重量比が0.02〜0.5である請求項1
記載の電極基板。 4、ビニルアルコール系重合体(V)が、エチレン−ビ
ニルアルコール共重合体またはポリビニルアルコールで
ある請求項1記載の電極基板。 5、レターデーション値80nm以下の非旋光性透明フ
ィルムまたはシートよりなる基材層(1)の片面または
両面に耐透気性層(2)を設けた積層構成を有し、該積
層物の耐透気性層(2)側の面に透明電極を設けること
により液晶表示パネル用の基板となすための電極基板に
おいて、前記耐透気性層(2)が、請求項1の反応性耐
透気性ポリマー(P)の層からなることを特徴とする液
晶表示パネル用電極基板。 6、レターデーション値80nm以下の非旋光性透明フ
ィルムまたはシートよりなる基材層(1)の片面または
両面に耐透気性層(2)を設け、さらに該耐透気性層(
2)のうちの少なくとも一方の層上に架橋性樹脂硬化物
(C)よりなる保護層(3)を設けた積層構成を有し、
該積層物の保護層(3)側の面または耐透気性層(2)
側の面に透明電極を設けることにより液晶表示パネル用
の基板となすための電極基板において、前記耐透気性層
(2)が、請求項1の反応性耐透気性ポリマー(P)の
層からなることを特徴とする液晶表示パネル用電極基板
。 7、反応性耐透気性ポリマー(P)の層からなる耐透気
性層(2)の酸素透過率(ASTMD−1434−75
に準じて測定)が、30cc/24hr・m^2・at
m以下である請求項5または6記載の電極基板。 8、基材層(1)が、ポリカーボネート系樹脂、ポリエ
ーテルスルホン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリアリ
ーレンエステル系樹脂、ポリパラバン酸系樹脂またはポ
リイミド系樹脂系樹脂から形成された層である請求項5
または6記載の電極基板。 9、保護層(3)を構成する架橋性樹脂硬化物(C)が
、フェノキシエーテル型架橋性樹脂、エポキシ樹脂、ア
クリル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂またはウレ
タン樹脂から選ばれた架橋性樹脂の硬化物である請求項
5または6記載の電極基板。
[Claims] 1. In the coexistence of the vinyl alcohol polymer (V), there is a formula ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. ▼ (i) (In the formula, R^1 and R^2 are H or lower Alkyl group, R
^3 is an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms) A monomer mixture (M) consisting of an ethylenically unsaturated amide monomer (Ma) represented by an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms and a vinyl polymerizable monomer (Mb) having a carboxyl group in the molecule is polymerized. A reactive air permeation-resistant polymer for manufacturing electrode substrates for liquid crystal display panels. 2. The liquid crystal display panel according to claim 1, which is obtained by adding and polymerizing the monomer mixture (M) represented by formula (i) to a water or/and lower alcohol solution of the vinyl alcohol polymer (V). Reactive air permeation resistant polymer for manufacturing electrode substrates. 3. (Ma)/ in reactive air-permeable polymer (P)
The molar ratio of (Mb) is 0.05 to 5.0, and (M
)/(V) weight ratio is 0.02 to 0.5.
The electrode substrate described. 4. The electrode substrate according to claim 1, wherein the vinyl alcohol polymer (V) is an ethylene-vinyl alcohol copolymer or polyvinyl alcohol. 5. It has a laminated structure in which an air permeation resistant layer (2) is provided on one or both sides of a base layer (1) made of a non-optically active transparent film or sheet with a retardation value of 80 nm or less, and the laminate has an air permeation resistance layer (2) on one or both sides. In an electrode substrate for forming a substrate for a liquid crystal display panel by providing a transparent electrode on the surface on the gaseous layer (2) side, the gas permeable layer (2) is made of the reactive gas permeable polymer (2) according to claim 1. An electrode substrate for a liquid crystal display panel, comprising a layer P). 6. An air-permeable layer (2) is provided on one or both sides of the base layer (1) made of a non-optically active transparent film or sheet with a retardation value of 80 nm or less, and the air-permeable layer (
It has a laminated structure in which a protective layer (3) made of a crosslinkable resin cured product (C) is provided on at least one layer of 2),
The protective layer (3) side of the laminate or the air permeable layer (2)
In an electrode substrate for forming a substrate for a liquid crystal display panel by providing a transparent electrode on a side surface, the air permeation resistant layer (2) is made of a layer of the reactive air permeation resistant polymer (P) according to claim 1. An electrode substrate for a liquid crystal display panel, characterized in that: 7. Oxygen permeability of air permeability layer (2) consisting of a layer of reactive air permeability polymer (P) (ASTMD-1434-75
) is 30cc/24hr・m^2・at
The electrode substrate according to claim 5 or 6, wherein the electrode substrate has a thickness of m or less. 8. Claim 5, wherein the base layer (1) is a layer formed from a polycarbonate resin, a polyethersulfone resin, a polysulfone resin, a polyarylene ester resin, a polyparabanic acid resin, or a polyimide resin.
Or the electrode substrate according to 6. 9. The cured crosslinkable resin (C) constituting the protective layer (3) is a cured crosslinkable resin selected from phenoxy ether type crosslinkable resins, epoxy resins, acrylic resins, melamine resins, phenolic resins, or urethane resins. The electrode substrate according to claim 5 or 6, which is a material.
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