JPH03250602A - サーミスタ素子 - Google Patents
サーミスタ素子Info
- Publication number
- JPH03250602A JPH03250602A JP34108089A JP34108089A JPH03250602A JP H03250602 A JPH03250602 A JP H03250602A JP 34108089 A JP34108089 A JP 34108089A JP 34108089 A JP34108089 A JP 34108089A JP H03250602 A JPH03250602 A JP H03250602A
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- glass tube
- thermistor
- metal
- bulk
- electrode
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- Pending
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 42
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Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、回路基板に面実装されるサーミスタ素子の構
造に関する。
造に関する。
本発明は、温度変化、振動などの機械的外力変動が大き
い環境で使用されるに適する面実装形のサーミスタ素子
に関する。
い環境で使用されるに適する面実装形のサーミスタ素子
に関する。
本発明の素子は、自動車、OA機器、プリンタヘッドな
どに使用されるに適する。
どに使用されるに適する。
本発明は、面実装形のサーミスタ素子において、サーミ
スタバルクをガラス管の内部に配置し、これをその両端
から栓形状の金属電極を挿入して保持する構造により、 温度変化や機械的外力の変動に対して安定な素子を提供
するものである。
スタバルクをガラス管の内部に配置し、これをその両端
から栓形状の金属電極を挿入して保持する構造により、 温度変化や機械的外力の変動に対して安定な素子を提供
するものである。
チップ状のサーミスタ素子を用いて基板に実装する形の
ものには、第4図(a)に示すダブルヒートシンク形成
(DHT形式)に代表されるものと、面実装形のもので
は第4図ら)に示す角型チップ形式のものとがある。
ものには、第4図(a)に示すダブルヒートシンク形成
(DHT形式)に代表されるものと、面実装形のもので
は第4図ら)に示す角型チップ形式のものとがある。
DHT形式のものは、サーミスタバルク11がガラス管
13の中に設けられ、デュメット電極12によりはさみ
込まれた形状のものが知られている。このデュメット電
極12にはスラグリード14がそれぞれ接続される。
13の中に設けられ、デュメット電極12によりはさみ
込まれた形状のものが知られている。このデュメット電
極12にはスラグリード14がそれぞれ接続される。
また角型チップ形式は、サーミスタバルク21の両端に
半田になじみやすい金属の膜状電極22をディッピング
処理により設けている。
半田になじみやすい金属の膜状電極22をディッピング
処理により設けている。
しかし、前述のDHT形式のものは、スラグリードがあ
るため回路基板への直接の面実装が不可能であるため、
基板全体の大きさが大きくなるとともに、素子を製作す
る工程でリード線の折り曲げや取付は孔の設定のための
工程が必要になり、コストの低減がない。
るため回路基板への直接の面実装が不可能であるため、
基板全体の大きさが大きくなるとともに、素子を製作す
る工程でリード線の折り曲げや取付は孔の設定のための
工程が必要になり、コストの低減がない。
また角型チップは回路基板への取り付は性はよくなるが
、膜状電極の形成はデイピング処理によるのでこれに不
整を生じやすく、素子としての電気抵抗値のばらつきが
多い。ことにサーミスタバルクは硬度が大きいが脆いも
のであり、このためにこれらサーミスタ素子を設置する
環境に振動などの外力変動の大きい自動車用回路や、プ
リンタのサーマルヘッドなどでは、亀裂が発生しやすく
不安定である。
、膜状電極の形成はデイピング処理によるのでこれに不
整を生じやすく、素子としての電気抵抗値のばらつきが
多い。ことにサーミスタバルクは硬度が大きいが脆いも
のであり、このためにこれらサーミスタ素子を設置する
環境に振動などの外力変動の大きい自動車用回路や、プ
リンタのサーマルヘッドなどでは、亀裂が発生しやすく
不安定である。
本発明は、このような課題を解決するもので、温度変化
や機械振動の大きい環境に使用しても安定であり、製品
の電気特性のばらつきが小さい、面実装形のサーミスタ
素子を提供することを目的とする。
や機械振動の大きい環境に使用しても安定であり、製品
の電気特性のばらつきが小さい、面実装形のサーミスタ
素子を提供することを目的とする。
本発明は、サーミスタバルクをガラス管の内部に配置し
、そのガラス管の両端から栓形状の金属電極を挿入した
構造を特徴とする。サーミスタバルクは互いに平行な対
向する一対の面を備え形状であり、好ましくは直方体形
状であり、その対向する一対の面には金属膜面が形成さ
れる。
、そのガラス管の両端から栓形状の金属電極を挿入した
構造を特徴とする。サーミスタバルクは互いに平行な対
向する一対の面を備え形状であり、好ましくは直方体形
状であり、その対向する一対の面には金属膜面が形成さ
れる。
直方体形状の場合には、その対向する一対の面をほぼ正
方形として、この対向する一対の面の間の距離はこの正
方形の一辺の長さより短い形状とすることがよい。
方形として、この対向する一対の面の間の距離はこの正
方形の一辺の長さより短い形状とすることがよい。
このサーミスタバルクは、−枚の大きいウェハーの両面
にあらかじめこの金属膜面を形成したものを用意してお
き、これを半導体製造用のダイシングマシンで切り出し
て製造することができる。
にあらかじめこの金属膜面を形成したものを用意してお
き、これを半導体製造用のダイシングマシンで切り出し
て製造することができる。
金属膜面は、銀、金、白金、銀・パラジウム合金その他
による厚さ20〜50卿のものである。
による厚さ20〜50卿のものである。
金属電極の材質はデニメット合金など、ガラス管とよく
なじむとともに、ガラス管とその熱膨張係数が近似する
材料を使用して、ガラス管と金属電極との間は加熱融着
させた構造のものが好ましい。
なじむとともに、ガラス管とその熱膨張係数が近似する
材料を使用して、ガラス管と金属電極との間は加熱融着
させた構造のものが好ましい。
サーミスタバルクを一枚のウェハーから切り出して形成
できるから、その品質がきね約で均一になり、電気特性
のばらつきが小さくなる。
できるから、その品質がきね約で均一になり、電気特性
のばらつきが小さくなる。
ガラス管に封入され、両側から挿入された金属電極に接
触する形態であるので、ガラス管にある小さい弾力性に
より、機械振動があってもその接触は良好に保持され安
定である。ガラス管と金属電極との間を融着する構造を
とれるから、内部の環境は一定に保持されて安定である
。
触する形態であるので、ガラス管にある小さい弾力性に
より、機械振動があってもその接触は良好に保持され安
定である。ガラス管と金属電極との間を融着する構造を
とれるから、内部の環境は一定に保持されて安定である
。
サーミスタバルクの熱膨張係数はガラスあるいはデュメ
ット合金より幾分大きいので、温度変化により形状に小
さい相違が生じるが、現実にはガラス管の弾性とサーミ
スタバルクの表面に形成した金属膜面の厚さとがこの相
違を吸収するものと考えられ、その動作は実験的にきわ
tて安定である。
ット合金より幾分大きいので、温度変化により形状に小
さい相違が生じるが、現実にはガラス管の弾性とサーミ
スタバルクの表面に形成した金属膜面の厚さとがこの相
違を吸収するものと考えられ、その動作は実験的にきわ
tて安定である。
次に本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は、本発明一実施例の構造説明図で、サーミスタ
素子を分解しその一部を破断したものである。
素子を分解しその一部を破断したものである。
本図において、ガラス管1と、このガラス管1の内部に
実装されるサーミスタバルク2と、このサーミスタバル
ク2の両面に接続される金属電極3と4とがある。第1
図ではサーミスタバルク2はサーミスタ素子が組み立て
られた位置の状態を示す。
実装されるサーミスタバルク2と、このサーミスタバル
ク2の両面に接続される金属電極3と4とがある。第1
図ではサーミスタバルク2はサーミスタ素子が組み立て
られた位置の状態を示す。
ここで本発明の特徴とするところは、金属電極3および
4のガラス管1の外部に露出する部分の金属体3Aおよ
び4Aを備えた栓形状であり、これがガラス管1の両端
から挿入されてサーミスタバルク2をはさむように支持
する構造にある。金属電極3および4の外側の部分3A
および3Bは面実装用の電極として使用される。
4のガラス管1の外部に露出する部分の金属体3Aおよ
び4Aを備えた栓形状であり、これがガラス管1の両端
から挿入されてサーミスタバルク2をはさむように支持
する構造にある。金属電極3および4の外側の部分3A
および3Bは面実装用の電極として使用される。
この金属電極3はデニメット合金により形成される。ま
た、サーミスタノ・ルク2は直方体の形状であり、その
対向する表面は正方形であり、この正方形の表面にはこ
の例では銀・パラジウム合金による約20μmの金属膜
面が形成されている。
た、サーミスタノ・ルク2は直方体の形状であり、その
対向する表面は正方形であり、この正方形の表面にはこ
の例では銀・パラジウム合金による約20μmの金属膜
面が形成されている。
このサーミスタバルク2は、第3図に示すようにウェハ
ー2Aの両面にあらかじめ銀・パラジウム合金の膜面2
Bを形成したものを用意しておき、これを半導体の製造
装置と同様の装置を利用して、カットライン2Cに沿っ
て所定の形状に切出して製作される。
ー2Aの両面にあらかじめ銀・パラジウム合金の膜面2
Bを形成したものを用意しておき、これを半導体の製造
装置と同様の装置を利用して、カットライン2Cに沿っ
て所定の形状に切出して製作される。
ガラス管10両端から金属電極3を挿入した後に、ガラ
スの融点温度近くまで全体を加熱して、ガラス管と金属
合金とを融着させる。
スの融点温度近くまで全体を加熱して、ガラス管と金属
合金とを融着させる。
第2図は、本実施例の断面図である。金属電極4をはじ
めにガラス管1に圧入し、これにサーミスタバルク2を
投入し金属電極3を前述のように押し込む。図に示すよ
うに素子の外径は1.33mmであり、全長は3.5m
mである。金属電極3および4はそれぞれサーミスタバ
ルク2の表面に形成された金属膜面2Bに圧接する。次
いで、ガラス管ごと加熱して金属電極3または4とガラ
ス管1とを融着させる。
めにガラス管1に圧入し、これにサーミスタバルク2を
投入し金属電極3を前述のように押し込む。図に示すよ
うに素子の外径は1.33mmであり、全長は3.5m
mである。金属電極3および4はそれぞれサーミスタバ
ルク2の表面に形成された金属膜面2Bに圧接する。次
いで、ガラス管ごと加熱して金属電極3または4とガラ
ス管1とを融着させる。
その後に金属電極3および4の露出部分に半田になじむ
金属膜5をメツキする。
金属膜5をメツキする。
本発明によるサーミスタ素子は、−30℃から十125
℃の温度限度内で使用できる。
℃の温度限度内で使用できる。
本発明のサーミスタ素子は、回路基板に直接に面実装し
て使用される。
て使用される。
第2図に示す寸法は、日本電子機械工業会規格(EIA
J>の規格番号RC−8001Aに該当するものであり
、回路基板に面実装できるものである。
J>の規格番号RC−8001Aに該当するものであり
、回路基板に面実装できるものである。
以上説明したように、本発明によれば、電気特件のばら
つきが小さく、動作が安定であり、実装時に半田耐熱性
あるいは半田くわれに対して極めて有効な面実装形のサ
ーミスタ素子が得られる。
つきが小さく、動作が安定であり、実装時に半田耐熱性
あるいは半田くわれに対して極めて有効な面実装形のサ
ーミスタ素子が得られる。
本発明の素子は厳しい環境下で試験され安定な結果を得
ている。
ている。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明一実施例の構造説明図。
第2図は、同実施例の断面図。
第3図は、サーミスタバルクの製作説明図。本図は説明
をわかりやすくするためカットラインのピッチは大きく
表示している。 第4図(a)は、ダブルヒートシンク形式の従来例断面
図。 第4図ら〕は、角型チップ形式の従来例の斜視図。 1.13・・・ガラス管、2.11.21・・・サーミ
スタバルク、2A・・・ウェハー、2B・・・銀・パラ
ジウム合金の金属膜面、2C・・・カットライン、3.
4・・・金属電極、3A、4A・・・金属体、3B、4
B・・・挿入部、3C14C・・・端面、5・・・半田
になじむ金属の金属膜、12・・・デュメット電極、1
4・・・スラグリード、22・・・半田になじみやすい
金属の膜状電極。
をわかりやすくするためカットラインのピッチは大きく
表示している。 第4図(a)は、ダブルヒートシンク形式の従来例断面
図。 第4図ら〕は、角型チップ形式の従来例の斜視図。 1.13・・・ガラス管、2.11.21・・・サーミ
スタバルク、2A・・・ウェハー、2B・・・銀・パラ
ジウム合金の金属膜面、2C・・・カットライン、3.
4・・・金属電極、3A、4A・・・金属体、3B、4
B・・・挿入部、3C14C・・・端面、5・・・半田
になじむ金属の金属膜、12・・・デュメット電極、1
4・・・スラグリード、22・・・半田になじみやすい
金属の膜状電極。
Claims (4)
- 1.ガラス管と、このガラス管の内部に封入されたサー
ミスタバルクと、このサーミスタバルクの両端に接続さ
れた金属電極とを備え、前記サーミスタバルクの形状は
一対の対向面に金属膜面が形成され、前記金属電極は前
記ガラス管の端部から挿入された栓形状であることを特
徴とする面実装形のサーミスタ素子。 - 2.前記サーミスタバルクの形状は、直方体である請求
項1記載のサーミスタ素子。 - 3.前記対向する一対の面はほぼ正方形であり、この一
対の対向面の間の長さはこの正方形の一辺の長さより小
さいことを特徴とする請求項2記載のサーミスタ素子。 - 4.前記金属電極は前記ガラス管の熱膨張係数と近似す
る熱膨張係数の金属合金であり、前記ガラス管と前記金
属電極との接触面は加熱融着されたことを特徴とする請
求項1記載のサーミスタ素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34108089A JPH03250602A (ja) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | サーミスタ素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP34108089A JPH03250602A (ja) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | サーミスタ素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03250602A true JPH03250602A (ja) | 1991-11-08 |
Family
ID=18343065
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34108089A Pending JPH03250602A (ja) | 1989-12-29 | 1989-12-29 | サーミスタ素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03250602A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8373535B2 (en) | 2001-01-26 | 2013-02-12 | Quality Thermistor, Inc. | Thermistor and method of manufacture |
-
1989
- 1989-12-29 JP JP34108089A patent/JPH03250602A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8373535B2 (en) | 2001-01-26 | 2013-02-12 | Quality Thermistor, Inc. | Thermistor and method of manufacture |
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