JPH03248395A - 光記憶装置 - Google Patents
光記憶装置Info
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- JPH03248395A JPH03248395A JP2045195A JP4519590A JPH03248395A JP H03248395 A JPH03248395 A JP H03248395A JP 2045195 A JP2045195 A JP 2045195A JP 4519590 A JP4519590 A JP 4519590A JP H03248395 A JPH03248395 A JP H03248395A
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- light
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Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、特にカオス半導体レーザを用いた光記憶装置
に係わる。
に係わる。
本発明は光記憶装置に係わり、共通の基体上に、ヘテロ
接合バイポーラトランジスタと、直流駆動面発光半導体
レーザと、波長多重記録材料によるホログラムメモリ部
とが積層形成されて成り、半導体レーザとホログラムメ
モリ部とによって複合共振器が構成され、ヘテロ接合バ
イポーラトランジスタと、面発光半導体レーザとは充電
的フィードバック・ループが形成されて半導体レーザが
自動発振するようになされ、面発光半導体レーザへの直
流注入電流を変化させることにより、平均発振周波数、
または波長を変化させたカオス光発振状態を形成するこ
とができるようにする。
接合バイポーラトランジスタと、直流駆動面発光半導体
レーザと、波長多重記録材料によるホログラムメモリ部
とが積層形成されて成り、半導体レーザとホログラムメ
モリ部とによって複合共振器が構成され、ヘテロ接合バ
イポーラトランジスタと、面発光半導体レーザとは充電
的フィードバック・ループが形成されて半導体レーザが
自動発振するようになされ、面発光半導体レーザへの直
流注入電流を変化させることにより、平均発振周波数、
または波長を変化させたカオス光発振状態を形成するこ
とができるようにする。
一方、ホログラムメモリ部に外部から情報の書き込みを
行い、このホログラムメモリと面発光半導体レーザとの
結合により、面発光半導体レーザの発振をホログラムメ
モリ部のデータで制御するか、または面発光半導体レー
ザをカオス状態としてホログラムメモリ部のデータをカ
オス的にサーチできるようにする。
行い、このホログラムメモリと面発光半導体レーザとの
結合により、面発光半導体レーザの発振をホログラムメ
モリ部のデータで制御するか、または面発光半導体レー
ザをカオス状態としてホログラムメモリ部のデータをカ
オス的にサーチできるようにする。
従来の光学的な記憶装置(オプティカル・エンジニアリ
ング: 0PTICAL ENGINEERING/M
ay 1987/Vo1.26 No、5/PP435
〜444参照)は、ホログラム等のメモリ部を受動的な
共振器内に入れ、決められた手続に従って入力光に最も
強い相関を持つホログラムデータを連想するというもの
である。この場合、予め入力されている参照データ等は
、度入力すると、そのデータを変更することは、そのま
まの装置の配置では難しく参照データ記録のために、各
部分の再配置を行わなければならないという不都合があ
る。
ング: 0PTICAL ENGINEERING/M
ay 1987/Vo1.26 No、5/PP435
〜444参照)は、ホログラム等のメモリ部を受動的な
共振器内に入れ、決められた手続に従って入力光に最も
強い相関を持つホログラムデータを連想するというもの
である。この場合、予め入力されている参照データ等は
、度入力すると、そのデータを変更することは、そのま
まの装置の配置では難しく参照データ記録のために、各
部分の再配置を行わなければならないという不都合があ
る。
また、様々な参照データを想起する例(デイドリーミン
グ: Daydreaming)では、その想起のきっ
かけが利得のゆらぎによるものであることから結定論的
でない。つまり入力データに対して因果的でないという
問題がある。
グ: Daydreaming)では、その想起のきっ
かけが利得のゆらぎによるものであることから結定論的
でない。つまり入力データに対して因果的でないという
問題がある。
更に、特公平1−51074号公報には、光メモリ等に
有効な光双安定機能素子の提案がなされている。
有効な光双安定機能素子の提案がなされている。
これは、垂直発振型半導体レーザと非線形光学層との組
合せによる構造を採るものであり、出力レベルの安定化
がはかられるという利点を有するものの双安定であるが
故に光メモリとして用いられる場合の記憶容量に問題が
ある。
合せによる構造を採るものであり、出力レベルの安定化
がはかられるという利点を有するものの双安定であるが
故に光メモリとして用いられる場合の記憶容量に問題が
ある。
本発明は、上述した諸問題の解決をはかり、メモリの書
き換えが自在で、かつ安定した動作をなさしめ、更に光
記憶の大容量化をはかることができるようにした光記憶
装置を提供する。
き換えが自在で、かつ安定した動作をなさしめ、更に光
記憶の大容量化をはかることができるようにした光記憶
装置を提供する。
本発明は、第1図にその一例の断面図を示すように、共
通の基体(1)上に、ヘテロ接合バイポーラトランジス
タいわゆるH B T (2)と、直流駆動面発光半導
体レーザ(垂直型半導体レーザ)(3)と、波長多重記
録材料によるホログラムメモリ部(4)とが積層形成さ
れて成り、半導体レーザ(3)と、ホログラムメモリ(
4)とによって複合共振器(5)が構成され、トランジ
スタHB T (2)と、半導体レーザ(3)とが、光
学的フィードバックループを形成し自動発振するように
する。つまり、トランジスタHB T (2)は、半導
体レーザのドライブ用トランジスタとしての機能をも有
するようにする。
通の基体(1)上に、ヘテロ接合バイポーラトランジス
タいわゆるH B T (2)と、直流駆動面発光半導
体レーザ(垂直型半導体レーザ)(3)と、波長多重記
録材料によるホログラムメモリ部(4)とが積層形成さ
れて成り、半導体レーザ(3)と、ホログラムメモリ(
4)とによって複合共振器(5)が構成され、トランジ
スタHB T (2)と、半導体レーザ(3)とが、光
学的フィードバックループを形成し自動発振するように
する。つまり、トランジスタHB T (2)は、半導
体レーザのドライブ用トランジスタとしての機能をも有
するようにする。
上述の構成において半導体レーザ(3)に、直流駆動電
流を供給すると、カオス光の自動発振がなされ、ホログ
ラムメモリ部(4)と、半導体レーザ(3)とによって
構成された複合共振器(5)によって、ホログラムメモ
リ部(4)に予め外光によってホログラムとして記憶さ
れている情報が、カオス光によるワンダリング(Wan
dering)によって想起される。
流を供給すると、カオス光の自動発振がなされ、ホログ
ラムメモリ部(4)と、半導体レーザ(3)とによって
構成された複合共振器(5)によって、ホログラムメモ
リ部(4)に予め外光によってホログラムとして記憶さ
れている情報が、カオス光によるワンダリング(Wan
dering)によって想起される。
このカオス光の発生は、半導体レーザ(3)に対する直
流駆動電流の供給によってこのレーザ(3)から垂直方
向に発光が生じることによって、これがトランジスタH
B T (2)のベースに導入され、これが電気信号に
変換されかつ増幅されて半導体レーザに対しフィードバ
ック・ループを形成していることから、レーザ(3)が
トランジスタHB T (2)の出力でドライブされる
。すなわち正帰還動作がなされレーザ(3)が自動発振
する。このとき、その発振のゆらぎによって、本来光−
電気変換効率が高く増幅率の高いI G Hz以上の広
帯域特性を有する)(BT(2)による正帰還動作でカ
オス光の発振に至るものと思われる。
流駆動電流の供給によってこのレーザ(3)から垂直方
向に発光が生じることによって、これがトランジスタH
B T (2)のベースに導入され、これが電気信号に
変換されかつ増幅されて半導体レーザに対しフィードバ
ック・ループを形成していることから、レーザ(3)が
トランジスタHB T (2)の出力でドライブされる
。すなわち正帰還動作がなされレーザ(3)が自動発振
する。このとき、その発振のゆらぎによって、本来光−
電気変換効率が高く増幅率の高いI G Hz以上の広
帯域特性を有する)(BT(2)による正帰還動作でカ
オス光の発振に至るものと思われる。
上述したように、本発明によれば、波長多重ホログラム
によるメモリの想起を、カオス光すなわち周波数及び波
形が変動す、る光によっていわばワンダリングさせて行
うので、各波長による多重記録像をカオス的メモリサー
チによって確実、簡単に想起することができる。
によるメモリの想起を、カオス光すなわち周波数及び波
形が変動す、る光によっていわばワンダリングさせて行
うので、各波長による多重記録像をカオス的メモリサー
チによって確実、簡単に想起することができる。
また、本発明によれば、ヘテロ接合バイポーラトランジ
スタHB T (2)と、半導体レーザ(3)と、波長
多重ホログラム(4)とを共通の基体(1)上に積層し
た全体として単一化いわゆるモノシリツク構造としたこ
とによって王者が密にかつ相互に所定の位置関係が設定
されることから、量産性に冨み、再現性にすぐれている
などの製造上の利点と共に、特性上条(の利点をもたら
す。
スタHB T (2)と、半導体レーザ(3)と、波長
多重ホログラム(4)とを共通の基体(1)上に積層し
た全体として単一化いわゆるモノシリツク構造としたこ
とによって王者が密にかつ相互に所定の位置関係が設定
されることから、量産性に冨み、再現性にすぐれている
などの製造上の利点と共に、特性上条(の利点をもたら
す。
〔実施例]
第1図を参照して本発明装置の一例を詳細に説明する。
基体(1)として、例えば半絶縁性のGaAs化合物半
導体サブストレイトを用意し、これの上に必要に応じて
、第1導電型例えばn型のバッファ層(6)をエピタキ
シャル成長し、これの上に順次第1導電型の例えばGa
Asより成るコレクタ層(7)と、第2導電型例えばP
型のGaAsよりなるベース層(8)と、第1導電型例
えばn型でベース層(8)に比しバンドギャップが大な
る例えば八ZGaAsより成るエミツタ層(9)とを順
次エピタキシャル成長してヘテロ接合バイポーラトラン
ジスタHB T (2)を構成する。そして更に続いて
これの上に、面発光型半導体レーザ(3)、例えば分布
反射D B R(Distributed Bragg
Ref 1ection)型の面発光型(垂直型)半導
体レーザ(3)を形成する。すなわち、例えばHB T
(2)のエミツタ層(9)上に、例えばAZGaAs
とGaAsの繰返し積層構造の第1の多重反射層(10
)と、これの上に第1導電型のn型の例えばAZGaA
sより成る第10クランド層(11)と、例えばGaA
sより成る活性層(12)と、第2導電型のn型のAZ
GaAsより成る第2のクラッド層(13)と、更にこ
れの上に例えばAZGaAsとGaAsの繰返し積層の
構造の第2の多重反射層(14)と、第2導電型のGa
Asより成るキャップ層(15)とをエピタキシャル成
長する。これらHB T (2)及び半導体レーザ(3
)を構成する各層(6)〜(15)は、連続的にMOC
VD (有機金属気相成長層: Metal Orga
nicChemical Vapor Deposit
ion)によって形成し得る。
導体サブストレイトを用意し、これの上に必要に応じて
、第1導電型例えばn型のバッファ層(6)をエピタキ
シャル成長し、これの上に順次第1導電型の例えばGa
Asより成るコレクタ層(7)と、第2導電型例えばP
型のGaAsよりなるベース層(8)と、第1導電型例
えばn型でベース層(8)に比しバンドギャップが大な
る例えば八ZGaAsより成るエミツタ層(9)とを順
次エピタキシャル成長してヘテロ接合バイポーラトラン
ジスタHB T (2)を構成する。そして更に続いて
これの上に、面発光型半導体レーザ(3)、例えば分布
反射D B R(Distributed Bragg
Ref 1ection)型の面発光型(垂直型)半導
体レーザ(3)を形成する。すなわち、例えばHB T
(2)のエミツタ層(9)上に、例えばAZGaAs
とGaAsの繰返し積層構造の第1の多重反射層(10
)と、これの上に第1導電型のn型の例えばAZGaA
sより成る第10クランド層(11)と、例えばGaA
sより成る活性層(12)と、第2導電型のn型のAZ
GaAsより成る第2のクラッド層(13)と、更にこ
れの上に例えばAZGaAsとGaAsの繰返し積層の
構造の第2の多重反射層(14)と、第2導電型のGa
Asより成るキャップ層(15)とをエピタキシャル成
長する。これらHB T (2)及び半導体レーザ(3
)を構成する各層(6)〜(15)は、連続的にMOC
VD (有機金属気相成長層: Metal Orga
nicChemical Vapor Deposit
ion)によって形成し得る。
そして、キャップ層(15)上に一方のレーザ電極(1
6)となる透明電極、例えばAuの薄膜、ITO(In
TiO)または5n02などの蒸着によって形成し、こ
れの上にGaAZAsより成るバッファ層(17)を介
して光化学ホールバーニングが生ずるP HB (Ph
otongated Persfstent Ho1e
Burning)材料の例えばBaC/F:Sm”に
よるPHBホログラム材料層(18)をスパッタリング
などによって被着する。そしてこれの上に第3の多重反
射層(19)を例えばBaF2とBa(JPの繰返し積
層によって形成する。このようにして第2及び第3の多
重反射層(14)及び(19)によってPHBホログラ
ム材料層(18)が挟みこまれたホログラムメモリ部(
4)を構成すると共に、第1及び第2の反射層(10)
及び(14)間の半導体レーザ(3)による共振器と、
第2及び第3の反射層(14)及び(19)間のホログ
ラムメモリ部(4)による共振器によって複合共振器(
5)を構成する。
6)となる透明電極、例えばAuの薄膜、ITO(In
TiO)または5n02などの蒸着によって形成し、こ
れの上にGaAZAsより成るバッファ層(17)を介
して光化学ホールバーニングが生ずるP HB (Ph
otongated Persfstent Ho1e
Burning)材料の例えばBaC/F:Sm”に
よるPHBホログラム材料層(18)をスパッタリング
などによって被着する。そしてこれの上に第3の多重反
射層(19)を例えばBaF2とBa(JPの繰返し積
層によって形成する。このようにして第2及び第3の多
重反射層(14)及び(19)によってPHBホログラ
ム材料層(18)が挟みこまれたホログラムメモリ部(
4)を構成すると共に、第1及び第2の反射層(10)
及び(14)間の半導体レーザ(3)による共振器と、
第2及び第3の反射層(14)及び(19)間のホログ
ラムメモリ部(4)による共振器によって複合共振器(
5)を構成する。
そして、例えば半導体レーザ(3)を構成する各半導体
層の一部をエツチング除去して、HB T (2)のエ
ミツタ層(9)を外部に露出し、更にエミツタ層(9)
及びベース層(8)を一部エッチング除去してコレクタ
層(7)の一部を外部に露出し、各エミツタ層(9)及
びコレクタ層(7)の露出部上にそれぞれエミッタ電極
兼一方のレーザ電極(20)とコレクタ電極(21)と
をそれぞれオーミックに被着する。
層の一部をエツチング除去して、HB T (2)のエ
ミツタ層(9)を外部に露出し、更にエミツタ層(9)
及びベース層(8)を一部エッチング除去してコレクタ
層(7)の一部を外部に露出し、各エミツタ層(9)及
びコレクタ層(7)の露出部上にそれぞれエミッタ電極
兼一方のレーザ電極(20)とコレクタ電極(21)と
をそれぞれオーミックに被着する。
この構成において、ホログラムメモリ部(4)に外部か
ら情報の記憶(メモリ)を行う。これはPHB材料層(
18)に外部から所要の例えば複数種の波長のレーザ光
をメモリすべき情報に応じたパターンに照射することに
よって、そのレーザ光照射部でホールバーニングの発生
による吸収スペクトルにへこみ(ホール)を生じさせて
情報の書き込みによるホログラムを形成するものである
(PHBについては、オプティックス・レターズ、 0
PTIC5LETTER3,July 1985/Vo
1.10. No、7/1985.0pticalSo
ciety of America参照)。
ら情報の記憶(メモリ)を行う。これはPHB材料層(
18)に外部から所要の例えば複数種の波長のレーザ光
をメモリすべき情報に応じたパターンに照射することに
よって、そのレーザ光照射部でホールバーニングの発生
による吸収スペクトルにへこみ(ホール)を生じさせて
情報の書き込みによるホログラムを形成するものである
(PHBについては、オプティックス・レターズ、 0
PTIC5LETTER3,July 1985/Vo
1.10. No、7/1985.0pticalSo
ciety of America参照)。
そして、HB T (2)の電極(20)及び(21)
に所要のエミッターコレクタ間電圧を印加し、半導体レ
ーザ(3)の画電極(16)及びく20)間に所要の直
流駆動電流を供給する。
に所要のエミッターコレクタ間電圧を印加し、半導体レ
ーザ(3)の画電極(16)及びく20)間に所要の直
流駆動電流を供給する。
このようにすると、面発光半導体レーザ(3)からレー
ザ光が発生するが、HB T (2)との充電的フィー
ドバック・ループが形成されていることによって、カオ
ス光の自動発振がなされるが同時に複合共振器(5)に
よってホログラムメモリ部(4)のホログラムメモリが
カオス光によるワンダリングによって想起される。ワン
ダリングする際に、それぞれの波長によるメモリを想起
することができることからメモリ容量は膨大となる。
ザ光が発生するが、HB T (2)との充電的フィー
ドバック・ループが形成されていることによって、カオ
ス光の自動発振がなされるが同時に複合共振器(5)に
よってホログラムメモリ部(4)のホログラムメモリが
カオス光によるワンダリングによって想起される。ワン
ダリングする際に、それぞれの波長によるメモリを想起
することができることからメモリ容量は膨大となる。
尚、上述した例では、第1導電型がn型で第2導電型が
P型である場合としたが、これらを逆導電型とすること
もできる。また上述の例では第1〜第3の反射層(10
) 、 (14) 、 (19)を多重量子井戸構造の
反射層とした場合であるが、これに限られるものではな
く、また面発光半導体レーザも上述したDBR型レーザ
に限られるものではない。
P型である場合としたが、これらを逆導電型とすること
もできる。また上述の例では第1〜第3の反射層(10
) 、 (14) 、 (19)を多重量子井戸構造の
反射層とした場合であるが、これに限られるものではな
く、また面発光半導体レーザも上述したDBR型レーザ
に限られるものではない。
(発明の効果〕
本発明装置によれば、上述したように、波長多重ホログ
ラムによるメモリの想起を、カオス光すなわち周波数、
及び波形が変動する光によっていわばワンダリングさせ
て行うので、各波長による多重記録像をカオス的メモリ
サーチによって確実、簡単に想起することができる。
ラムによるメモリの想起を、カオス光すなわち周波数、
及び波形が変動する光によっていわばワンダリングさせ
て行うので、各波長による多重記録像をカオス的メモリ
サーチによって確実、簡単に想起することができる。
また、本発明によれば、ヘテロ接合トランジスタHB
T (2)と、半導体レーザ(3)と、波長多重ホログ
ラム(4)とを共通の基体(1)上に積層した全体とし
て単一化いわゆるモノリシック構造としたことによって
三者が密にかつ相互に所要の位置関係に設定されること
から、再現性、量産性にすぐれ、製造上及び特性上の利
点が大である。
T (2)と、半導体レーザ(3)と、波長多重ホログ
ラム(4)とを共通の基体(1)上に積層した全体とし
て単一化いわゆるモノリシック構造としたことによって
三者が密にかつ相互に所要の位置関係に設定されること
から、再現性、量産性にすぐれ、製造上及び特性上の利
点が大である。
第1図は本発明装置の一例の路線的拡大断面図である。
(1)は基体、(2)はヘテロ接合バイポーラトランジ
スタ、(3)は半導体レーザ、(4)はホログラムメモ
リ部、(10) (14)及び(19)は第1.第2及
び第3の反射層である。 代 理 人 松 隈 秀 盛
スタ、(3)は半導体レーザ、(4)はホログラムメモ
リ部、(10) (14)及び(19)は第1.第2及
び第3の反射層である。 代 理 人 松 隈 秀 盛
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 共通の基体上に、 ヘテロ接合バイポーラトランジスタと、直流駆動面発光
半導体レーザと、波長多重記録材料によるホログラムメ
モリ部とが積層形成され、 上記半導体レーザと上記ホログラムメモリ部とにより複
合共振器が構成され、 上記ヘテロ接合バイポーラトランジスタと、上記面発光
半導体レーザとは充電的フィードバックループが形成さ
れて自動発振するようになされたことを特徴とする光記
憶装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2045195A JPH03248395A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 光記憶装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2045195A JPH03248395A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 光記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03248395A true JPH03248395A (ja) | 1991-11-06 |
Family
ID=12712493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2045195A Pending JPH03248395A (ja) | 1990-02-26 | 1990-02-26 | 光記憶装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03248395A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06314846A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-08 | Nec Corp | 狭帯域化面発光レーザ |
JP2005303129A (ja) * | 2004-04-14 | 2005-10-27 | Sony Corp | レーザ・システム、ホログラム記録再生システム、レーザ制御方法、およびホログラム記録再生方法 |
JP2013502067A (ja) * | 2009-08-10 | 2013-01-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 能動的なキャリヤの閉じ込めを伴う垂直共振器型面発光レーザ |
JP2017532783A (ja) * | 2014-09-25 | 2017-11-02 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 垂直共振器面発光レーザ |
-
1990
- 1990-02-26 JP JP2045195A patent/JPH03248395A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06314846A (ja) * | 1993-04-30 | 1994-11-08 | Nec Corp | 狭帯域化面発光レーザ |
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JP4639627B2 (ja) * | 2004-04-14 | 2011-02-23 | ソニー株式会社 | レーザ・システム、ホログラム記録再生システム、レーザ制御方法、およびホログラム記録再生方法 |
JP2013502067A (ja) * | 2009-08-10 | 2013-01-17 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 能動的なキャリヤの閉じ込めを伴う垂直共振器型面発光レーザ |
JP2017532783A (ja) * | 2014-09-25 | 2017-11-02 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 垂直共振器面発光レーザ |
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