JPH0324716A - レジスト現像装置 - Google Patents
レジスト現像装置Info
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- JPH0324716A JPH0324716A JP15842889A JP15842889A JPH0324716A JP H0324716 A JPH0324716 A JP H0324716A JP 15842889 A JP15842889 A JP 15842889A JP 15842889 A JP15842889 A JP 15842889A JP H0324716 A JPH0324716 A JP H0324716A
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- Japan
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- resist
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- processed
- workpiece
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- Granted
Links
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- 238000007598 dipping method Methods 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、半導体製造におけるレジスト現像装置に関す
るものである． （従来の技術） 従来、このような分野の技術としては、例えば特開昭５
６ − ２６４３５号に示すようなものがあった．第３
図はかかる従来のレジスト現像装置の断面図である． この図において、１は現像槽、２はその現像槽に入った
現像処理液、３は気泡発生板、４はガス導入口、５は流
量計、６は被加工体支持具、７は被加工体を示している
． このようなレジスト現像装置で現像すると、被加工体７
の表面では気泡による攪拌のため、常に新鮮な現像処理
液２が供給され、かつ気泡が被加工体７の表面に衝突す
る際の力学的作用により、必要としない領域のレジスト
層を物理的に除去でき、加工精度の高い現像処理が可能
である．第４図は従来のエッチング液撹拌装置の断面図
である． この図において、１１はウエハ、Ｉ２はウエハ１１を収
納するウエハキャリア、ｌ３は回転子、ｌ４はスクリュ
ーファン、１５はマグネットスターラーテーブルであり
、このマグネットスターラーテーブルｌ５の回転子１３
にスクリューファンＬ４を取付け、このスクリューファ
ンｌ４の回転によりエッチング液に水平方向及び鉛直方
向の対流をつくるように構戒されている（特開昭６０−
１１９７２８号参照）．（発明が解決しようとする課題
） しかしながら、上記構成の装置では、現像液に溶けたレ
ジスト残渣が現像液中に浮遊して、被加工体に再付着す
るといった問題があった．本発明は、以上述べたレジス
ト残渣の再付着の問題点を除去し、加工精度の高い現像
処理ができる優れたレジスト現像装１を提供することを
目的とする． （課題を解決するための手段） 本発明は、上記目的を達威するために、レジスト現像装
置において、現像槽（１１）中の現像液（１２）を攪拌
する手段と、被加工体（ｌ５）をその現像液中に浸す手
段と、前記被加工体（ｌ５〉から除去されるレジスト残
渣を捕獲する手段と、前記被加工体（１５）をその現像
液（ｌ２）中から取り出す手段を設けるようにしたもの
である． （作用） 本発明によれば、上記のように、レジスト現像に際して
、現像液（１２）を掻き混ぜる最中に被加工体（１５）
を浸し、必要としない領域のレジスト層を除去し、取り
出すことができる．その場合、被加工体（１５〉から除
去されるレジスト残渣は、フィルタ（ｌ７）により有効
に除去することができる．（実施例） 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する． 第１図は本発明の実施例を示すレジスト現像装置の断面
図、第２図はそのレジスト現像装置の斜視図である． これらの図において、ｌ１は現像槽、１２は現像液、ｌ
３は現像液を掻き混ぜるファン、ｌ４はファンｌ３を駆
動するモータ、ｌ５は被加工体（通常はウエハ）、ｌ６
は被加工体支持具、ｌ７はレジスト残渣を捕獲するフィ
ルタである． 次に、上記レジスト現像装置を用いた本発明のレジスト
現像手順について述べる． まず、被加工体ｌ５を現像液１２に浸す前にファンｌ３
を５０〜ｌ００ｒｐｍで回転させることにより、渦状の
水流を作る． その後、被加工体支持具１６を下降させ、被加工体１５
を現像液１２に浸す．すると、第１図に示すように、現
像液ｌ２中に溶け出したレジスト残渣は下方向への水流
に乗ってファン１３付近まで到達し、フィルタ１７に捕
獲される． なお、フィルタｌ７は脱着可能とし、目づまりしない程
度で交換する． また、フィルタ１７は残渣の流路に設ける。但し、ファ
ン１３によって現像液１２が攪拌されるように、大きさ
、位置を設定する．例えば第１図及び第２図に示すよう
に、ファン１３より外側で現像槽下方内壁に設ける． このように構成することにより、現像時のレジスト残渣
は下方のフィルタに捕獲されるので、被加工体に再付着
することがない． また、水流を積極的に発生させると共に、レジスト残渣
の除去を行うようにしているため、現像槽は小型化、及
び高効率のレジストの現像を行うことができる． なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない． （発明の効果） 以上、詳細に説明したように、本発明によれば、現像時
のレジスト残渣が下方のフィルタに捕獲されるので、被
加工体に再付着することがない．従って、より加工精度
の高い現像処理を行うことができる． また、水流を積極的に発生させると共に、レジスト残渣
の除去を行うようにしているため、現像槽を小型化する
ことができると共に、効率良くレジストの現像を行うこ
とができる．
るものである． （従来の技術） 従来、このような分野の技術としては、例えば特開昭５
６ − ２６４３５号に示すようなものがあった．第３
図はかかる従来のレジスト現像装置の断面図である． この図において、１は現像槽、２はその現像槽に入った
現像処理液、３は気泡発生板、４はガス導入口、５は流
量計、６は被加工体支持具、７は被加工体を示している
． このようなレジスト現像装置で現像すると、被加工体７
の表面では気泡による攪拌のため、常に新鮮な現像処理
液２が供給され、かつ気泡が被加工体７の表面に衝突す
る際の力学的作用により、必要としない領域のレジスト
層を物理的に除去でき、加工精度の高い現像処理が可能
である．第４図は従来のエッチング液撹拌装置の断面図
である． この図において、１１はウエハ、Ｉ２はウエハ１１を収
納するウエハキャリア、ｌ３は回転子、ｌ４はスクリュ
ーファン、１５はマグネットスターラーテーブルであり
、このマグネットスターラーテーブルｌ５の回転子１３
にスクリューファンＬ４を取付け、このスクリューファ
ンｌ４の回転によりエッチング液に水平方向及び鉛直方
向の対流をつくるように構戒されている（特開昭６０−
１１９７２８号参照）．（発明が解決しようとする課題
） しかしながら、上記構成の装置では、現像液に溶けたレ
ジスト残渣が現像液中に浮遊して、被加工体に再付着す
るといった問題があった．本発明は、以上述べたレジス
ト残渣の再付着の問題点を除去し、加工精度の高い現像
処理ができる優れたレジスト現像装１を提供することを
目的とする． （課題を解決するための手段） 本発明は、上記目的を達威するために、レジスト現像装
置において、現像槽（１１）中の現像液（１２）を攪拌
する手段と、被加工体（ｌ５）をその現像液中に浸す手
段と、前記被加工体（ｌ５〉から除去されるレジスト残
渣を捕獲する手段と、前記被加工体（１５）をその現像
液（ｌ２）中から取り出す手段を設けるようにしたもの
である． （作用） 本発明によれば、上記のように、レジスト現像に際して
、現像液（１２）を掻き混ぜる最中に被加工体（１５）
を浸し、必要としない領域のレジスト層を除去し、取り
出すことができる．その場合、被加工体（１５〉から除
去されるレジスト残渣は、フィルタ（ｌ７）により有効
に除去することができる．（実施例） 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する． 第１図は本発明の実施例を示すレジスト現像装置の断面
図、第２図はそのレジスト現像装置の斜視図である． これらの図において、ｌ１は現像槽、１２は現像液、ｌ
３は現像液を掻き混ぜるファン、ｌ４はファンｌ３を駆
動するモータ、ｌ５は被加工体（通常はウエハ）、ｌ６
は被加工体支持具、ｌ７はレジスト残渣を捕獲するフィ
ルタである． 次に、上記レジスト現像装置を用いた本発明のレジスト
現像手順について述べる． まず、被加工体ｌ５を現像液１２に浸す前にファンｌ３
を５０〜ｌ００ｒｐｍで回転させることにより、渦状の
水流を作る． その後、被加工体支持具１６を下降させ、被加工体１５
を現像液１２に浸す．すると、第１図に示すように、現
像液ｌ２中に溶け出したレジスト残渣は下方向への水流
に乗ってファン１３付近まで到達し、フィルタ１７に捕
獲される． なお、フィルタｌ７は脱着可能とし、目づまりしない程
度で交換する． また、フィルタ１７は残渣の流路に設ける。但し、ファ
ン１３によって現像液１２が攪拌されるように、大きさ
、位置を設定する．例えば第１図及び第２図に示すよう
に、ファン１３より外側で現像槽下方内壁に設ける． このように構成することにより、現像時のレジスト残渣
は下方のフィルタに捕獲されるので、被加工体に再付着
することがない． また、水流を積極的に発生させると共に、レジスト残渣
の除去を行うようにしているため、現像槽は小型化、及
び高効率のレジストの現像を行うことができる． なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない． （発明の効果） 以上、詳細に説明したように、本発明によれば、現像時
のレジスト残渣が下方のフィルタに捕獲されるので、被
加工体に再付着することがない．従って、より加工精度
の高い現像処理を行うことができる． また、水流を積極的に発生させると共に、レジスト残渣
の除去を行うようにしているため、現像槽を小型化する
ことができると共に、効率良くレジストの現像を行うこ
とができる．
第１図は本発明の実施例を示すレジスト現像装置の断面
図、第２図はそのレジスト現像装置の斜視図、第３図は
従来のレジスト現像装置の断面図、第４図は従来のエッ
チング液攪拌装置の断面図である． １ｌ・・・現像槽、１２・・・現像液、１３・・・ファ
ン、ｌ４・・・モータ、 １５・・・被加工体、ｌ６・・・被加工体支持具、ｌ７
・・・フィルタ．
図、第２図はそのレジスト現像装置の斜視図、第３図は
従来のレジスト現像装置の断面図、第４図は従来のエッ
チング液攪拌装置の断面図である． １ｌ・・・現像槽、１２・・・現像液、１３・・・ファ
ン、ｌ４・・・モータ、 １５・・・被加工体、ｌ６・・・被加工体支持具、ｌ７
・・・フィルタ．
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （ａ）現像槽中の現像液を攪拌する手段と、（ｂ）被加
工体をその現像液中に浸す手段と、（ｃ）前記被加工体
から除去されるレジスト残渣を捕獲する手段と、 （ｄ）前記被加工体をその現像液中から取り出す手段と
を具備することを特徴とするレジスト現像装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15842889A JP2810419B2 (ja) | 1989-06-22 | 1989-06-22 | レジスト現像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15842889A JP2810419B2 (ja) | 1989-06-22 | 1989-06-22 | レジスト現像装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0324716A true JPH0324716A (ja) | 1991-02-01 |
| JP2810419B2 JP2810419B2 (ja) | 1998-10-15 |
Family
ID=15671545
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15842889A Expired - Fee Related JP2810419B2 (ja) | 1989-06-22 | 1989-06-22 | レジスト現像装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2810419B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03100555A (ja) * | 1989-09-13 | 1991-04-25 | Konica Corp | Ｐｓ版の処理装置 |
| JP2014082234A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | ディップ式現像装置及び半導体ウェーハの現像方法 |
| CN110888305A (zh) * | 2018-09-07 | 2020-03-17 | 王彦智 | 高阶负型光阻剥膜槽 |
-
1989
- 1989-06-22 JP JP15842889A patent/JP2810419B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03100555A (ja) * | 1989-09-13 | 1991-04-25 | Konica Corp | Ｐｓ版の処理装置 |
| JP2014082234A (ja) * | 2012-10-12 | 2014-05-08 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | ディップ式現像装置及び半導体ウェーハの現像方法 |
| CN110888305A (zh) * | 2018-09-07 | 2020-03-17 | 王彦智 | 高阶负型光阻剥膜槽 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2810419B2 (ja) | 1998-10-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080731 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |