JPH03245106A - 光学プレート - Google Patents
光学プレートInfo
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- JPH03245106A JPH03245106A JP9041090A JP4109090A JPH03245106A JP H03245106 A JPH03245106 A JP H03245106A JP 9041090 A JP9041090 A JP 9041090A JP 4109090 A JP4109090 A JP 4109090A JP H03245106 A JPH03245106 A JP H03245106A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 27
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 24
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 24
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims abstract description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 9
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- -1 azide compound Chemical class 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N azide group Chemical group [N-]=[N+]=[N-] IVRMZWNICZWHMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229940114081 cinnamate Drugs 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000012985 polymerization agent Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical compound [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ライトガイド、イメージガイド、デイスプレ
ィなどに利用される光学プレートに関する。
ィなどに利用される光学プレートに関する。
従来、光学プレートを実現する方法としては、例えば光
フアイバアレイが挙げられる。光フアイバアレイによっ
て光学プレートを作製する方法としては、光ファイバを
多数本整列させ接着剤等で固定した後、所望のサイズに
切断し切断面を研磨することによって得られる。
フアイバアレイが挙げられる。光フアイバアレイによっ
て光学プレートを作製する方法としては、光ファイバを
多数本整列させ接着剤等で固定した後、所望のサイズに
切断し切断面を研磨することによって得られる。
上述したように光フアイバアレイを作製する方法は極め
て複雑かつ生産性の悪いものである。また、光ファイバ
の径は必らずしも均一でないために、光ファイバを最密
充填した場合、光ファイバが規則正しく配列した光学プ
レートを作製することが極めて困難である。特に、デイ
スプレィ等に光学プレートを用いた場合、画像品質が劣
化する。
て複雑かつ生産性の悪いものである。また、光ファイバ
の径は必らずしも均一でないために、光ファイバを最密
充填した場合、光ファイバが規則正しく配列した光学プ
レートを作製することが極めて困難である。特に、デイ
スプレィ等に光学プレートを用いた場合、画像品質が劣
化する。
本発明は、上記の背景を踏まえて鋭意検討の結果、光学
プレートの単位セルをフォトリソグラフによって形成す
ることにより、大面積の光学プレートを生産性良く作製
できるものであり、特に、デイスプレィ等に用いられる
単位セルが規則正しく配列した光学プレートを可能とす
るものである。
プレートの単位セルをフォトリソグラフによって形成す
ることにより、大面積の光学プレートを生産性良く作製
できるものであり、特に、デイスプレィ等に用いられる
単位セルが規則正しく配列した光学プレートを可能とす
るものである。
即ち、本発明は、低屈折率の壁と高屈折率の柱からなる
単位セルを平面状に整列してなる光学プレートにおいて
、壁または柱が感光性樹脂のフォトリソグラフにより形
成された光学プレートである。
単位セルを平面状に整列してなる光学プレートにおいて
、壁または柱が感光性樹脂のフォトリソグラフにより形
成された光学プレートである。
本発明を、第1図をもって説明する。第1図の光学プレ
ートにおいて、高屈折率の柱は円柱の部分であり、低屈
折率の壁は柱を囲む外側の中空の円柱を有する部分であ
る。これらの、柱2及び壁1によって単位セルが形成さ
れる。当該単位セルが光導波路を形成し、光を伝搬する
ものである。
ートにおいて、高屈折率の柱は円柱の部分であり、低屈
折率の壁は柱を囲む外側の中空の円柱を有する部分であ
る。これらの、柱2及び壁1によって単位セルが形成さ
れる。当該単位セルが光導波路を形成し、光を伝搬する
ものである。
即ち、壁1がクランド部、柱2がコア部の役割を担って
いる。
いる。
本発明において壁1及び柱2の形状即ち単位セルの形状
は第1図に示した円柱形に限定されるものではなく、種
々の形状を取ることが出来る。具体例として、三角柱、
四角柱、五角柱、6角柱などの多角柱、円柱および楕円
柱などを挙げることが出来る。単位セルを平面状に整列
させる場合、三角形、四角形、六角形などの単位セルは
最密充填配列により間隙を無くすことが可能であるが、
五角形や円柱などの単位セルは最密充填した場合でも間
隙が生しる。その間隙が出来ないようにフォトリソグラ
フ時に第1図のような形状を有する壁を形成しても良い
し、生した間隙を樹脂などを注入して埋めても良いし、
単位セルの光伝搬特性に悪影響が生じない場合は間隙が
あるままでも良い。
は第1図に示した円柱形に限定されるものではなく、種
々の形状を取ることが出来る。具体例として、三角柱、
四角柱、五角柱、6角柱などの多角柱、円柱および楕円
柱などを挙げることが出来る。単位セルを平面状に整列
させる場合、三角形、四角形、六角形などの単位セルは
最密充填配列により間隙を無くすことが可能であるが、
五角形や円柱などの単位セルは最密充填した場合でも間
隙が生しる。その間隙が出来ないようにフォトリソグラ
フ時に第1図のような形状を有する壁を形成しても良い
し、生した間隙を樹脂などを注入して埋めても良いし、
単位セルの光伝搬特性に悪影響が生じない場合は間隙が
あるままでも良い。
本発明に用いられる感光性樹脂としては、種々のものを
用いることが出来る。&[l或による分類によれば、■
感光性化合物+高分子型、■感光基を持つ高分子型、■
光重合&1ltc型の三つに大きく分類できる。■に属
するものとしては、例えば、重クロム酸塩1高分子化合
物、ジアゾまたはアジド化合物+高分子化合物などがあ
り、感光性化合物が光により活性化されて高分子化合物
と反応し、光照射前と性質を異にする組成物となること
を利用するものである。■に属するものとしては、例え
ば、ポリ桂皮酸ビニルもしくはその類似化合物またはジ
アゾ基やアジド基を有する高分子などがあり、光による
高分子間の架橋を利用する。■に属するものとしては、
光重合性開始剤と重合性モノマの混合物の形が多く知ら
れている。
用いることが出来る。&[l或による分類によれば、■
感光性化合物+高分子型、■感光基を持つ高分子型、■
光重合&1ltc型の三つに大きく分類できる。■に属
するものとしては、例えば、重クロム酸塩1高分子化合
物、ジアゾまたはアジド化合物+高分子化合物などがあ
り、感光性化合物が光により活性化されて高分子化合物
と反応し、光照射前と性質を異にする組成物となること
を利用するものである。■に属するものとしては、例え
ば、ポリ桂皮酸ビニルもしくはその類似化合物またはジ
アゾ基やアジド基を有する高分子などがあり、光による
高分子間の架橋を利用する。■に属するものとしては、
光重合性開始剤と重合性モノマの混合物の形が多く知ら
れている。
本発明における感光性樹脂は、上に述べた組成のみでも
、目的を達することが出来るが、必要に応して添加剤を
加えることができる。添加剤としては、光増感剤、安定
化剤、熱重合開始剤、可塑剤、傾向剤、着色剤などが挙
げられる。
、目的を達することが出来るが、必要に応して添加剤を
加えることができる。添加剤としては、光増感剤、安定
化剤、熱重合開始剤、可塑剤、傾向剤、着色剤などが挙
げられる。
本発明の感光性樹脂は、フォトリソグラフを施すことに
より光導波路となるものであるから、導波される光の波
長に対して実質的に透過性でなければならない。導波さ
れる光が、可視光または近赤外光である場合は、感光性
樹脂としては、紫外光に感度即ち吸収を有するものが好
ましい。かかる感光性樹脂としては、ポリメチルメタク
リレート、ポリスチレンなどの高分子化合物、多官能(
メタ)アクリレートモノマおよび光重合性開始剤を構成
成分とする感光性樹脂&[l酸物が挙げられる。
より光導波路となるものであるから、導波される光の波
長に対して実質的に透過性でなければならない。導波さ
れる光が、可視光または近赤外光である場合は、感光性
樹脂としては、紫外光に感度即ち吸収を有するものが好
ましい。かかる感光性樹脂としては、ポリメチルメタク
リレート、ポリスチレンなどの高分子化合物、多官能(
メタ)アクリレートモノマおよび光重合性開始剤を構成
成分とする感光性樹脂&[l酸物が挙げられる。
本発明におけるフォトリソグラフとは、所望の形状パタ
ーンを有するフォトマスクを介して、紫外線などの光を
支持体上の感光性樹脂に露光し、または電子線ビーム等
の光を所望のパターンで感光性樹脂に露光した後、露光
部と未露光部との現像液に対する溶解性の差を利用して
未露光部を洗い流し、所望形状のパターンの壁または柱
を得る方法をいう。
ーンを有するフォトマスクを介して、紫外線などの光を
支持体上の感光性樹脂に露光し、または電子線ビーム等
の光を所望のパターンで感光性樹脂に露光した後、露光
部と未露光部との現像液に対する溶解性の差を利用して
未露光部を洗い流し、所望形状のパターンの壁または柱
を得る方法をいう。
上記の露光時に、露光部の当該感光性樹脂の重合を阻害
する酸素を低減する目的で不活性雰囲気下で行ったり、
酸素透過性の低いシートを感光性樹脂に密着させるなど
の方法を取り入れることも可能である。上記現像液とし
ては、露光部である当該感光性樹脂の重合物二二対する
熔解性が未露光部である当該感光性に対する溶解性より
も低いものであれば、特に限定されるものではなく、ま
た、最適な現像液も当然感光性樹脂の&i1底に依存す
る。
する酸素を低減する目的で不活性雰囲気下で行ったり、
酸素透過性の低いシートを感光性樹脂に密着させるなど
の方法を取り入れることも可能である。上記現像液とし
ては、露光部である当該感光性樹脂の重合物二二対する
熔解性が未露光部である当該感光性に対する溶解性より
も低いものであれば、特に限定されるものではなく、ま
た、最適な現像液も当然感光性樹脂の&i1底に依存す
る。
前記の感光性樹脂に対して、好ましい現@液の例を挙げ
れば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
1,1.L)リクロロエタン、酢酸エチル、酢酸ブチル
、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン等がある。
れば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
1,1.L)リクロロエタン、酢酸エチル、酢酸ブチル
、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン等がある。
本発明の光学プレートは、本質的には光導波路となる単
位セルを平面状に整列させてなるものであるが、必要に
応して支持体、保護フィルム等を設置させることが出来
る。
位セルを平面状に整列させてなるものであるが、必要に
応して支持体、保護フィルム等を設置させることが出来
る。
以下、実施例により本発明を説明する。
実施例1
厚さ111I11のアクリル板を支持体とし、厚さ0.
2mmのスペーサを用い、官能性アクリレート1日本化
薬■製HX−200およびメヂルメタアクリレート〕、
ポリメチルメタアクリレート及びベンジルジメチルケタ
ール(光重合開始剤)を主成分とする感光性樹脂を注入
し、離型処理を施した厚さ25μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルムを保護フィルムとして展延したのち
、サイズ500μmの円形ドツトをピンチ700μmで
形成されたフォトマスクを設置した。これらの様子を第
2図に示す。
2mmのスペーサを用い、官能性アクリレート1日本化
薬■製HX−200およびメヂルメタアクリレート〕、
ポリメチルメタアクリレート及びベンジルジメチルケタ
ール(光重合開始剤)を主成分とする感光性樹脂を注入
し、離型処理を施した厚さ25μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルムを保護フィルムとして展延したのち
、サイズ500μmの円形ドツトをピンチ700μmで
形成されたフォトマスクを設置した。これらの様子を第
2図に示す。
上記のフォトマスクを介して、高圧水銀ランプから紫外
線を150On+j / cn照射し、70°Cで10
分間加熱し、保護フィルム及びスペーサを除去した後、
1.1.1− )リクロロエタンで現像し、壁を形成し
た。
線を150On+j / cn照射し、70°Cで10
分間加熱し、保護フィルム及びスペーサを除去した後、
1.1.1− )リクロロエタンで現像し、壁を形成し
た。
得られた円柱状の柱からなる間隙に、官能性含臭素アク
リレート「第1工業製薬製、GX−6094PJ、ポリ
スチレンおよびジベンゾイル(熱重合剤)からなる液状
組rN2物を注入し、100℃で1時間加熱し第1図に
示す如き光学プレートを得た。
リレート「第1工業製薬製、GX−6094PJ、ポリ
スチレンおよびジベンゾイル(熱重合剤)からなる液状
組rN2物を注入し、100℃で1時間加熱し第1図に
示す如き光学プレートを得た。
得られた光学プレートの壁の屈折率は1.49、柱の屈
折率は1.59であり、良好な光導波特性を示した(屈
折率はアツベ屈折計による測定)。
折率は1.59であり、良好な光導波特性を示した(屈
折率はアツベ屈折計による測定)。
実施例2
厚さ1mmのアクリル板を支持体とし、厚さ0.2Il
raのスペーサを用い、官能性含弗素アクリレート(大
日本インキ製、デイフェンサーフ702)と光重合開始
剤を主成分とする感光性樹脂を注入し、離型処理を施し
た厚さ25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
を保護フィルムとして展延したのち、サイズ200μ−
の六角形ドツトをピッチ300μmで形成されたフォト
マスクを設置した。これらの様子を第2図に示す。
raのスペーサを用い、官能性含弗素アクリレート(大
日本インキ製、デイフェンサーフ702)と光重合開始
剤を主成分とする感光性樹脂を注入し、離型処理を施し
た厚さ25μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
を保護フィルムとして展延したのち、サイズ200μ−
の六角形ドツトをピッチ300μmで形成されたフォト
マスクを設置した。これらの様子を第2図に示す。
上記のフォトマスクを介して、高圧水銀ランプから紫外
線を10100O/cd照射し、70°Cで10分間加
熱し、保護フィルム及びスペーサを除去した後、1.1
.1− )リクロロエタンで現像し、壁を形成した。
線を10100O/cd照射し、70°Cで10分間加
熱し、保護フィルム及びスペーサを除去した後、1.1
.1− )リクロロエタンで現像し、壁を形成した。
得られた壁からなる間隙に、実施例1で用いた液状組成
物を注入し、高圧水銀ランプからの紫外線を2000m
j / cnl照射した。
物を注入し、高圧水銀ランプからの紫外線を2000m
j / cnl照射した。
得られた光学プレートの壁の屈折率は1.42、柱の屈
折率は1.49であり、良好な先導波特性を示した。
折率は1.49であり、良好な先導波特性を示した。
感光性樹脂のフォトリソグラフによって、壁または柱を
形成することにより、大面積かつ高精度の光プレートを
生産性良く形成することが出来る。
形成することにより、大面積かつ高精度の光プレートを
生産性良く形成することが出来る。
第1図は、本発明の光プレートの一実施態様の斜視図で
ある。 第2図は、本発明の光プレートをフォトリソグラフによ
り形成する方法の具体例を示す正面図である。 ■・・・・・・壁、2・・・・・・柱、3・・・・・・
支持体、4・・・・・・感光性樹脂、5・・・・・・フ
ォトマスク、6・・・・・・スペーサ、7・・・・・・
保護フィルム。 第1図 U■
ある。 第2図は、本発明の光プレートをフォトリソグラフによ
り形成する方法の具体例を示す正面図である。 ■・・・・・・壁、2・・・・・・柱、3・・・・・・
支持体、4・・・・・・感光性樹脂、5・・・・・・フ
ォトマスク、6・・・・・・スペーサ、7・・・・・・
保護フィルム。 第1図 U■
Claims (1)
- 1 低屈折率の壁と高屈折率の柱からなる単位セルを平
面状に整列させてなる光学プレートにおいて、壁または
柱が感光性樹脂のフォトリソグラフにより形成されたこ
とを特徴とする光学プレート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9041090A JPH03245106A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 光学プレート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9041090A JPH03245106A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 光学プレート |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03245106A true JPH03245106A (ja) | 1991-10-31 |
Family
ID=12598775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9041090A Pending JPH03245106A (ja) | 1990-02-23 | 1990-02-23 | 光学プレート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03245106A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5462700A (en) * | 1993-11-08 | 1995-10-31 | Alliedsignal Inc. | Process for making an array of tapered photopolymerized waveguides |
US5481385A (en) * | 1993-07-01 | 1996-01-02 | Alliedsignal Inc. | Direct view display device with array of tapered waveguide on viewer side |
US5928819A (en) * | 1996-12-19 | 1999-07-27 | Xerox Corporation | Methods to fabricate optical equivalents of fiber optic face plates using reactive liquid crystals and polymers |
-
1990
- 1990-02-23 JP JP9041090A patent/JPH03245106A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5481385A (en) * | 1993-07-01 | 1996-01-02 | Alliedsignal Inc. | Direct view display device with array of tapered waveguide on viewer side |
US5462700A (en) * | 1993-11-08 | 1995-10-31 | Alliedsignal Inc. | Process for making an array of tapered photopolymerized waveguides |
US5928819A (en) * | 1996-12-19 | 1999-07-27 | Xerox Corporation | Methods to fabricate optical equivalents of fiber optic face plates using reactive liquid crystals and polymers |
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