JPH03235332A - 乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体製造工程で用いられる基板洗浄装置な
どにおける乾燥装置に関する。

従来の技術 第３図は半導体製造工程においてウェハやガラス基板な
どの洗浄に使用される一般的な洗浄装置の概要を示す平
面図であり、第４図はその洗浄装置の縦断面図である。

たとえば液晶パネルの製造工程におけるガラス基板の洗
浄処理は、ガラス基板の収容容器であるカセットに通常
１０ット分として１０〜４０枚のガラス基板をセットし
た状態で行われる。

この場合に用いられる洗浄装置の洗浄方式としては、上
記カセットからガラス基板を１枚ずつ取り出して洗浄す
る枚葉処理方式と、カセットごと洗浄するバッチ処理方
式の２種類がある。第３図および第４図に示す洗浄装置
は、そのうちのバッチ処理方式のものを示している。

上記洗浄装置において、ローダ１はガラス基板の収容さ
れたカセットを洗浄室２に搬入するために待機させてお
く装置である。このローダ１に隣接する洗浄室２には、
薬液槽３、−次水洗槽４、最終水洗槽５および乾燥槽６
がローダ１側からこれらの順序で１列に並べて配置され
ている。また洗浄室２の上部にはレール７にガイドされ
て上記カセットを搬送する搬送ロボット８が設けられて
いる。

さらに洗浄室２の乾燥槽６側に隣接して、洗浄処理を終
えたガラス基板をカセットに収容したまま洗浄装置の外
に取り出すために待機させておくアンローダ９が配置さ
れている９０−ダ１、アンローダ９の設置空間の上部お
よび洗浄室２の上部にはこれらの空間を高い清浄度に保
つためのクリーンベンチ１０がそれぞれ設けられている
。

上記洗浄装置において、ローダ１にセットされたカセッ
トは搬送ロボット８のチャッキングアーム１１によって
持ち上げられ、まず薬液槽３中に浸漬してガラス基板の
薬液処理が行われる。薬液処理後、カセットのガラス基
板はさらに搬送ロボット８によって次の一次水洗槽４中
に浸漬されて水洗処理される。次に最終水洗槽５中に浸
漬されて再度水洗処理が行われ、さらに乾燥槽６でガラ
ス基板の乾燥処理が行われる。

この場合、上記乾燥槽６と搬送ロボット８とは引上げ乾
燥装置を構成している。

第５図は、その引上げ乾燥装置の概略的な構成を示す縦
断面図である。乾燥槽６は外槽６ａと内槽６ｂとからな
る二重構造を持ち、その内槽６ｂには洗浄水１２が満た
される。この洗浄水１２は、内槽６ｂ底部に連通しバル
ブ１３で開閉される給排水管１４を経て供給または排水
される。

搬送ロボット８によって内槽６ｂの洗浄水１２中に浸漬
されたカセット１５は同じ搬送ロボット８によって２０
〜３０　ｍ　ｍ　／　ｍ　ｉ　ｎ程度の低速度で引き上
げられ、カセット１５内のガラス基板１６はこの引上げ
期間中に洗浄水１２の液面から露呈するときの洗浄水１
２の表面張力でシミのない理想的な状那に乾燥される。

カセット１５の昇降は、カセット１５の外表面に設けら
れた突起１７を搬送ロボット８のチャッキングアーム１
１が把持することによって行われる。

発明が解決しようとする課題 しかしながら、上述した従来の洗浄装置における引上げ
乾燥装置の場合には、搬送ロボット８による乾燥槽６か
らのカセット１５の引上げ動作が乾燥槽６の真上で行わ
れ、しかもその引上げ動作は低速度で長時間かけて行わ
れるため、搬送ロボット８の駆動にともなって発生する
ダストが長時間に互って乾燥槽６内に入り続け、乾燥処
理対象のガラス基板１６に悪影響を与えるという問題点
を有する。

また、搬送ロボット８の稼働時間のうち上記引上げ乾燥
処理に占める時間が長くなるため、洗浄装置全体が単位
時間に処理する仕事の量つまりスループットがそれだけ
低下するという問題点も有する。この問題は搬送用のロ
ボットとは別に引上げ乾燥用のロボットを設ければ解決
できるが、それでは２台のロボットを要することになり
構成が複雑になるとともに装置のコストも大幅に増大す
るという新たな問題が生じる。

したがって本発明の目的は、ダストの発生がなく構成が
簡単で、乾燥処理と連係して行われる他の処理の能率を
低下させることなく板状物体の乾燥処理を効率良く行う
ことのできる乾燥装置を提供することである。

課題を解決するための手段 本発明は、板状物体を処理する処理液を収容する処理槽
と、 前記処理槽から処理液を順次排出して処理液面を降下さ
せ、処理液中に立役姿勢で浸漬される板状物質および板
状物質を収納しているカセ・ントの表面を処理液から徐
々に露呈させる処理液排出手段と、 処理液面の上部に空気流を生じさせる空気流生成手段と
を備えたことを特徴とする乾燥装置である。

作　　用 本発明に従えば、処理槽の上方からロボ・ント（こよっ
て処理槽内の板状物体を引き上げるのではなく、処理槽
から処理液を順次排出させること（こよって処理液面を
降下させ、板状物体の表面を処理液から徐々に露呈させ
るとともに、露出した板状物体の表面に空気流を当てて
乾燥処理するものであるから、処理槽の上方からダスト
が落ちると１）うことがない。また板状物体を他の処理
段から持ち運んでくる搬送ロボットなどを乾燥処理に併
用しないので、乾燥処理と連係する他の処理の能率を低
下させることもない。

実施例 第１図は本発明の一実施例である乾燥装置の概略的な構
成を示す縦断面図であり、第２図は第１図の切断面線■
−■から見た断面図である。

この乾燥装置は、上述したバッチ処理方式の基板洗浄装
置におけるガラス基板の乾燥処理を担う装置であって、
洗浄水１２を満たす乾燥槽１８の内側には複数の六１９
ａが散在するパンチング板１９によって有底箱状に形成
されたカセット収容体２０が配置されている。このカセ
ット収容体２０はその底面が乾燥槽１８の底面からやや
浮き上がるように支持体１９ｂを介して乾燥槽１８底面
上に支持され、またそのカセット収容体２０の底面は第
２図に示すように水平面となっている乾燥槽１８の底面
に対して少し傾斜をなすように設定されている。

乾燥槽１８の一部側壁とこれに対向するカセット収容体
２０の側壁とで挟まれる空間には、洗浄水１２上に浮上
するフロート２１が昇降自在に配置され、このフロート
２１には乾燥槽１８の側壁と対向して排気ダクト２２を
構成するダクトカバー２３が垂設されている。さらに、
ダクトカバー２３の下端部には開口２３ａが形成されて
いる。

上記乾燥槽１８はその底面部においてパイプ２４を介し
て定量ポンプ２５に連通させられており、定量ポンプ２
５で乾燥槽１８に対して洗浄水１２を給排水するように
しである。パイプ２４の途中にはこれを開閉するバルブ
２６が設けられている。

なお、カセット収容体２０の底面には、収容されるカセ
ット１５をその底面から少し浮き上がらせて、底面での
パンチング板１つの穴１９ａから洗浄水１２の排水を効
果的に行うための突起２７が設けられている。

複数枚のガラス基板１６を収容したカセ・ソト１５をカ
セット収容体１５内に収容し、またカセ・ノド収容体１
５内から引き上げるのには、従来の乾燥装置の場合と同
様に搬送ロボット８が用いられる。また、乾燥槽１８の
上方には清浄度の高い空気を流し込む図示しないクリー
ンベンチが設けられ、カセット１５の外表面には搬送ロ
ボット８のチャッキングアーム１１で把持するための突
起部１７が設けられていることも、従来の場合と同様で
ある。

次に上記乾燥装置によるガラス基板１６の乾燥処理の動
作について説明する。

洗浄水１２を十分溝たした状態にある乾燥槽１８のカセ
ット収容体２０内に、搬送ロボット８によって搬送され
てきたカセット１５が収容されガラス基板１６が洗浄水
１２中に完全に浸漬された後、乾燥槽１８の洗浄水１２
はその水位が毎分２０〜３０ｍｍ程度の速度でゆっくり
排水される。

その際槽内の液面が低下し、水圧が変化することにより
排水量が変わるのを防ぐため、定量ポンプを設け、排水
量を一定に保っている。

この水面降下に伴ってガラス基板１６は洗浄水１２から
徐々に露出し、そのときの洗浄水１２の表面張力によっ
て露出したガラス基板１６表面の水切りが効率良く行わ
れる。また、乾燥槽１８の上方の図示しないクリーンベ
ンチから供給される清浄度の高い空気流が露出したガラ
ス基板１６の表面に吹き付けられ、乾燥時間の短縮化が
はかられる。搬送ロボット８はカセット１５をカセット
収容体２０に収容した後は乾燥槽１８の上方から退避さ
れ、この間、上方から搬送ロボット８の駆動に起因する
ダストが降下することはない。

このようにして、シミのない理想的な乾燥処理がガラス
基板１６に対して効率良く行われる。クリーンベンチか
ら吹き付けられる空気流は、カセット収容体１５を構成
するパンチング板１９のうち洗浄水１２から露出する側
壁部分の穴１９ａおよびダクトカバー２３の開口２３ａ
から排気ダクト２２を経て乾燥装置の外部へと排気され
る。その際、液面低下にぎわせてフロート２１も低下す
る事から、排気口２３ａを一定に保つことで排気圧力も
一定に保つことができるため、クリーンベンチから供給
されるエアーの流れを整えることができる。

また、カセット１５はカセット収容体２０内に傾斜姿勢
で収容されるためガラス基板１６も同じ傾斜姿勢となっ
て、その下端における水切れが良くなり、乾燥時間がそ
れだけ短縮される。さらに、カセット収容体２０の底面
は乾燥槽１８の底面からやや浮き上がるように配置され
ているので、乾燥槽１８の底部に一部の洗浄水１２が残
ってもカセット１５底部にその洗浄水１２が付着するこ
とはない。

乾燥槽１８内の洗浄水１２が全部排水されると、カセッ
ト１５は搬送ロボット８に把持されて図示しないアンロ
ーダへと搬送され、これによって乾燥処理が終了する。

発明の効果 以上のように、本発明の乾燥装置によれば、処理槽から
処理液を順次排出させることによって処理液面を降下さ
せ、板状物質および板状物質を収納しているカセットの
表面を処理液から徐々に露呈させるとともに、処理液面
の上部に空気流を生成させてこの空気流で露出した板状
物体の表面を乾燥させるようにし、板状物体を他の処理
段がら持ち運んでくる搬送ロボットなどを乾燥処理に併
用しない構成としているので、処理槽の上方からダスト
が落ちるということがなく、また乾燥処理と連係する他
の処理の能率を低下させることなく効率よく乾燥処理を
行うことができる。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の一実施例である乾燥装置の概略的な構
成を示す縦断面図、第２図は第１図の切断面線ト］から
見た断面図、第３図は一般的なバッチ処理方式の基板洗
浄装置の概要を示す平面図、第４図はその基板洗浄装置
の概要を示す縦断面図、第５図はその基板洗浄装置にお
ける引上げ乾燥装置の概略的な構成を示す縦断面図であ
る。 １２・・・洗浄水、１５・・・カセット、１６・・・ガ
ラス基板、１８・・・乾燥槽、１９・・パンチング板、
２０・・・カセット収容体、２２・・・排気ダクト、２
４・・・パイプ、２５・・定量ポンプ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 板状物体を処理する処理液を収容する処理槽と前記処理
   槽から処理液を順次排出して処理液面を降下させ、処理
   液中に立設姿勢で浸漬される板状物質および板状物質を
   収納しているカセットの表面を処理液から徐々に露呈さ
   せる処理液排出手段と、 処理液面の上部に空気流を生じさせる空気流生成手段と
   を備えたことを特徴とする乾燥装置。