JPH03230746A - 直線駆動装置 - Google Patents

直線駆動装置

Info

Publication number
JPH03230746A
JPH03230746A JP2327390A JP2327390A JPH03230746A JP H03230746 A JPH03230746 A JP H03230746A JP 2327390 A JP2327390 A JP 2327390A JP 2327390 A JP2327390 A JP 2327390A JP H03230746 A JPH03230746 A JP H03230746A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
forming member
field forming
movable element
moved
magnetic field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2327390A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2651732B2 (ja
Inventor
Hiroshi Ishii
洋 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2023273A priority Critical patent/JP2651732B2/ja
Priority to EP90304115A priority patent/EP0393994B1/en
Priority to DE69009841T priority patent/DE69009841T2/de
Priority to US07/509,806 priority patent/US5208497A/en
Publication of JPH03230746A publication Critical patent/JPH03230746A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2651732B2 publication Critical patent/JP2651732B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Linear Motors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は精密な位置決め制御1することを要するウェハ
ー露光用X−Yステージ等としての利用が可能な直線駆
動装置に関する。
〈従来の技術〉 第3図は従来の直線駆動装置の模式図である。
V中1は直方形をなした除振台である。除振台1の裏面
側縁部には、空気バネの振動吸収部材4が複数個(図中
では4個)設けられている。この除振台1上には、直線
駆動装置の主要構成である可動子3と磁場形成部材2の
双方が設けられている。
可動子3は図外のガイド軸により、除振台1上、図示矢
印方向に直線移動自在にされている一方、磁場形成部材
2は除振台l上に固定されている。
つまり磁場形成部材2からの磁束が鎖交した状態で可動
子3に所定の励磁電流が供給されると、可動子3に推進
力Fが作用するようになっており、可動子3に供給する
励磁電流が調節されることにより、可動子3に連結され
た図外の被移動対象の位置決め制御が行われるようにな
っている。
この位置決め制御の精度を高める上では、人間が周りを
歩いたとき等の床面5より伝達される振動による影響が
問題となるので、床面5と除振台lとの間に介在された
振動吸収部材4により床面5からの振動を吸収し除振台
lには振動が伝達されないように工夫されている。
〈発明が解決するだめの課題〉 しかしながら、上記従来例による場合には、次に述べる
ような欠点が措摘されている。
第1の欠点としては、可動子3に励磁電流が供給され推
進力Fが作用すると、この推進力Fの反作用として磁場
形成部材2に反力Frが作用し除振台lにも伝達され、
結果として除振台lが振動したり変形する等の不都合が
発生する。特に、この欠点は被移動対象を高加速度運動
させる場合には助長される。
第2の欠点としては、可動子3に連結された被移動対象
の移動に伴って除振台1の重心位置も変化し、この変化
によって除振台lが傾くという不都合が発生する。特に
、この欠点は装置が大型化した場合には助長される。
本発明は上記事情に鑑みて創案されたものであり、その
目的とするところは、磁場形成部材に反力が作用しても
、除振台が振動したり傾いたりするようなことのない直
線駆動装置を提供することにある。
〈課題を解決するための手段〉 本発明にかかる直線駆動装置は、床面に空気バネその他
の振動吸収部材を介して載置された除振台上に設けてあ
り、11形成部材からの磁束を受けて可動子に推進力を
作用せしめ、被移動対象を直線駆動する装置であって、
前記磁場形成部材を前記除振台上で反推進力方向に直線
移動自在にしである。
〈作用〉 磁場形成部材からの磁束を受けて可動子に推進力Fが作
用すると、可動子に連結された被移動対象が除振台上で
直線移動する。と同時に、推進力Fの反作用として磁場
形成部材に反力Frが作用し、磁場形成部材が反力方向
、即ち、反推進力方向に除振台上で直線移動する。それ
故、磁場形成部材に作用した反力Frは除振台に伝達さ
れない。
また、可動子とともに被移動対象が推進力方向に移動す
ると、磁場形成部材も反推進力方向に移動するので、被
移動対象の移動に伴う除振台の重心位置に変化はない。
〈実施例〉 以下、本発明にかかる直線駆動装置の一実施例を図面を
参照して説明する。第1図は初期状態を示す直線駆動装
置の模式図、第2図は作動後の状態を示す第1図に対応
する図である。
ここに掲げる直線駆動装置はウェハー露光用XYステー
ジ用のりニアモータであって、第1図及び第2図では、
被移動対象としてのウェハー(図示せず)をX方向に移
動させるに要する構成を模式的に示した図であり、Y方
向に移動させるに要する構成は図示省略されている。
図中1は直方形をなした除振台である。除振台1の裏面
側縁部には、空気バネの振動吸収部材4が複数個(図中
では4個)設けられており、振動吸収部材4により床面
5からの振動を吸収し除振台lには伝達されないように
している。
この除振台l上に二よりニアモータの主要構成である可
動子3と磁場形成部材2の双方が設けられている。
可動子3は図示されていないが継鉄に多相コイルを取り
付けた構造となっており、ガイド軸によりX方向に直線
移動自在にされている。これSこ対して、磁場形成部材
2は図示されていないが固定子継鉄に永久磁石をNi、
S極と交互に着磁せしめた構造となっており、別のガイ
ド機構により同じくX方向に直線移動自在にされている
即ち、直線駆動装置は、磁場形成部材2からの磁束が鎖
交した状態で可動子3に所定の励磁電流が供給されると
、可動子3に推進力Fが作用し可動子3に連結された被
移動対象がX方向に移動するようになっている。移動対
象をY方向(図面手前方向)に移動させる構成について
も上記と同様であり、可動子3に供給する励磁電流が調
節されることにより、被移動対象がX−Y平面内で位置
決め制御されるような基本構成となっている。
上記のように構成された直線駆動装置では、被移動対象
がどのように動かされても除振台lに振動が発生せず、
しかもその重心位置に変化が生しるようなことがない。
以下、この原理について第1図及び第2図を参照して詳
しく説明する。
第1図は可動子3の初期状態を示している。ここで、被
移動対象を含めた可動子3の質量をM3、磁場形成部材
2の質量をM2、両者を含めたものについての重心位置
をGとする。また、可動子3の重心位置と重心位置Gと
の距離をL3、磁場形成部材2の重心位置と重心位置G
との距龍をL2とすると、次の関係式が成立する。
M2 ・L z = M 3  ・L3 ・・・■この
状態で、可動子3の多相コイルに所定の励磁電流が供給
されると、可動子3に推進力Fが作用し、可動子3とと
もに被移動対象が推進力方向(X方向)に直線移動する
第2図は可動子3の作動後の状態を示している。
上記した可動子3の移動とともに、推進力Fの反作用と
して、磁場形成部材2には反力Frが作用し、磁場形成
部材2が反推進力方向(X方向)に直線移動する。それ
故、除振台1には反力Frが伝達されず、除振台lに振
動が発生するということはない。
更に、可動子3、磁場形成部材2が移動する過程につい
て詳しく説明する。まず、可動子3に作用する推進力を
F (t)としたときの可動子3の移動量をΔX3とす
る。すると、磁場形成部材2に作用する反力は F r (t)= −F (t)  ・・・■となり、
これにより磁場形成部材2がΔx2だけ反推進力方向に
移動する。
ここで、摺動負荷等の損失のない理想状態においては、
次のような関係式が成立する。
ΔX3 = S S F(t)/M:+ d t2・・
・■Δxz=ssFr(t)/M2dt”  ・・・■
■弐について0式を用いて変形すると ΔXz =  (MZ /  MZ )  ・ΔX3 
・・・■一方、初期の重心位置Gに対する可動子1、磁
場形成部材2の移動距離をそれぞれL=’、L3′とす
ると、次の関係式が成立する。
L、’ =L、+1ΔXz  l  ・・・■L3′=
L3+1ΔX! +  ・・・■従って、重心位置Gに
対する可動子3の回転モーメントMM、は、0式を用い
て、 MM、=M、  ・L、1 −M3 ・L3士MliΔX31・・・■となる。
一方、同しく重心位置Gに対する磁場形成部材2の回転
モーメン1−MM2は、■、0式を用いて、MV、 −
M、  ・L2 −Mz  (Lz ” :Δx2 ])−MM ・L 
2+ Mz  :   (M3 /  MZ )  ・ΔX3
=M、  ・L2+M3  ニーΔX3 1 ・・■と
なる。
従って、0式、■式、0式により、MM3=MM2とな
り、ここに可動子3、磁場形成部材2の移動後における
重心位置Gは初期状態から変化しないことが証明される
。重心位置Gに変化がなければ、当然、除振台1の重心
位置も変化が生しるようなことはない。ただ、この重心
位置に関する説明は、摺動負荷等の損失のない理想状態
を前提とするものであるが、手動負荷等の損失を極力小
さいような構造とするならば、可動子3とともに被移動
対象が移動しても、問題となるような除振台1の重心位
置に変化はない。
以上述べたような直線駆動装置による場合には、X−Y
平面内で被移動対象がどのように動かされても除振台1
に振動が発生せず、除振台lが傾く等の不都合が発生し
ない。それ故、直線駆動装置の位置決め制御の精度を高
める上で非常に大きな意義がある。特に、被駆動対象を
高加速度運動する場合や装置が大型の場合には特に大き
なメリットがある。
なお、本発明にかかる直線駆動装置と、除振台を有する
ものであるならば、如何なる種類のものでも適用し得る
ものであり、除振台についてもそれが水平に保たれるよ
うな構造であれば如何なるようものでもかまわない。
〈発明の効果〉 以上、本発明にかかる直線駆動装置は、磁場形成部材に
作用した反力Frが除振台に伝達されないようになって
いるので、可動子が直線駆動されても除振台が振動した
り変形するということがない。また、被駆動対象に連結
された可動子が直線移動すると、磁場形成部材も反対方
向に移動するようになっているので、可動子の移動に伴
う除振台の重心位置の変化もなく、除振台が傾くという
不都合も発生しない。特に、被駆動対象を高加速度運動
する場合や装置が大型の場合Qこは特に大きなメリット
がある。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明にかかる直線駆動装置の一実
施例を説明するための図であって、第1図は初期状態を
示す直線駆動装置の模式図、第2図は作動後の状態を示
す第1図に対応する図であり、第3図は従来の直線駆動
装置を説明するための第1図及び第2図に対応する図で
ある。 1・・・除振台 2・・・磁場形成部材 3・・・可動子 4・・・振動吸収部材 5・・・床面

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)床面に空気バネその他の振動吸収部材を介して載
    置された除振台上に設けてあり、磁場形成部材からの磁
    束を受けて可動子に推進力を作用せしめ、被移動対象を
    直線駆動する直線駆動装置において、前記磁場形成部材
    を前記除振台上で反推進力方向に直線移動自在にしてあ
    ることを特徴とする直線駆動装置。
JP2023273A 1989-04-17 1990-01-31 直線駆動装置 Expired - Lifetime JP2651732B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023273A JP2651732B2 (ja) 1990-01-31 1990-01-31 直線駆動装置
EP90304115A EP0393994B1 (en) 1989-04-17 1990-04-17 A linear driving apparatus
DE69009841T DE69009841T2 (de) 1989-04-17 1990-04-17 Linearantriebsgerät.
US07/509,806 US5208497A (en) 1989-04-17 1990-04-17 Linear driving apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023273A JP2651732B2 (ja) 1990-01-31 1990-01-31 直線駆動装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03230746A true JPH03230746A (ja) 1991-10-14
JP2651732B2 JP2651732B2 (ja) 1997-09-10

Family

ID=12105999

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023273A Expired - Lifetime JP2651732B2 (ja) 1989-04-17 1990-01-31 直線駆動装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2651732B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999010970A1 (fr) * 1997-08-21 1999-03-04 Nikon Corporation Dispositif de positionnement, unite d'entrainement et aligneur equipe d'un tel dispositif
EP1105780A1 (en) * 1998-08-14 2001-06-13 Nikon Corporation Reaction force isolation system for a planar motor

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60136667D1 (de) 2000-02-21 2009-01-08 Sharp Kk Präzisionsträgerplatte

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51114610A (en) * 1975-04-02 1976-10-08 Hitachi Ltd Supporting structure of linear motor
JPH01238450A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Hitachi Ltd リニアアクセス機構

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51114610A (en) * 1975-04-02 1976-10-08 Hitachi Ltd Supporting structure of linear motor
JPH01238450A (ja) * 1988-03-18 1989-09-22 Hitachi Ltd リニアアクセス機構

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999010970A1 (fr) * 1997-08-21 1999-03-04 Nikon Corporation Dispositif de positionnement, unite d'entrainement et aligneur equipe d'un tel dispositif
US6259174B1 (en) 1997-08-21 2001-07-10 Nikon Corporation Positioning apparatus, drive unit and exposure apparatus incorporating the positioning apparatus
EP1105780A1 (en) * 1998-08-14 2001-06-13 Nikon Corporation Reaction force isolation system for a planar motor
EP1105780A4 (en) * 1998-08-14 2002-10-02 Nikon Corp REACTION FORCE ISOLATION SYSTEM FOR PLANAR ENGINE

Also Published As

Publication number Publication date
JP2651732B2 (ja) 1997-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW531600B (en) XYZ-axes table
EP0393994A2 (en) A linear driving apparatus
US11953836B2 (en) Transport system having a magnetically levitated transportation stage
JP2002064968A (ja) 可動コイル型リニアモータを内蔵したスライド装置
JP2006510182A (ja) 高い位置正確性で物体を処理するための装置
JP2004172557A (ja) ステージ装置及びその制御方法
JPWO2011102365A1 (ja) 駆動装置および該駆動装置を用いた移動機構
US6060804A (en) Vibration generating mechanism
JPH118263A (ja) 積荷を高度に精密かつ動的に移動させるためのx−yテーブル
RU2037944C1 (ru) Линейный двигатель и позицирующее устройство, содержащее по меньшей мере один линейный двигатель
US5601027A (en) Positioning system with damped magnetic attraction stopping assembly
JP2004302639A (ja) 振動制御装置
JPH03230746A (ja) 直線駆動装置
JP2001148398A (ja) Xyステージ
JPH0522924A (ja) 平面モータ装置
JPH11122902A (ja) リニアモータ駆動装置
JPH05109B2 (ja)
JP2894892B2 (ja) 2軸ステージ装置およびxyプロッタ
JP3393692B2 (ja) 停止位置決め装置
JP3098882B2 (ja) 電磁ソレノイド
JPH0732578B2 (ja) X−yリニヤモ−タ
JP3409864B2 (ja) リニアモータ構造を有するモータ装置
JPH05108B2 (ja)
JP3268101B2 (ja) 位置決め装置
JP2562343Y2 (ja) チャッキング用アクチュエータ

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100523

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100523

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100523

Year of fee payment: 13

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100523

Year of fee payment: 13