JPH03227079A - エキシマレーザ装置 - Google Patents

エキシマレーザ装置

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Publication number
JPH03227079A
JPH03227079A JP2278290A JP2278290A JPH03227079A JP H03227079 A JPH03227079 A JP H03227079A JP 2278290 A JP2278290 A JP 2278290A JP 2278290 A JP2278290 A JP 2278290A JP H03227079 A JPH03227079 A JP H03227079A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
laser
gas
vacuum pump
heater
Prior art date
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Pending
Application number
JP2278290A
Other languages
English (en)
Inventor
Yutaka Ido
豊 井戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
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Publication of JPH03227079A publication Critical patent/JPH03227079A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、エキシマレーザ装置、特に希ガスハライド・
エキシマレーザ装置に関する。
[従来技術] 希ガスハライド・エキシマレーザ装置は、レーザガスと
してクリプトン(Kr)、キセノン(Xe)、アルゴン
(Ar)などの希ガスと、フッ素(F2)、塩化水素(
Hcl)などのハロゲンと、ヘリウム(He)やネオン
(Ne)などの希釈ガスとの混合ガスを用いたものであ
り、放電等で励起することにより強力な紫外レーザ光が
得られる。
エキシマレーザ用ガスでは、成分として上記のようにフ
ッ素等活性ガスを用いるため、この活性ガスがレーザ共
振器を構成するチャンバー、電極等の構造物もしくは構
造物の表面に付着した水分等の不純物と反応する。この
反応によりハロゲンガスが減少するとともに、発生した
不純物ガスによって光が吸収されるため、レーザ出力は
徐々に減少する。このため、通常初めて発振させる場合
や、ガス種の交換、例えばフッ素から塩化水素に交換し
た場合には、不純物を除去するためにパッシベーション
と呼ばれるガス交換が行われてきた。
[発明が解決しようとする課題] 従来、このパッシベーションは、チャンバー等の構造体
のうちレーザガスと接触する部分の表面に付着した不純
物質を除去するため、レーザチャンバーの真空引き、レ
ーザガスの導入、発振といった手順を何回も繰り返すこ
とにより行ってきた。
この様な従来の方法では、レーザガスが無駄に消費され
るばかりでなく、初期の不安定な放電を繰り返すために
電極が目的とする安定したレーザ発振を行う前に、かな
り損傷を受けてしまうという問題があった。
本発明は、上記のような従来技術の欠点を解消するため
に創案されたものであり、安定したレーザ出力が得られ
るまでに要するパッシベーションの回数を少なくするこ
とができるエキシマレーザ装置を提供することを目的と
する。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するために、本発明におけるエキシマレ
ーザ装置は、レーザチャンバーに設けられたヒータを有
する。
[作用コ 上記のように構成されたエキシマレーザ装置は、レーザ
チャンバーに設けられたヒータによりチャンバーを一様
に加熱することによってレーザチャンバーのガス封入部
に付着した不純物の脱離を促進し、真空引きによりこの
不純物をほぼ完全に除去することができるので、パッシ
ベーションに必要なガス交換回数を減少することができ
る。
[実施例] 実施例について図面を参照して説明すると、第1図にお
いて、1はレーザチャンバー、2はレーザガスボンベ、
3は真空ポンプ、4はレーザガス導入用配管、5はガス
排気用配管、6はレーザチャンバー1に巻き付けられた
加熱用ヒータ、7は排気バルブ、8は不活性ガスボンベ
、9は不活性ガス導入用配管、10は流量調整弁である
このエキシマレーザ装置の使用方法を説明する。
レーザチャンバー1を長時間稼動させることなしに放置
した場合には、レーザ発振を再開する際に、先ずバルブ
7を開け、真空ポンプ3を稼動することにより、レーザ
チャンバー1内のガスを排気する。そして、ある程度の
真空に達したところでヒータ6に通電し、レーザチャン
バー1を加熱し、チャンバー内部に付着した不純物を脱
離し、真空ポンプ3により排気する。このとき、真空ポ
ンプ3として油ロータリーポンプを用いた場合には、レ
ーザチャンバー1内の真空度が1 torr以上になる
と、ロータリーポンプの油蒸気が逆流し、チャンバー内
を汚染してしまう結果となる。そこで、排気中は不活性
ガスボンベ8から流量調整弁10を通して不活性ガスを
一定流量導入し、チャンバ−1内部の真空度が1 to
rr以上になるように調整する。この方法は、レーザチ
ャンバー1にわずかなリークがあり、高真空度に引くと
、大気を混入してしまう場合にも有効である。
以上の方法によりレーザーチャンバ−1内部の不純物を
除去した後は、通常のパッシベーション方法と同様に行
う。すなわち、流量調整弁10を閉じ、ヒータ6に流す
電流を切った後、真空ポンプ3でレーザチャンバー1を
排気してからレーザガスボンベ2からレーザガスを導入
し、レーザー発振させた後、再び真空ポンプ3で排気す
るという手順を繰り返す。
上記実施例では、排気中に不活性ガスボンベ8から流量
調整弁10を通して不活性ガスを一定流量導入したが、
レーザチャンバーに完全にリークがなく、真空ポンプ3
がターボ分子ポンプのようにオイルフリーのポンプであ
る場合には、不活性ガス導入の過程は必要ではなく、レ
ーザチャンバー1を加熱しながら真空ポンプ3で高真空
に排気するだけでよい。しかし、完全にリークのない構
造物にするのはコスト高となるうえ、オイルフリーの真
空ポンプも油ロータリーポンプに比較して非常に高価な
ものとなる欠点がある。
また、上記実施例ではヒータの装着例として、レーザチ
ャンバーにヒータを巻き付けたが、レーザチャンバーを
ジャケット風に包みこんだり、ヒータをチャンバー構成
物に埋め込んでしまう等、種々の方法が考えられる。
[発明の効果] 本発明は、以上のように構成されるので、安定したレー
ザー出力が得られるまでに要するパッシベーションの回
数を減少させることができるので、パッシベーションの
ために行われてきた不要な放電回数が減少し、電極の寿
命を長くすることができるとともに、レーザガスの消費
を少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明にかかるエキシマレーザ装置を示す図で
ある。 1・・・・・・レーザチャンバー、2・・・・・・レー
ザガスボンベ、3・・・・・−真空ポンプ、4・・・・
・・レーザガス導入用配管、5・・−ガス排気用配管、
6・・・・・・ヒータ、7・・・・・・排気バルブ、8
・・・・・・不活性ガスボンベ、9・・・・・・不活性
ガス導入用配管、10・・・流量調整弁 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ガス導入用配管、排気用配管を有するレーザーチ
    ャンバーを備えたエキシマレーザ装置において、上記レ
    ーザチャンバーにヒータを設けたことを特徴とするエキ
    シマレーザ装置。
JP2278290A 1990-01-31 1990-01-31 エキシマレーザ装置 Pending JPH03227079A (ja)

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JP2278290A JPH03227079A (ja) 1990-01-31 1990-01-31 エキシマレーザ装置

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JP2278290A JPH03227079A (ja) 1990-01-31 1990-01-31 エキシマレーザ装置

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JPH03227079A true JPH03227079A (ja) 1991-10-08

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ID=12092244

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JP2278290A Pending JPH03227079A (ja) 1990-01-31 1990-01-31 エキシマレーザ装置

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