JPH03224644A - ガス精製装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、少なくとも１つのイオン化電極を備えたイオ
ン化手段において異物粒子に帯電し、これらのイオン化
した異物粒子を分離手段内で連続的に静電分離するガス
精製装置であって、絶縁分離手段が、固定の電圧搬送プ
レートと、種々の直径をもつ接地されたディスクとの間
に形成された均一幅のレーンを備えており、ディスクが
回転シャフト上で回転でき、ディスクの回転により、集
塵面として機能する前記ディスクに堆積した異物粒子が
、静止の浄化手段により除去されるように構成したガス
精製装置に関する。本願で使用する異物粒子（ｄｉｒｔ
　ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）とは、一般に、例えば、塵粒子
（ｄｕｓｔ　ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）　、油粒子、汚染異
物（ｃｏｎｔａｍｉｎａｎｔｓ）　、汚染物質（ｐｏｌ
ｌｕｔａｎｔｓ）等をいう。

集塵器による浄化方法以外のガス精製装置として知られ
たものに、帯電及び静電分離法によるイオン化の原理に
従って作動する装置がある。

静電ガス精製装置の効率は、電気的及び機械的パラメー
タの数によって決定される。装置を設計する場合及び作
動状態の調節を行う場合、これらの殆どのパラメータは
、比較的狭い範囲に設定されるか制限される。これらの
装置の作動に基づいて大きく変化するファクタは、陰イ
オン化及び集塵器表面の電気抵抗特性（これらの特性は
堆積した塵粒子により変化する）である。電気的パラメ
ータを調節することによって、これらの変化の制御され
た補正を行うことは非常に困難である。

また、これでは、流れ条件に与える堆積物の影響につい
て解明できない。別の対抗手段は、堆積した異物粒子を
除去することである。堆積物が電気抵抗特性に目立つ程
の影響を与えないような方法でこのことが行えるならば
、静電ガス精製装置は、設計上の最適設定点の比較的近
くでかつ非常に高い効率で連続的に作動できるであろう
。

堆積した異物粒子を除去することは、特に困難である。

この除去作業は、しばしば、異物粒子の吹き飛ばしくブ
ローイング）及び／又は叩き飛ばしによって行われるが
、これらの方法は振動及び騒音を生じさせる。また、堆
積した埃が掻き混ぜられるので、精製すべきガス流の成
る部分を遮断しなければならない。

従来知られている静電ガス精製装置として、ガス流の方
向に回転する集塵面を備えたものがあり、この装置は１
段で作動する。すなわち、この装置では、ディスク間の
レーン内で異物粒子のイオン化が行われるようになって
いる。西ドイツ国特許第４４６００８号に開示の装置で
は、ガス流中に絶縁体が配置されていて、ディスクの一
部表面のみが集塵面として機能し、ガス流中でディスク
の浄化を行うように構成されている。英国特許第９８７
２２０号及び対応するスイス国特許第４０３７２２号に
開示の１段形装置においては、電極の浄化もガス流中で
行われる。また、米国特許第３９２９４３６号には、ロ
ッド又はかご形イオン化電極がディスクレーン内に向か
って半径方向に突出している１段形装置が開示されてお
り、また、別の実施例として、前イオン化段は備えてい
るけれども、分離段に電圧搬送形減速手段（ｖｏｌｔａ
ｇｅ−ｃａｒｒｙｉｎｇ　ｒｅｔａｒｄｉｎｇｍｅａｎ
ｓ）は備えていないガス精製装置が開示されている。両
実施例共、ガス流を横切るようにしてシールドプレート
の間にガス精製手段が配置されており、これにより、ガ
ス流が上方セクションのディスク間に形成されたレーン
のみを通って流れることができるようになっている。レ
ーンを通って流れること及び浄化領域に減速手段が設け
られていないことに関して同じ構成が、米国特許第４０
００９９４号の装置について説明されている。西ドイツ
国公開特許第１７５７１１５号に開示の電気−空気力学
分離手段にも、分離領域においてイオン化粒子を減速さ
せる電圧搬送電極は設けられていない。

また、集塵器の電極として機能するプレート（該プレー
トは、回転軸線に関して半径方向に配置されている）が
、主ガス流の方向に対して横方向に回転するようになっ
ている。

本発明の形式のガス精製装置は、米国特許第２６６３３
８０号において知られている。この米国特許に開示の装
置では、ディスク面の約１７２が分離面として機能し、
他のほぼ１／２が精製手段の領域内に配置されている。

液体浄化剤を用いない作動の場合でも、ディスクの下半
分がガス流中に配置されることはない。なぜならば、プ
レート４８により、ガス流の一部がハウジングの下方部
分内に流入することが防止されているがらであり、また
、ディスク２２と２２ａとの間の上方領域のみにプレー
ト２７がハウジングされていることもその理由である。

イオン化手段の絶縁体及び回転シャフトの領域（この領
域では、作動時に、ディスクとプレートトとの間のエア
ギヤツブ基色縁がｔ員なゎれる）におけるディスクとプ
レートとの間に配置された絶縁体は、増量ガス流（ｌｏ
ａｄｅｄ　ｇａｓ　ｓｔｒｅａｍ）に直接曝される。こ
のため、異物の堆積の危険があ毎り、従って、特に回転
シャフトの領域において電気放電が発生する。イオン化
手段及び分離手段は同じ電位で作動し、地面に対して絶
縁されている。

従って、イオン化電圧は、分離手段に許容できる電位に
制限される。この許容電位は、形状的条件及び絶縁条件
により、既に設計段階において大幅に制限されており、
また、汚染により作動時には更に大幅に低下される。非
導電性の浄化流体であっても、異物粒子によって導電性
流体になってしまう。ディスクによって運ばれる液体は
、ディスクとプレートとの間で絶縁体上に流れ、該絶縁
体を不能にしてしまう。

従って、本発明の目的は、次のような特徴、すなわち、 一最適な流動性が得られること、 −特に、イオン化電圧及び集塵に利用できる表面の利用
について個々に効率良く調節可能であること、 一異物粒子が堆積しないように遮断（絶縁）できること
、すなわち、異物粒子の堆積に対して不感であること、 一自動車用に適したものであること、 一種々の使用条件に合うようにフレキシブルな８周節が
できること、 一補修（サービス）が容易であること、及び、−特別な
構造及び製造条件を要することなくして、高精度な製造
及び作動が可能であること、等の特徴をもつ上記形式の
ガス精製装置を提供することにある。

本発明によれば、前記プレートが、エアギヤツブのみに
よってディスクからｉ色縁されており、前記プ１／−ト
が、回転シャフトの背後にある流れの蔭になる領域（ｆ
ｌｏｓｎ　ｓｈａｄｏｗ）に設けられた開放セクション
を有しており、該開放セクション内には浄化手段が配置
されており、前記レーンの領域における実質的に全ての
ディスク面は集塵面であり、前記イオン化手段及び分離
手段が、それぞれ別々の電圧供給源を備えており、イオ
ン化手段が、分離手段の電圧に関して絶縁されており、
直接ガス流の外側には絶縁体が配置されている。

西ドイツ国特許第４５７６３１号に開示の装置において
は、電気ガス精製装置への電圧供給源用の絶縁体（詳し
くは開示されていない）が、沈澱チャンバに続く特別な
空間内に設けられている。また、西ドイツ国公開特許第
２７３４１３３号においては、２つのイオン化段用と分
離手段用とに別々の電圧供給源を設け、未分離粒子を中
性化する後イオン化の原理に従って３段階のガス精製を
行うことが説明されており、好ましい実施例としては分
離手段がプレートであると記載されている。

本発明によれば、プレートには、流れ方向で見てロータ
の背後に開放セクションが設けられており、これにより
、この開放セクション内に浄化手段を配置することが可
能になる。従って、シャフトにより流れの蔭になる領域
内に位置するディスク面の領域のみが分離手段として失
われるに過ぎず、このため、ディスク面の利用度を高め
ることができる。

本発明の装置の製造上及び作動上の利点は、ディスクが
スペーサを介してシャフト上で互いに等間隔に配置され
ていて、ディスク及びプレートの双方がそれらの外周部
に設けられたガイドすなわち溝内で正確に走行するよう
になっているため、簡単な手段により高精度が得られる
ことである。

本発明の別の利点は、装置の電圧搬送エレメント及び接
地エレメントを、レーンの幅に影響を与えることなく、
イオン化電位に基づいて調節できることである。これは
、小型の中間サイズのディスクの数を変える構成にした
こと及びディスクの直径を異ならせて設計したことによ
る。イオン化電極として細いワイヤを用い、該ワイヤを
多数取り付けることによって、コロナ放電、イオン化効
率、及び分離電圧とは独立してイオン化電位を調節でき
る可能性について確実な影響を及ぼすことができる。ガ
スの通路領域（特に、ディスクとプレートとの間）にお
ける厳格なエアギャップ絶縁及び直接ガス流（ｄｉｒｅ
ｃｔ　ｇａｓ　ｓｔｒｅａｍ）の外側への絶縁体の配置
により、電圧搬送エレメントを異物による汚染に対し鈍
恣にでき、この効果は、イオン化手段を分離手段の電圧
から絶縁することによって高められる。ガイドプレート
を用いて、ガス流と、ガスの層流に掻く僅かでも影響を
与えることのあるガス流中の他のエレメントとを案内す
ることによって、分離効率に対して好ましい影響を与え
ることができる。イオン化及び分離手段並びに浄化手段
を備えた本発明によるガス精製装置の全体が、ハウジン
グ内にスライドさせて入れることができる１つのフレー
ムに取り付けることができることから、予組み立て、組
み立て、メインテナンス及びフレキシビリティ上の利点
が得られる。

電源、ロータ駆動装置、前置フィルタ、ガイドプレート
ファン及び異物収集容器等の本発明のガス精製装置を作
動させる全ての手段が前記ハウジング内に設けられてお
り、各ハウジングは、幾つかのガス精製装置を直列に連
結できる形状を有している。

分離した塵粒子は、傾斜したチャンネル内に受け入れら
れ、傾斜によって収集チャンネル内に落下するため、簡
単に具合良く除去することができる。また、塵粒子は、
収集チャンネルから収集容器に運ばれる。

正の高電圧を用いているため、オゾンの形成を最小限に
することができる。また、本発明によれば、ディスクの
回転速度の調節及び／又は他の装置との連結により、固
体粒子及び／又は液体粒子によるガスの汚染度を簡単な
方法で調節することができる。また、廃棄処理が簡単な
ため、乾燥作動又は部分湿り作動により、例えばディー
ゼルエンジンの排気ガスの浄化のような自動車用として
使用することもできる。

以下、添付図面に関連して本発明の一実施例を詳細に説
明する。

第１図は、ハウジング２９を備えた本発明のガス精製装
置を示すものであり、ガス流の方向が矢印で示されてい
る。ハウジング２９には、ガイドプレート１１及び前置
フィルタ９が取り付けられている。第１３図及び第１４
図に示すように、ハウジング２９のガス出口側にはファ
ンが取り付けられているが、このファンは第１図には示
されていない。ガス精製装置は、その全体がフレーム２
８に取り付けられて、第１０図に示すようにハウジング
２９内にスライドして入れられる。ガス精製装置に流入
後、ガスは、プレートと小径ディスク２　（又は大径デ
ィスク３）との間にそれぞれ形成されたレーンを通って
流れる。両ディスク２．３は、多角形の回転プレートと
して形成することもできる。

ガスは、最初に、大径ディスク３の突出表面領域同士の
間に形成されたイオン化手段を通り、次に、プレート４
と大径ディスク３との間又はプレート４とそれぞれの小
径ディスク２との間に配置された分離手段すなわち集塵
セクションを通って連続的に流れる。第２図に示すよう
に、プレート４は、ロータ１の背後で流れの蔭になる領
域に配置される切欠き開放セクション５を有している。

この開放セクション５の領域内において、２つのディス
クの間には浄化手段６が配置されている。

該浄化手段６は固定してもよいし、或いは一実施例とし
て、プレート４の開放領域５内で振動できるようにして
もよい。

ガスは、実質的に小径ディスク２の外周部に位置する縁
部領域１２を通って流れることはないが、充分に長い距
離に亘って分離面を通って流れることができるように、
ガイドプレート１０により偏向される。プレート４は、
サイドプレート２２．２４及びガイドビーム３９の溝内
に保持されている。ワイヤ２１は、ワイヤ保持ラック１
８上で高電圧に接続されたイオン化電極として機能する
。

また、ワイヤ２１は、小径ディスク２から突出している
大径ディスク３の側面部分同士の間に形成される空間内
において、偏向手段１９とワイヤガイド２０との間を前
後に張り廻らされている。この空間の形状が、第５図及
び第６図においてより詳細に示されている。第２図には
、浄化手段６及び集塵チャンネル３３が示されている。

浄化手段６は、プレート４における流れの蔭になる領域
に設けられた開放セクション５の領域内に配置されてい
る。浄化手段６は、流れの方向において下方に傾斜する
ように、その一方の側が、回転シャフト（すなわち回転
シャフトのスペーサ１３）上に摺動自在に載置されてお
り、他方の側が集塵チャンネル３３に固定されている。

ガスはロータ１により偏向されるため、この浄化手段６
の領域には実質的にガスが流れることはない。

例えば、垂直にガスが流れるようにした他の実施例にお
いては、この浄化手段６は、流れ方向に配置するか、或
いは、流れ方向に対して正又は負の方向に傾斜させるこ
ともできる。この場合には、除去した物質の少なくとも
一部は、集塵チャンネル３３内に落下できるようになる
。

浄化手段６は支持体３６を有しており、該支持体３６は
、例えば金属で作ることができる。この支持体３６の両
側には、例えばゴムのような可撓性材料からなるストリ
ッパリップ３５が設けられている。これらのストリッパ
リップ３５は、第３図に示すように、２つの小径ディス
ク２の側面に接触するようにして配置するか、或いは小
径ディスク２及び大径ディスク３の側面に接触するよう
にして配置する。この構成により、集塵電極として機能
するディスク２．３に付着した固体粒子又は液体小滴の
堆積物を掻き取ることができる。堆積物はストリッパリ
ップ３５により形成されたチャンネル内に落下し、浄化
手段６の小さな傾斜により集塵チャンネル３３の方向に
運ばれる。異物すなわち汚染物質は、集塵チャンネル３
３から、ハウジング２９内に配置される収集容器内に移
送される。

浄化手段の別の実施例が第１１図及び第１２図に示され
ている。この実施例では、浄化手段の支持体すなわちキ
ャリヤが回転方向に拡大されていて、洗浄ノズル３７を
支持している。この洗浄ノズル３７の上方には丁字形保
護プレート３８が配置されている。この実施例は、流れ
ることのできない汚染異物を湿らせて、スラリとして良
好に移送できるという利点がある。保護プレート３８（
この保護プレート３８は、洗浄ノズル３７を設けない場
合にも配置することができる）は、掻き取った異物が流
れるガスによって再び拾われることがないように、異物
を流れるガスから更に保護するためのものである。洗浄
ノズル３７を設けた構成においては、液体小滴と精製さ
れたガス流とが混合しないように保護することができる
。第４図の平面図には、この浄化手段の構造が示されて
いる。

第５図及び第６図には、イオン化手段が配置されている
空間及びディスクガイド７．８の構造の詳細が示されて
いる。これらのディスクガイド７．８は、大径ディスク
３及び小径ディスク２が、非常に小さな公差で回転でき
るスリットを有している。また、楕円形部分に通じてい
るスリットが設けられていて、ディスクガイド７．８が
、張設されたイオン化ワイヤ２１を通って変位できるよ
うになっている。第５図に示すように、帯電プレート４
には凹部が形成されていて、該プレート４がディスクガ
イド７．８に接触しないようになっている。このように
正確にディスクが取り付けられていること、サイドプレ
ート２２．２４にはプレート４用の上記溝が設けられて
いること、ガイドビームれが設けられていること、及び
回転シャフトにはスペーサ１３が設けられていること等
の理由から、±０．５ｍｍの公差をもつディスク２．３
並びにプレート４を比較的簡単に作ることができ、レー
ンの非常に正確な幾何学的形状を保つことができる。デ
ィスクガイド７又は８の端部は、ガス流を層流にすべく
、丸められている。

第７図には、大径ディスク３同士の間で、流れ方向の最
初の部分に配置されたイオン化手段用のレーン及び空間
の配置が示されている。直接ガス流の外側には、絶縁体
３４が設けられている。

第８図は、イオン化手段用及び分離手段用の電圧供給源
を示すものである。電圧は、イオン化手段用のスイッチ
イングキャビネット４４から、絶縁体４０によりハウジ
ング２９に関して絶縁されている接点４１を介して供給
される。分離手段への電圧の供給は、絶縁体４２により
ハウジング２９に関して絶縁されている接点４６を介し
て行われる。接点４１はばねで押圧されていて、ワイヤ
保持ラック１８に確実に電圧が供給されるようにしてい
る。接点ばね４３は、フレーム２３とプレート４とが確
実に接続されるようにしている。

両電源手段は、フレーム２８を矢印４５の方向にスライ
ドさせてハウジング２９内に入れて、浄化手段６を完全
に取り付けたとき、電気的な接続も完了できるように構
成されている。図示の実施例の場合、８ｋＶのイオン化
電圧は４ｋＶの分離電圧又は集塵電圧の２倍であり、こ
のため、両型圧の電位差に相当する絶縁電位差は４ｋＶ
に過ぎない。従って、本発明の解決方法によれば、電気
的関係を簡単化でき、かつ汚染の影響を回避することが
できる。

回転シャフト１７を備えたロータ１は、ベアリング１６
に取り付けられていて、例えば電気的に駆動される。第
９図には、ロータ１の構造が示されている。中空シャフ
ト１４は、ベアリングスリーブ３０上で回転シャフト１
７に取り付けられている。中空シャフト１４には、ディ
スク２．３が、間隔スペーサ１３を介して互いに間隔を
隔てて取り付けられている。この構造は、ナツト１５で
固定されている。回転シャフト１７の周囲で切り欠かれ
ているプレート４が、それぞれのディスク２とディスク
３との間に配置されており、これらのディスク２．３と
協働して、浄化すべきガスが流れるレーンを形成してい
る。この形式のシャフト構造は、構造及び製造の点で特
に有効である。第１０図には、イオン化及び集塵手段並
びに浄化手段を備えたガス精製装置２７の全体がフレー
ム２８に取り付けられ、全体としてスライドさせてハウ
ジング２９内に入れられた状態が示されている。フレー
ム２８には、絶縁体２３．３１．３２及びワイヤ保持ラ
ック１８も取り付けられている。

異物粒子を含有している汚染ガス流は、ハウジング２９
内に流入後に、前置フィルタ９によって予備浄化されか
つガイドプレート１０によって収束される。これにより
、集塵プレートが異物の堆積のための充分な長さをもつ
領域のみを通ってガスを流すことができる。その後、ガ
スは、ファンにより装置の外に排出される。ガスがこの
ように流れる間、ガスは、最初にイオン化手段を通って
流れ、該イオン化手段において異物粒子は、イオン化電
極のコロナ放電のスプレー効果によって帯電される。流
れ方向においてイオン化手段の次には分離手段が配置さ
れている。この分離手段において、帯電粒子は、プレー
ト４の正の電圧により、堆積電極又は集塵電極として機
能するディスク２．３上に偏向される。堆積された異物
粒子は、これらのディスク２．３により、回転シャフト
１７の流れの蔭の位置に配置された浄化手段６に移送さ
れる。これにより、ディスクが１回転する度毎に、ディ
スクの各表面は浄化手段６を通過するように駆動され、
従って、ディスクの表面に付着した異物粒子が掻き取ら
れる。浄化領域６の領域において、プレート４に開口セ
クション５が設けであるため、電気スパーク放電の生じ
る危険が回避される。この実施例においては、装置の作
動中、すなわち、イオン化領域及び集塵領域の両頭域に
おけるガス流及び電圧を維持した状態で、連続的に浄化
作業を行うことができる。しかしながら、本発明の工程
には必要ではないけれども、装置の運転を短時間停止す
ることは可能である。ハウジング２９に配置された前置
フィルタ９及びガイドプレート１１により、装置に流入
する前のガス流の平衡を得ることができる。また、ガイ
ドプレート１０によってガス流を収束させることにより
、ガス流がレーンの縁部領域１２　（この領域１２は、
レーンを通る通路の長さが不充分である）を通らないよ
うにすることができる。ガイドプレート１０によりガス
流を収束させないと、有効な集塵通路が維持されないと
いう危険が存在することもあり、例えば、レーン間隔が
６ｍｍ、プレート電圧が５ｋＶで、流速が３ｍ／秒の場
合には、少なくとも１５０ｍｍの集塵通路が必要である
。

本実施例の設計により、プレート及びディスクが正確に
ガイドされるため、特別な努力を要することなく、レー
ンの幾何学的形状の必要精度を保証することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明によるガス精製装置を第７図のＥ−Ｅ
線に沿って断面した側断面図である。 第２図は、本発明のガス精製装置の側断面図である。 第３図は、第２図のＦ−Ｆ線に沿う断面図である。 第４図は、本発明のガス精製装置の平面図である。 第５図は、第１図にＺで示す部分の拡大図である。 第６図は、第５図のＤ−Ｄ線に沿う平面図である。 第７図は、第１図のＢ−Ｅ線に沿って断面した本発明の
ガス精製装置の平面図であり、浄化手段は示されていな
い。 第８図は、第１図のＨ−Ｈ線方向から見た部分断面図で
ある。 第９図は、第７図に■で示す部分の拡大図である。 第１０図は、第７図のＧ−Ｇ線方向から見た本発明のガ
ス精製装置の側面図である。 第１１図は、浄化装置の別の実施例を示す側面図である
。 第１２図は、第１１図の断面図である。 第１３図は、軸流ファンを備えたハウジングの正面図及
び平面図である。 第１４図は、ラジアルファンで直列に連結した実施例の
正面図及び平面図である。 １・・・ロータ、　　　　　　２・・・小径ディスク、
３・・・大径ディスク、　　４・・・プレート、５・・
・切欠き開放セクション、 ６・・・浄化手段、　　　　７．８・・・ディスクガイ
ド、９・・・前置フィルタ、 １０．１１・・・ガイドプレート、 １２・・・ディスクの縁部領域、 １４・・・中空シャフト、　　１７・・・回転シャフト
、１８・・・ワイヤ保持ランク、 ２０・・・ワイヤガイド、　　２１・・・イオン化ワイ
ヤ、２２．２４・・・サイドプレート、 ２７・・・ガス精製装置、　２９・・・ハウジング、３
３・・・集塵チャンネル、３５・・・ストリッパリップ
、３６・・・浄化手段の支持体、 ３７・・・洗浄ノズル、　　３８・・・保護プレート、
４０・・・絶縁体、　　　　４１・・・接点、４２・・
・絶縁体、　　　　４３・・・接点ばね、４４・・・ス
イッチングキャビネット、４６・・・接点。 ｌ Ｉ６１ ＦＩＧ　７ ＦＩＧ、８ ４ ＩＧ９

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）少なくとも１つのイオン化電極を備えたイオン化
   手段において異物粒子に帯電し、これらのイオン化した
   異物粒子を分離手段内で連続的に静電分離するガス精製
   装置であって、絶縁分離手段が、固定の電圧搬送プレー
   トと、種々の直径をもつ接地されたディスクとの間に形
   成された均一幅のレーンを備えており、前記ディスクが
   回転シャフト上で回転でき、前記ディスクの回転により
   、集塵面として機能する前記ディスクに堆積した異物粒
   子が、静止の浄化手段により除去されるように構成した
   ガス精製装置において、 前記プレート（４）が、エアギャップのみによって前記
   ディスク（２、３）に関して絶縁されており、 前記プレート（４）が、前記回転シャフト （１７）の背後にある流れの蔭になる領域に設けられた
   開放セクション（５）を有しており、該開放セクション
   （５）内には浄化手段（６）が配置されており、 前記レーンの領域におけるディスク面は、前記開放セク
   ション（５）に対面する領域を除き、集塵面であり、 前記イオン化手段及び分離手段が、それぞれ別々の電圧
   供給源を備えており、 前記イオン化手段が、前記分離手段の電圧に関して絶縁
   されており、 直接ガス流の外側には絶縁体（２５、３１、３２、３４
   、４０、４２）が配置されていることを特徴とするガス
   精製装置。 （２）前記ガス流が、前記レーンの縁部領域（１２）を
   通って、前記プレート（４）と小径ディスク（２）との
   間の流れ方向の側には実質的に流れることがないように
   前記ガス流を案内するガイドプレート（１０）が設けら
   れていることを特徴とする請求項１に記載の装置。 （３）大径ディスク（３）及び小径ディスク（２）が設
   けられており、これらのディスク（２、３）が、スペー
   サ（１３）を介して互いに一定の間隔を隔てて配置され
   ておりかつそれらの外周部がディスクガイド（７、８）
   によって正確に案内されることを特徴とする請求項１又
   は２に記載の装置。 （４）前記２つの大径ディスク（３）の間には少なくと
   も１つの小径ディスク（２）が配置されており、流れ方
   向において前記レーンの前方に形成された空間内にはイ
   オン化手段が受け入れられており、前記空間内には前記
   プレート（４）が存在せず、前記空間がイオン化電極の
   交換のための機能を有していることを特徴とする請求項
   １〜３のいずれか１項に記載の装置。 （５）前記イオン化電極が、ワイヤ（２１）又は導電性
   ロッドで形成されていることを特徴とする請求項４に記
   載の装置。 （６）少なくとも２つのレーンの前方には、それぞれ少
   なくとも１つのイオン化ワイヤ（２１）が配置されてい
   ることを特徴とする請求項５に記載の装置。 （７）前記浄化手段（６）が回転可能な前記ディスク（
   ２、３）に接触していることを特徴とする請求項１〜６
   のいずれか１項に記載の装置。 （８）前記浄化手段（６）が剛性材料からなる支持体（
   ３６）を備えており、該支持体（３６）が、前記回転シ
   ャフト（１７）の前記スペーサ（１３）に摺動接触して
   おりかつその他端部が集塵チャンネル（３３）に固定さ
   れており、前記支持体（３６）の両側にはプラスチック
   材料からなるストリッパリップ（３５）が取り付けられ
   ていて、該ストリッパリップ（３５）が前記ディスク（
   ２、３）と接触していることを特徴とする請求項７に記
   載の装置。 （９）前記ストリッパリップ（３５）が、チャンネルを
   形成する前記ディスク（２、３）に向かって上方に傾斜
   しており、前記浄化手段（６）が前記集塵チャンネル（
   ３３）に向かって下方に傾斜していて該集塵チャンネル
   （３３）に連結されていることを特徴とする請求項８に
   記載の装置。 （１０）前記支持体（３６）が前記ディスク（２、３）
   の回転方向とは逆方向に延びており、前記支持体（３６
   ）には前記ディスクの方に向いた孔を備えたノズル（３
   ７）が設けられており、該ノズル（３７）を通して流体
   を前記ディスク上に噴霧できることを特徴とする請求項
   ８又は９に記載の装置。 （１１）前記浄化手段（６）がノズル手段を備えており
   、該ノズル手段を通して流体を前記ディスク（２、３）
   に噴射できることを特徴とする請求項１〜６のいずれか
   １項に記載の装置。 （１２）前記浄化手段が可動であって、静止位置の回り
   で振動できることを特徴とする請求項７又は１１に記載
   の装置。 （１３）前記浄化手段（６）の回転方向前方には、保護
   プレート（３８）が配置されており、該保護プレート（
   ３８）が、前記ディスク（２、３）から小さな間隔を隔
   てていることを特徴とする請求項７〜１２のいずれか１
   項に記載の装置。 （１４）前記浄化手段（６）が水平に対して傾斜してい
   て、流れ方向に対して±２５°以下の角度範囲内に配置
   されていることを特徴とする請求項７〜１３のいずれか
   １項に記載の装置。 （１５）前記イオン化及び分離手段並びに前記浄化手段
   （６）を備えた前記ガス精製装置（２７）の全体が、ハ
   ウジング（２９）内に挿入できるフレーム（２８）に取
   り付けられていることを特徴とする請求項１〜１４のい
   ずれか１項に記載の装置。 （１６）電源、ロータ駆動装置、前置フィルタ（９）、
   ガイドプレート（１１）、ファン及び異物収集容器等の
   前記ガス精製装置（２７）を作動させる全ての手段が前
   記ハウジング（２９）内に設けられており、前記各ハウ
   ジング（２９）が、幾つかのガス精製装置を直列に連結
   できる形状を有していることを特徴とする請求項１５に
   記載の装置。