JPH03221530A - 水素基含有シリコーンの製造方法 - Google Patents
水素基含有シリコーンの製造方法Info
- Publication number
- JPH03221530A JPH03221530A JP1707890A JP1707890A JPH03221530A JP H03221530 A JPH03221530 A JP H03221530A JP 1707890 A JP1707890 A JP 1707890A JP 1707890 A JP1707890 A JP 1707890A JP H03221530 A JPH03221530 A JP H03221530A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid catalyst
- hydrogen group
- containing silicone
- reaction
- silicone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 21
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 title claims abstract description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 6
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 abstract description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 7
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 2
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000288 alkali metal carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008041 alkali metal carbonates Chemical class 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は水素基含有シリコーン、すなわちけい素原子に
結合した水素原子を有するシリコーンの製造方法に係り
、特には製造時に用いる酸触媒の除去方法を改良するこ
とによって収率を高めると゛共に製造所要時間を短縮し
た方法に関するちのである。
結合した水素原子を有するシリコーンの製造方法に係り
、特には製造時に用いる酸触媒の除去方法を改良するこ
とによって収率を高めると゛共に製造所要時間を短縮し
た方法に関するちのである。
（従来の技術）
けい素原子−水素原子の結合はアルカリ性では切断され
やすいので、この結合を有するシリコーン（オイルある
いはワニス）の製造には酸触媒を用いて重合と平衡化が
行なわれる。しかし、反応終了後低揮発分を除去するた
めに減圧下に加熱するストリップ工程を行なうのが普通
であり、その際被処理系のｐＨが中性付近でないとけい
素原子−水素原子の結合が切断されやすいので酸触媒の
除去を充分に行なう必要があるが、これまでは、反応が
終了した後、反応系を静置して酸触媒を層分離させてか
ら分液することによって酸触媒の大部分を除去し、つぎ
に目的物のシリコーン中に残存する酸触媒を中性の水を
用いて繰り返し水洗することによって除去する方法が多
く行なわれてきた。ところが、水素基含有シリコーン（
オイルあるいはワニス）は比重の関係で水洗後の水との
分離が悪く、そのためこの方法では所要時間が長くなり
、分離ロスにより収率も低いものであった。
やすいので、この結合を有するシリコーン（オイルある
いはワニス）の製造には酸触媒を用いて重合と平衡化が
行なわれる。しかし、反応終了後低揮発分を除去するた
めに減圧下に加熱するストリップ工程を行なうのが普通
であり、その際被処理系のｐＨが中性付近でないとけい
素原子−水素原子の結合が切断されやすいので酸触媒の
除去を充分に行なう必要があるが、これまでは、反応が
終了した後、反応系を静置して酸触媒を層分離させてか
ら分液することによって酸触媒の大部分を除去し、つぎ
に目的物のシリコーン中に残存する酸触媒を中性の水を
用いて繰り返し水洗することによって除去する方法が多
く行なわれてきた。ところが、水素基含有シリコーン（
オイルあるいはワニス）は比重の関係で水洗後の水との
分離が悪く、そのためこの方法では所要時間が長くなり
、分離ロスにより収率も低いものであった。
このように水洗による方法は問題点を抱えているが、仮
にアルカリによって酸触媒を中和するとした場合、被処
理系が若干でもアルカリ性になると室温でもけい素原子
−水素原子の結合の切断が起こると考えられていたため
、その危険を避ける必要上水洗に頼らざるをえなかった
。
にアルカリによって酸触媒を中和するとした場合、被処
理系が若干でもアルカリ性になると室温でもけい素原子
−水素原子の結合の切断が起こると考えられていたため
、その危険を避ける必要上水洗に頼らざるをえなかった
。
（発明の構成）
本発明は水素基含有シリコーンの製造に関する前記の問
題点を解決した新規な製造方法を提供するものであり、
この製造方法は、酸触媒による重合反応及び／又は平衡
化反応とこの反応終了後の酸触媒の除去とからなる水素
基含有シリコーンの製造方法において、前記酸触媒の除
去を、まず反応系から酸触媒層を分離し、さらに生成物
の水素基含有シリコーン中に残存する酸触媒をこの生成
物に不溶の弱アルカリ性化合物により中和した後固形分
を分離することによって行なうことを特徴とするもので
ある。
題点を解決した新規な製造方法を提供するものであり、
この製造方法は、酸触媒による重合反応及び／又は平衡
化反応とこの反応終了後の酸触媒の除去とからなる水素
基含有シリコーンの製造方法において、前記酸触媒の除
去を、まず反応系から酸触媒層を分離し、さらに生成物
の水素基含有シリコーン中に残存する酸触媒をこの生成
物に不溶の弱アルカリ性化合物により中和した後固形分
を分離することによって行なうことを特徴とするもので
ある。
以下に本発明の詳細な説明する。
本発明は、酸触媒を使用した水素基含有シリコーンの製
造方法において、反応終了後の酸触媒層の分離に続き、
生成物中に残存する酸触媒の除去を生成物に不溶の弱ア
ルカリ性化合物により中和した後固形分を分離すること
によって行なう点に特徴を有するが、前記の弱アルカリ
性化合物としては、生成物の水素基含有シリコーンに不
溶であれば特に制限はなく各種のものを用いることがで
きる。例えば、炭酸ソーダ、酸性炭酸ソーダ（重曹）、
炭酸カリ、酸性炭酸カリなどのアルカリ金属炭酸塩ある
いは酸性炭酸塩を用いることができる。しかし、これら
の中では炭酸ソーダ、酸性炭酸ソーダ（重曹）が好まし
いものである。
造方法において、反応終了後の酸触媒層の分離に続き、
生成物中に残存する酸触媒の除去を生成物に不溶の弱ア
ルカリ性化合物により中和した後固形分を分離すること
によって行なう点に特徴を有するが、前記の弱アルカリ
性化合物としては、生成物の水素基含有シリコーンに不
溶であれば特に制限はなく各種のものを用いることがで
きる。例えば、炭酸ソーダ、酸性炭酸ソーダ（重曹）、
炭酸カリ、酸性炭酸カリなどのアルカリ金属炭酸塩ある
いは酸性炭酸塩を用いることができる。しかし、これら
の中では炭酸ソーダ、酸性炭酸ソーダ（重曹）が好まし
いものである。
本発明の製造方法は酸触媒を使用する場合に全て適用す
ることができる。典型的には濃硫酸を使用する場合であ
り、水素基含有クロロシランの加水分解によるオリゴマ
ーの製造にみられるように塩化水素が触媒となる場合な
どにも適用できる。
ることができる。典型的には濃硫酸を使用する場合であ
り、水素基含有クロロシランの加水分解によるオリゴマ
ーの製造にみられるように塩化水素が触媒となる場合な
どにも適用できる。
その際の操作手順としては、重合反応や平衡化反応終了
後、反応系を静置してシリコーン層と酸触媒層とに分離
させ、酸触媒層をシリコーン層がら分液し、シリコーン
層へ前記の弱アルカリ性化合物を結晶状や粉体状の形状
のもので添加し、撹拌しながら中和処理し、中和処理終
了後に固形分を分離すればよい。この分離はろ過、遠心
分離等の公知の手段によって行なうことができる。
後、反応系を静置してシリコーン層と酸触媒層とに分離
させ、酸触媒層をシリコーン層がら分液し、シリコーン
層へ前記の弱アルカリ性化合物を結晶状や粉体状の形状
のもので添加し、撹拌しながら中和処理し、中和処理終
了後に固形分を分離すればよい。この分離はろ過、遠心
分離等の公知の手段によって行なうことができる。
前記の中和処理においては、中和が完結する量販上の弱
アルカリ性化合物を用いればよく、また、処理時間、処
理温度については中和反応が進行する限り特に制限はな
いが、室温で処理しても満足な結果が得られる。
アルカリ性化合物を用いればよく、また、処理時間、処
理温度については中和反応が進行する限り特に制限はな
いが、室温で処理しても満足な結果が得られる。
本発明の方法によればけい素原子−水素原子の結合の切
断は起こらず且つ中和も完結する。
断は起こらず且つ中和も完結する。
従来の水洗による方法では、水洗時間が２４〜３０時間
必要であり、収率も８０％前後と低いものであったが、
本発明の方法により工程時間が８時間に短縮され収率も
９０％を超えるようになった。
必要であり、収率も８０％前後と低いものであったが、
本発明の方法により工程時間が８時間に短縮され収率も
９０％を超えるようになった。
次に本発明の実施例を挙げる。なお、例中の部は全て重
量部を表わす。
量部を表わす。
実施例１
オクタメ千ルジクロテトラシロキサン＋ｎｎｉヘキサメ
チルジシロキサン２部、式 ノボリシロキサン５０部、濃硫酸７部を反応器に仕込み
、室温において５時間重合と平衡化を行なった後、静置
して分離した下層の硫酸層を分液により除去し、残った
シリコーン層へ炭酸ソーダ７部を添加して、室温で３０
分間中和を行なってから固形分をろ過したところ無色透
明のオイルを得た。収率は９７％であった。赤外吸収で
調べたところ、このオイルにはけい素原子−水素原子の
結合の切断による３官能性単位の生成は認められなかっ
た。
チルジシロキサン２部、式 ノボリシロキサン５０部、濃硫酸７部を反応器に仕込み
、室温において５時間重合と平衡化を行なった後、静置
して分離した下層の硫酸層を分液により除去し、残った
シリコーン層へ炭酸ソーダ７部を添加して、室温で３０
分間中和を行なってから固形分をろ過したところ無色透
明のオイルを得た。収率は９７％であった。赤外吸収で
調べたところ、このオイルにはけい素原子−水素原子の
結合の切断による３官能性単位の生成は認められなかっ
た。
実施例２
実施例１と同様の原料を用い、触媒として濃硫酸７部の
代りにトリフルオロメタンスルホン酸１０部を用いて実
施例１と同様に室温で５時間重合と平衡化を行なった後
、下層の硫酸層を静置して分離し、残ったシリコーン層
へ岸酸ソーギ１ら部２禾加して、室温で３時間中和を行
なってから固形分をろ過したところ無色透明のオイルを
得た。収率は９３％であった。赤外吸収で調べたところ
、このオイルにはけい素原子−水素原子の結合の切断に
よる３官能性単位の生成は認められなかった、実施例３ 実施例１と同様の原料及び触媒を用い、室温において５
時間重合と平衡化を行なった後、静置して分離した下層
の硫酸層を分液により除去し、残ったシリコーン層へ炭
酸カリ１０部を添加して、室温で２時間中和を行なって
から固形分をろ過したところ無色透明のオイルを得た。
代りにトリフルオロメタンスルホン酸１０部を用いて実
施例１と同様に室温で５時間重合と平衡化を行なった後
、下層の硫酸層を静置して分離し、残ったシリコーン層
へ岸酸ソーギ１ら部２禾加して、室温で３時間中和を行
なってから固形分をろ過したところ無色透明のオイルを
得た。収率は９３％であった。赤外吸収で調べたところ
、このオイルにはけい素原子−水素原子の結合の切断に
よる３官能性単位の生成は認められなかった、実施例３ 実施例１と同様の原料及び触媒を用い、室温において５
時間重合と平衡化を行なった後、静置して分離した下層
の硫酸層を分液により除去し、残ったシリコーン層へ炭
酸カリ１０部を添加して、室温で２時間中和を行なって
から固形分をろ過したところ無色透明のオイルを得た。
収率は９５％であった。赤外吸収で調べたところ、この
オイルにはけい素原子−水素原子の結合の切断による３
官能性単位の生成は認められなかった。
オイルにはけい素原子−水素原子の結合の切断による３
官能性単位の生成は認められなかった。
実施例４
実施例１と同様の原料及び触媒を用い、同様にして重合
と平衡化さらに硫酸層の除去を行ない、残ったシリコー
ン層へ炭酸ソーダ７部と無水硫酸ソーダ５部を加え、室
温で３０分間中和後、固形分をろ過して無色透明のオイ
ルを得た。収率は９５％であった。赤外吸収で調べたと
ころ、このオイルにはけい素原子−水素原子の結合の切
断による３官能性単位の生成は認められなかった。
と平衡化さらに硫酸層の除去を行ない、残ったシリコー
ン層へ炭酸ソーダ７部と無水硫酸ソーダ５部を加え、室
温で３０分間中和後、固形分をろ過して無色透明のオイ
ルを得た。収率は９５％であった。赤外吸収で調べたと
ころ、このオイルにはけい素原子−水素原子の結合の切
断による３官能性単位の生成は認められなかった。
Claims (1)
- １、酸触媒による重合反応及び／又は平衡化反応とこの
反応終了後の酸触媒の除去とからなる水素基含有シリコ
ーンの製造方法において、前記酸触媒の除去を、まず反
応系から酸触媒層を分離し、さらに生成物の水素基含有
シリコーン中に残存する酸触媒をこの生成物に不溶の弱
アルカリ性化合物により中和した後固形分を分離するこ
とによって行なうことを特徴とする製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1707890A JPH03221530A (ja) | 1990-01-26 | 1990-01-26 | 水素基含有シリコーンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1707890A JPH03221530A (ja) | 1990-01-26 | 1990-01-26 | 水素基含有シリコーンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03221530A true JPH03221530A (ja) | 1991-09-30 |
Family
ID=11933943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1707890A Pending JPH03221530A (ja) | 1990-01-26 | 1990-01-26 | 水素基含有シリコーンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03221530A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4444173A1 (de) * | 1994-12-12 | 1996-06-13 | Huels Silicone Gmbh | Verfahren zur Herstellung von im wesentlichen cyclenfreien Polyorganosiloxanen |
| US6433122B1 (en) | 1999-11-25 | 2002-08-13 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | method for producing organopolysiloxane |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS638421A (ja) * | 1986-06-28 | 1988-01-14 | ダウ・コ−ニング・リミテッド | シロキサン樹脂およびそれを製造する方法 |
-
1990
- 1990-01-26 JP JP1707890A patent/JPH03221530A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS638421A (ja) * | 1986-06-28 | 1988-01-14 | ダウ・コ−ニング・リミテッド | シロキサン樹脂およびそれを製造する方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4444173A1 (de) * | 1994-12-12 | 1996-06-13 | Huels Silicone Gmbh | Verfahren zur Herstellung von im wesentlichen cyclenfreien Polyorganosiloxanen |
| US6433122B1 (en) | 1999-11-25 | 2002-08-13 | Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. | method for producing organopolysiloxane |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3198784A (en) | Process of producing sucrose benzoates | |
| EP0094139B1 (en) | Process for the preparation of pure silicon dioxide | |
| US3484469A (en) | Preparation of 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclosiloxane | |
| JPH03221530A (ja) | 水素基含有シリコーンの製造方法 | |
| US4499028A (en) | Preparation of isethionic acid | |
| US4968839A (en) | Synthetic process for the preparation of N,N dimethyl glycine (DMG) | |
| JPH04300206A (ja) | シリコン塩化物の精製方法 | |
| JPS59118735A (ja) | Ｌ−リンゴ酸の純粋な水溶液の製法 | |
| US4354042A (en) | Process for making N,N,N',N'-tetraacetylethylenediamine | |
| SU580824A3 (ru) | Способ получени фосфата кали | |
| US3843702A (en) | Process for the manufacture of tris-(trimethylsiloxy)-phenylsilane | |
| WO2002008181A1 (fr) | Procede de production d'acide 2-hydroxy-4-methylthiobutanoique | |
| JPS5920665B2 (ja) | フエニルヒドラジンの精製方法 | |
| JPH01258643A (ja) | 多官能（メタ）アクリル酸エステルの製造法 | |
| JP3881044B2 (ja) | グリコール酸水溶液の製造法 | |
| US2487611A (en) | Purification of glycerin | |
| JP4517520B2 (ja) | ２−ヒドロキシ−４−メチルチオブタン酸の製造方法 | |
| JP2002293770A (ja) | ２−ヒドロキシ−４−メチルチオブタン酸の製造方法 | |
| SU404835A1 (ru) | Способ получения органополисилоксанов | |
| JP3614481B2 (ja) | フェニルシラントリオールの製造方法 | |
| JPH09278706A (ja) | ゴンドイン酸の製造法 | |
| JP2731816B2 (ja) | クレゾールの精製方法 | |
| JPS62192341A (ja) | ジアリルフタレ−トの製造法 | |
| US2647818A (en) | Process of preparing beryllium fluoride | |
| US1298334A (en) | Method for the utilization of niter cake. |