JPH03220175A

JPH03220175A - ピロリジン誘導体の製法

Info

Publication number: JPH03220175A
Application number: JP2013669A
Authority: JP
Inventors: Seiichi Takano; 誠一高野; Kuniro Ogasawara; 國郎小笠原; Koji Iwabuchi; 好治岩渕; Minoru Moriya; 実守谷
Original assignee: Nisshin Seifun Group Inc
Current assignee: Nisshin Seifun Group Inc
Priority date: 1990-01-25
Filing date: 1990-01-25
Publication date: 1991-09-27
Anticipated expiration: 2013-09-24
Also published as: JP2803879B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は不斉合成における不斉素子として有用な化合物
であるＣ２対称を有する光学活性なトランス−２，５−
二置換ピロリジン誘導体を立体選択性が高くかつ簡単に
合成する製造方法に関する。

〔従来技術および発明が解決しようとする課題〕Ｃ２対
称を有するトランス−２，５−二置換ピロリジン誘導体
は不斉合成における不斉素子として有用であることが知
られている（例えば有機合成化学協会誌、　４４．５３
２（１９８６））。そしてこの二置換ピロリジン誘導体
を製造する方法として出発物質に光学活性な化合物を用
いる方法（例えばＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、
、　２８．２０８３（１９８７））や、目的物を光学分
割して得る方法も知られている（例えばＪ、　Ｏｒｇ、
　Ｃｈｅｍ、、　４２．１６６３（１９７７）および同
誌５３．５３８３（１９８８））。しかしながらこれら
の方法は収率、工程の面からみて、満足できるものでは
ない。そこでＣ２対称を有する光学活性なトランス−２
，５−二置換ピロリジン誘導体の高収率で高立体選択的
な製法の開発が求められている。

〔問題を解決するための手段〕

本発明者らはかかる問題点を解決するべく鋭意研究した
結果、出発原料としてＮ−ベンゾイル−δ　ε−不飽和
アミド体を用いこれをヨウ素と共に環化して（２Ｓ、５
Ｓ）　−２−ベンゾイルオキシ−５−（保護されたヒド
ロキシメチル）ピロリジンとし次いでＣ２対称を有する
（２Ｓ、５Ｓ）２．５−二置換ピロリジンとする、工程
が簡単で、かつ収率が高く、立体選択性が高い製造方法
を見出して本発明を完成させたのである。

すなわち本発明は、下記式（ｎ）（ここでＲ３は水酸基の保護基であり、Ｐｈはフェニル
基または環上の水素が置換されていてもよいフェニル基
を示す）で表わされる化合物またはその対掌体をヨウ素
と処理することにより環化して下記式（ＩＩＩ）（ここでＲいＰｈは上記定義の通りであり、Ｒ２はアミ
ノ基の保護基である）で表わされる化合物またはその対
掌体とし、次いでこの化合物を脱ベンゾイル化するか、脱ベンゾイ
ル化とＲ１の除去とを行なうか、または脱ベンゾイル化
の後にその水酸基をＲ３と同じ保護基で保護することに
より下記式（Ｉ）（ここでＲ１、Ｐｈは上記定義の通り
である）で表わされる化合物またはその対掌体とし、こ
の化合物のアミン基を保護基の導入によって保護して、
下記式（ＩＶ）２（ここでＲ２は上記定義の通りであり、Ｒ３は同一また
は異なり、水素またはＲ１である）で表わされるトラン
ス−２，５−二置換ピロリジン誘導体またはその対字体
を製造する方法に関するものである。

この製造方法により例えば上記式（Ｉ）（Ｉ［）（ＩＩ
Ｉ）および（ＩＶ）の化合物において、定義されるＲ１
すなわち水酸基の保護基とは、水酸基の保護基としては
この技術分野で通常用いられている保護基、例えばベン
ジル基、芳香環の水素が低級アルキル、低級アルコキシ
により置換されたベンジル基、トリメチルシリル基など
が挙げられるがベンジル基が好ましい。

また、上記式（Ｉ）および（ＴＶ）の化合物において定
義されるＲ２すなわちアミノ基の保護基としては、この
技術分野で通常用いられている保護基、例えばｔ−ブト
キシカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、プロポキシカルボニル基等が挙げられｔ−
ブトキシカルボニル基が好ましい。

さらに式（■）、式（Ｉ［［）中におけるｐｈ基とはフ
ェニル基および芳香環上の水素が低級アルキル、低級ア
ルコキシ、アシル、アロイル、ニトロ、ハロゲン、アシ
ルオキシ、アロイルオキシで置換されていてよいフェニ
ル基を意味し、好ましい基としてはフェニル基がある。

本発明において、式（ＩＩ［）の化合物をヨウ素で処理
して式（Ｉ［［）の化合物を得る反応は、ヨウ素を、式
（ｎ）の化合物に対して１〜５倍モル、好ましくは３倍
モル使用して、非プロトン性溶媒、例えば、アセトニト
リル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエ
タン、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどと、
水の混合溶媒中で０〜５０℃、好ましくは２０°Ｃ前後
の反応温度で、２〜４時間かけて行なわれる。

次の式（Ｉ［［）の化合物のＮ位に保護基を導入して式
（ＩＶ）の化合物を得る方法は、通常の保護基導入法に
よって行なわれる。例えばｔ−ブトキシカルボニル基の
場合、ジ−ｔ−ブチルカーボネート（Ｄｉ−ｔ−ｂｕｔ
ｙｌ　Ｄｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）を用い、塩基、例えば
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、キノ
リン、ジメチルアニリンなどの含窒素有機塩基の存在下
、例えばジクロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタ
ン、トリクレンなどのハロゲン系溶媒中、０〜４０°Ｃ
１好ましくは１０〜３０°Ｃの反応温度で、５〜２０時
間かけて行なわれる。

次の、式（ＩＶ）の化合物より式（Ｉ）の化合物を得る
方法は、まず、式（ＩＶ）の化合物のベンゾイル基を除
去することによって行なわれる。この脱ベンゾイル化反
応は、炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウムを用いて、溶
媒、例えばメタノールまたはエタノール中において、１
０〜３０℃の反応温度で、３０分〜２時間かけて行なわ
れる。

そして、化合物（Ｉ）においてＲ１が共に水素である化
合物を得たい場合、脱ベンゾイル化に引き続きＲ１の除
去が行なわれる。例えばＲ１がベンジル基の場合、水素
添加触媒、例えば水酸化パラジウム−炭素触媒の存在下
に溶媒、例えばメタノール、エタノール中において、１
０〜３０℃の反応温度で、１０〜３０時間常圧下または
加圧下に水素添加することによって行なわれる。

そしてまた、化合物（Ｉ）においてＲ１が共にＲ３、す
なわち保護されたヒドロキシメチルである化合物を得た
い場合、脱ベンゾイル化の後にその水素基をＲ１と同じ
保護基で保護することによって行なわれる。例えばＲ１
がベンジル基の場合、脱ベンゾイル化した化合物を水素
化ナトリウムのような塩基の存在下、テトラヒドロフラ
ン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドなどの溶媒中、ハロ
ゲン化ベンジルと常温〜溶媒の沸点の反応温度で数分〜
数十時間反応させることによって行なわれる。

上記した本発明の方法は次のスキーム（Ｉ）によって示
される（又キーム中、Ｂｎはベンジル基であり、Ｐｈはフェニ
ル基であり、ｔ−Ｂｕはｔ−ブチル基でありＤＭＦはジ
メチルホルムアミドである。なおこのベンジル基はｐ−
メ１−キシフェニル、ｐ−メトキンベンジル、よたはｔ
−ブチルジメチルシリルなとであっても良い。）（スキーム本発明の原料である式（Ｉ［ＸＲ，−ベンジル）の化合
物は、次のスキーム■の方法により調製することができ
る。

ＣＨ２ＣＪＩ２（スキーム中、Ｂｎはベンジル基、ＴＨＦはテトラヒド
ロフラン、Ｅｔはエチル基であり、Ｐｈはフェニル基で
ある。なおこのベンジル基はｐ−メトキンフェニル、ｐ
−メトキシベンジルまにはｔ−ブチルジメチルシリルな
どであっても良い。）すなわち、式（Ｖ）の（Ｓ）　−０−ベンジルグリ／ド
ールを、テトラヒドロフラン中、塩化アリルマグ不ソウ
ムと反応させ、式（Ｖｌ）の化合物を得、次にこの化合
物をジイソグロビルアゾジ力ルポキンレートおよヒドリ
フェニルホスフィンの存在下、テトラヒドロフラン中フ
タルイミドと反応させ式（■）の化合物とし、次にこの
化合物ヲエタノール中、ヒドラジンで処理して、式（■
）の化合物とし、最後に、この化合物をトリエチルアミ
ンの存在下、塩化メチレン中、塩化ベンゾイルと反応さ
せることにより式（Ｉ［）の化合物を得る。

式（１）で表わされる化合物は、不斉合成における不斉
素子として有用であるが、さらにまた、そのもの自身天
然物合成の中間体となり得る。

例えば、−形式（Ｉ）で表わされる化合物で、Ｒ２がｔ
−ブトキシカルボニル基でＲ３が水素のものは、次のス
キーム■の方法によって、海洋紅藻類Ｓｃｈｉｚｙｍｅ
ｎｉａ　ｄｕｂｙｉから得られるアミノ酸である（２Ｓ
、５Ｓ）−ピロリジン−２，５−ジカルボン酸（ｆｆ）
に導くことができる。

（スキーム　ＩＩＩ）（１：Ｒ）−Ｈ，Ｒ２−Ｃｏ、ｔ−Ｂｎ）有用であり、
さらに他の化合物例えば海洋紅藻類から得られるアミノ
酸化合物を生成させる出発物質としても利用することが
可能である。

以下実施例により本発明の詳細な説明する。

Ｃ０２ｔ−Ｂｕ（Ｖ）以上詳述したように、本発明の方法により、従来高立体
選択的に、高収率で得るのが困難であったトランス−２
，５−二置換ピロリジン誘導体を１ステツプで容易に高
立体選択的に得られることが明らかにされた。本発明の
方法で得られる化合物は不斉合成における不斉素子とじ
て実施例１（Ｒ）−６ベンジルオキシ５−ヒドロキシ− １−ヘキセン　（ＶＴ）テトラヒドロ７ラン４０ｍＱ中のマグネシウム３．２ｆ
？　（１３２ミリモル）の溶液に塩化アリル９．８ｍＱ
（１２０ミリモル）を水冷下、１時間かけて滴下し同温
度で３０分撹拌後、テトラヒドロフラン３５＋＋＋１２
溶液中の（Ｓ）−〇−ベンジルグリシドール（Ｖ）６．
００９（３６，６ミリモル）を０°Ｃで５分かけて滴下
しｔこ。

同温度で１．５時間撹拌後、飽和塩化アンモニウム水溶
液を加え、セライト濾過後エーテルで抽出した。エーテ
ル層を飽和ＮａＣＱ飽和水溶液で洗浄後硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。減圧下溶媒を留去し得られた残渣をシリ
カゲル２５０ｇを用いるカラムクロマトグラフィーに付
し、エーテル−ｎ−ヘキサン（１：６　ｖ／ｖ）の流分
よりアルコール体（Ｖｌ）を無色油状物として７．１８
ｇ（収率９５％）得　Ｉこ　。

Ｃσ　磨　　　　７．３８°　　　（ｃ　　　　１．０
０２．　　　ＣＨＣ（２，）元素分析ＣＣ１５Ｈ１ａＯ
□として）計算値（％）：　Ｃ、７５，６８；　Ｈ、８，８実測値
（％）：　Ｃ、７５，５０；　Ｈ，８，８０ＩＲｙ　ｎ
８ａｔｃｍ−’　：　３４５０　　　　　　　、ａＸ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｆｆ、）δ：　１．３６−１．６
８（２Ｈ；　ｍ）、　２．０１２．３３（２Ｈ，ｍ）、
　２．３５−２．５７（ＩＨ，ｂｒ、ｓ、　Ｄ２０での
交換可）、　３．２２−３．６０（２Ｈ，ｍ）、　３．
７Ｏ−３−９５（ＬＨ。

ｍ）、　４−５５（２Ｈ，ｓ）、　４−８７−５．４５
（２Ｈ，ｍ）、　５．５８−６．０６（ＩＨ，ｍ）、　
７−３３（５Ｈ，ｓ）ＭＳ　＋＋／ｅ　：　２０６　（
Ｍ”）　、　９１　（１００％）ｅｘａｃｔ　　ｍａｓ
ｓ計算値ＣＧｒｓＨ１ｓＣｈとして）　：　２０６．１３
０７（Ｍ”）実測値：　２０６．１２９７（Ｍ”）；実
施例　２（Ｓ）−６−ベンジルオキシ−５−フタロイルアミノ−
１−ヘキセン　（■）テトラヒドロフラン８０ｍＱ中のアルコール体（■）６
．９６９　（３３，８ｍｍｏｌ）の溶液に撹拌下、フタ
ルイミド６．４７９（４４，０ミリモル）とトリフェニ
ルフォスフインｌ　ｌ　、５９（４３，８ミリモル）を
加え、水冷下でジイソプロピルアゾカルボキシレート８
．７ｍ１２　（４４，２ミリモル）を滴下した。徐々に
室温まで昇温し同温で２０分間撹拌しシリカゲル３０９
を加え減圧下溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲル
３００ｇを用いるカラムクロマトグラフィーに付し、エ
ーテル−ｎ−ヘキサン（１：６　ｖ／ｖ）の流分より化
合物（■）を無色油状物として９．６７ｇ（収率８５％
）得た。

（ｅｘ　）Ｍ　＋　３１．４°　（ｃ　　Ｏ，９９４Ｃ
ＨＣＬ）元素分析（Ｃ２１Ｈ２１ＮＯ３として）計算値
（％）　：　Ｃ，７５，２０；　Ｈ，６，３１；　Ｎ　
、４゜１８実測値（％）　：　Ｃ，７４，８３；　Ｈ，
６，４６；　Ｎ　、４．１４ＩＲ”ａｔｃｍ−’　：　
１７１０．１７８０ａｘ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（ｊｌｓ）δ：　１．７０−２．２
０（４Ｈ，ｍ）、　３．６６（ＬＨ。

ｄｄ、　Ｊ＝５．５．９．５Ｈｚ）、　４．００（ＬＨ
，ｔ、　Ｊ□９．５Ｈｚ）。

４．４８−４．６８（３Ｈ，ｍ）、　４．８６−５．１
０（２Ｈ，ｍ）、　５．５５−６．００（ＩＨ，ｍ）、
　７．２３（５Ｈ，ｓ）、　７．６５−７．９０（４Ｈ
。

ｍ）ＭＳ　ｍ／、　：　３３５（Ｍつ、　１４８　（１００
％）ｅｘａｃｔ　　ｍａｓｓ計算値（Ｃ＊＋Ｈｚ□ＮＯ３として’）　：　３３５．
１５２１（Ｍつ実測値：　３３５．１５２４（ｌｉｌつ
実施例　３（Ｓ）−５−アミノ−６−ベンジルオキシ−ｌ−ヘキセ
ン　（■）（■）エタノール２００ｍＱ中のイミド体（■）７．００９（
２０，９ミリモル）の溶液にヒドラジンモノヒトレート
ｇ、１ｍＱ（１ロアミリモル）を加え２０分間加熱還流
した。冷却後減圧下で溶媒および過剰の試薬を留去し残
渣をクロロホルムを用いセライト濾過しだ。炉液から減
圧下に溶媒を留去し、得られた残渣を減圧蒸留に付し無
色油状物としてアミン体（■）を３．５８９　（収率８
４％）得た。

梯点：　１０５°Ｏ（０，２ｍｍＨｇ）クーゲルロール
’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ（４，）δ：　１．３４１．４６（
４Ｈ，ｍ、　２ＨがＤ２０で交換可）、２．００−２．
２６（２Ｈ，ｍ）、　２．８７−３．０６（ＩＨ，ｍ）
、　３．２４（ＩＨ，ｔ、　Ｊ□８．８Ｈｚ）、　３．
４４（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝６．８，８．８Ｈｚ）、４．５２（２Ｈ，ｓ
）、４．８９−５．１０（２Ｈ，ｍ）、５．９９（ＩＨ
，ａａｔ、Ｊ＝６．６．９．８．１７．２Ｈｚ）、７．
３３（５Ｈ，ｓ）実施例　４（Ｓ）−５−ベンゾイルアミノ−６−ペンジルオキシ−
１−ヘキセン　（Ｉ［）（ＩＩ）塩化メチレン２０ｍＱ中のアミン体（■）１．８・５２
ｇ（９，０ミリモル）の溶液に水冷下、トリエチルアミ
ン１．４ｍｆｆ（１０ミリモル）および塩化ベンゾイル
１．２ｍＭ１０ミリモル）を滴下し同温で４分間撹拌し
た。室温に戻し１時間３０分撹拌した後に塩化メチレン
を加え有機層を水、飽和ＮａＣｌ２水溶液で順次洗浄し
硫酸マグネシウムで乾燥した。

減圧下で溶液を留去し、残液をシリカゲル９０９を用い
るカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル−ｎ−ヘ
キサン（１：４　ｖ／ｖ）の流分から無色固形物として
ベンズアミン体（Ｉ［）を２．６０ｇ（収率９４％）得
た。これをｎ−ヘキサンより再結晶し、無色針状晶とし
て２．４０９（収率８６％）得た。融点８０〜８１　’
０元素分析（ＣＺ。Ｈ２３ＮＯ２として）計算値（％）　
：　Ｃ，７７，６３；　Ｈ，７，５０；　Ｎ　、４．５
３実測値（％）　：　Ｃ，７７，６３ｉ　Ｈ，７，５９
；　Ｎ　、４．５５ＩＲｙ　ｎｕｊｏｌｃｍ−’　：　
３３００．１６３−ＯａＸ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＬ）δ：　１．７３−１．９２（
２Ｈ，ｍ）、　２．０３−２．２０（２Ｈ，ｍ）、　３
．６２（２Ｈ，ｄ、　Ｊ＝３．９１Ｈｚ）、　４．１５
−４．４８（ＩＨ，ｍ）、　４．８９−５．１４（２Ｈ
，ｍ）、　４．５５（２Ｈ。

ｓ）、　５．６４−６．０８（ＩＨ，ｍ）、　６．２５
−６．５０（ＬＨ，ｍ）。

７．３３（５Ｈ，ｓ）、　７．３７−７．５４（２Ｈ，
ｍ）、　７．６７−７．８２（２Ｈ，ｍ）（ａ　：ｌＳ　　３５−７’　　（ｃ　　０．９９６．
　ＣＨＣＬ）ｅｘａｃｔ　　ｍａｓｓ計算値（Ｃ２゜Ｈ２３Ｎ０２として）　　：　３０９．
１７２９ＣＭ”）実測値：　３０９．１７１０（Ｍつ実施例　５（２Ｓ、５Ｓ）−５−ベンゾイルオキシメチル−２−ベ
ンゾイルオキシメチルピロリジン　（ＩＩＩ）（２Ｓ、
５Ｓ）−５−ベンゾイルオキシメチル−２−ベンゾイル
オキシメチル−１−ｔ−ブトキシカルボニルピロリジン
　（ＩＶ）（■）　　　　　　　　　　　　　　　　０１Ｒ＝−Ｃ−０−ｔ−Ｂｕ　　（ＩＶ）アセトニトリル−水（３：ｌ　ｖ／ｖ）２０ｍ（２中の
アミド体（ＩＩ　）１．１０９（３，５６ミリモル）の
溶液に室温でヨウ素２．７１９（１０−７ミリモル）を
加え同温で３時間撹拌後、エーテルを加え有機層を飽和
ＮａＨＣＯ３ＭＳ　′／ｅ　：　３０９（Ｍつ、　１０
５（１００％）水溶液、１０％ＮａｘＳ２０ｓ水溶液、
飽和ＮａＣＱ水溶液で洗浄し硫酸マグ不ンウムで乾燥し
た。減圧下溶媒を留去し、粗ピロリジン体（Ｉ［［）を
得た。この粗生成物を塩化メチレン１２ｍＱに溶解し、
トリエチルアミンＱ、５ｍＱ　（３，６ミリモル）およ
びジｔ−ブチルジカーボネート７８０ｍｇ（３，５７ミ
リモル）を加え室温で１５時間撹拌しｔ；。塩化メチレ
ンを加え、水、飽和ＮａＣＱ水溶液で順次洗浄後、硫酸
マグネシウムで乾燥し減圧溶媒を留去した。残渣をンリ
カゲル６０ｇを用いるカラムクロマトグラフィーに付し
、エーテル−〇−ヘキサン（１ニアｖ／ｖ）の流分より
化合物（ＩＶ）を無色油状物として７４０ｍｇ（原料回
収を考慮し収率６３％）得た。エテル−ｎ−ヘキサン（
１：４　ｖ／ｖ）の流分より原料を２４３ｍｇ回収した
。

Ｃａ　）ｒ　　６５−１’　　（ｃ　　１．００４．　
ＣＨＣｌ２３）元素分析（Ｃ２Ｓ８３１ＮＯ５として）
計算値（％）　：　Ｃ，７０，５５；　Ｈ，７，３５；
　Ｎ　、３．２９実測値（％）　：　Ｃ，７０，３４；
　Ｈ，７，５２；　Ｎ　、３．３８ＩＲｙ　ｎｅａＬｃ
ｍ−’　：　１６９０．　１７２０ＴｌａＸ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱｓ）δ　：　１．４１−１．５
５（９Ｈ，ｍ）、１．８９２．２５（４，Ｈ，ｍ）、３
．２６−３．７０（２Ｈ，ｍ）、３．８２−４．５９（
６Ｈ，ｍ）、７．２６１．６１（８Ｈ，ｍ）、７．９６
−８．１０（２Ｈ。

ｍ）ＭＳ　ｍ／ｅ　：　４２５（Ｍつ、　１９０（１００％
　）ｅｘａｃｔ　　ｍａｓｓ計算値（Ｃ２５Ｈ３１ＮＯ５として）　：　４２５，２
２０２（Ｍつ実測値：　４２５，２１７６（Ｍつ実施例　６（２Ｓ、５Ｓ）−２−ベンジルオキシメチル−１−ｔブ
トキシカルボニル−５−ヒドロキシメチルピロリジン　
（１）（ＩＶ）（Ｉ）メタノール６ｍｒｌ中の化合物（ＴＶ）６９７ｍｇ（１
，６４ミリモル）の溶液に炭酸カリウム２５０ｍｇ（１
，８１ミリモル）を室温で加えた。２時間３０分撹拌後
減圧下溶媒留去しエーテルを加え、飽和ＮａＣＱ水溶液
で有機層を洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
下溶媒を留去し得られた残渣をシリカゲル１５ｇを用い
るカラムクロマトグラフィーに付し、エーテル−ｎ−ヘ
キサン（３：２　ｖ／ｖ）の流分から無色油状物として
化合物（Ｉ）を４７０ｍｇ（収率８９％）得た。

Ｃ、）Ｈ−５８，７°　（ｃ　　Ｏ，９９２，ＣＨＣ（
２，）ＩＲｙ　ｎｅａｔｃｍ−’　：　１６９０．　３
４５０ａＸ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ、）δ：　１．４３（９Ｈ，ｓ
）、　１．８２−２．１６（４Ｈ。

ｍ）、３．３３−３．７０（５Ｈ，ｍ）、３．８５−４
．０９（２Ｈ，ｂｒ）。

４．５２（２Ｈ，ｓ）、７．３３（５Ｈ，ｓ）ＭＳ　ｍ
／ｅ：　３２１（Ｍつ、　２００（１００％）ｅｘａｃ
ｔ　　ｍａｓｓ計算値（Ｃ＋　８Ｈ２７ＮＯ４として）　：　３２１．
１９４０（ｒ）実測値：　３２１．１９２０（Ｍ”）実施例　７（２Ｓ、５Ｓ）　−１−ｔ−ブトキシカルボニル−２，
５−ビス（ヒドロキシメチル）ピロリジン　ＣＩ）（Ｉ
）（１）メタノール１０ｍＱ中のアルコール体（Ｉ　）４７０ｍ
ｇ（１，４６ｍｍｏｌ）の溶液に２０％水酸化パラジウ
ム炭素２０ｍｇを加え、水素気流下１０時間撹拌した。

メタノールを用いセライト濾過し炉液を減圧溶媒留去し
、残渣をシリカゲル１０９を用いるカラムクロマトグラ
フィーに付し、３％メタノール−ニー　チル−ｎ−ヘキ
サン（エーテル：ｎ−ヘキサン　１：４　ｖ／ｖ）の流
分から化合物（Ｉ）を無色あめ状として３２５ｍｇ（収
率９６％）得た。

（ａ〕ｙ−６６，９°　（ｃ　　３．００．　ＭｅＯＨ
）ｌＲｙ　””ｔｃｍ−１：　１６７０．１６９０．３
４００ａｘＩ　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ、）δ：　１．４７（９Ｈ，
ｓ）、　１．６４−２．２０（４Ｈ。

ｍ）、２，９Ｏ−３−１０（２Ｈ，ｂｒ、　Ｄ２０で交
換可）、　３．４７４．０８（６８，ｍ）ＭＳ　ｍ／ｅ　：　２３１（Ｍ”）、　２００（１００
％）ｅｘａｃｔ　　ｍａｓｓ計算値（Ｃ＋　ＩＨ２１ＮＯ４として）　：　２３１．
１４７０（Ｍ”）実測値：　２３１．１４７６（Ｍ”）実施例　８（２Ｓ、５Ｓ）　−１−ｔ−ブトキシカルボニル−２，
５ビス（メトキシカルボニル）ピロリジン　（Ｖ）（１
）（Ｖ）四塩化炭素二アセトニトリル：水Ｃ２：２：３ｖ／ｖ）
中のジオール体（Ｉ　）３２５ｍｇ（１，４１ｍｍｏｌ
）の溶液を室温下撹拌し過ヨウ素酸ナトリウム１．８６
ｇ（８，７０ミリモル）および塩化ルテニウムＣＲｕＣ
Ｑｓ・ＨｚＯ）８−３ｍｇ（０，０３２ｍｍｏｌ）を加
え３時間撹拌した。

塩化メチレンを用い４回抽出を行い、抽出液にジアゾメ
タンのエーテル溶液を加えた。飽和ＮａＨＣＯ，水溶液
、飽ＱＮａＣ４水溶液で順次洗浄し硫酸マグ不ンウムで
乾燥した。減圧下溶媒を留去して得られた残渣をシリカ
ゲル８ｇを用いるカラムクロマトグラフィーに付しエー
テル−ｎ−ヘキサン（１：３　ｖ／ｖ）の流分からジエ
ステル体（１を無色固形物として２８８ｍｇ（収率６９
％）得た。

サラニエーテルーｎ−ヘキサンから再結晶をし無色板状
晶２２０ｍｇ（収率５４％）を得た。

融点＝７３〜７５℃ 〔σ〕乙’　　−７２，２°　（ｃ　　０．９９４．　
ＣＨＣＩ２ｍ）元素分析（ＣＩ３Ｈ１□ＮＯｓとして）
計算値（％）　：　Ｃ，５４，３３；　Ｈ，７１７、Ｎ
　、４．８８測定値（％）　：　Ｃ，５４，３３；　Ｈ
，７，２５；Ｎ　、４．９１’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＬ）
δ：　１．４１（９Ｈ，ｓ）、　１．８９−２．３８（
４Ｈ。

ｍ）、　３．７３（６Ｈ，ｓ）、　４．３９−４．５９
（２Ｂ、　ｍ）ＭＳ　＋＋／ｅ：　２８７（Ｍ”）、　
１２８（１００％）ｅｘａｃｔ　　ｍａｓｓ計算値（Ｃ＋　ｓＨｚ　＋ＮＯｓとして）　：　２８７
．１３６９（Ｍつ実測値：　２８７．１３７３（Ｍ＋）実施例　９（２Ｓ、５Ｓ）−２，５−ビス（メトキシカルボニル）
ピロリジン　（ｆｆ） −ｔ−Ｂｕ（Ｖ）　　　　　　　　　　　　　　　　　（ＩＸ）塩
化メチレン１ｍＱ中の化合物（Ｖ）１２５ｍｇ（０，４
３６ｍｍｏｌ）の溶液に水冷下トリフルオロ酢酸０．３
４ｍ１２（４，４ｍｍｏｌ）を滴下し、３０分間撹拌後
室温まで昇温しざらに４時間撹拌した。減圧下で溶媒お
よび過剰の試薬を留去し塩化メチレンを加え飽和ＮａＨ
ＣＯ，水溶液、飽和ＮａＣｆｆ水溶液で順次洗浄し、減
圧下溶媒を留去し残渣をシリカゲル６りを用いるカラム
クロマトグラフィーに付し、エーテルの流分から無色油
状物として化合物（■）を７６ｍｇ（収率９３％）得た
。

Ｃａ　）Ａ’　−４５，９°（ｃ　　１．０２４．　Ｃ
ＨＣＱｓ）’　Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＱ　３　）δ：　ｌ
−９４−１，９８（２Ｈ，ｍ）　、２．１５−２．２１
（２Ｈ，ｍ）、　２．６５（ＩＨ，ｂｒ）、　３．７３
（６Ｈ，ｓ）。

３．９８−４．００（２Ｈ，ｍ）ＭＳ　Ｗ′／ｅ　：　　１８７（Ｍ”）、６８（１０（
１％）ｅｘａｃＬ　　ｍａｓｓ計算値（ＣａＨ＋ｓＮＯ，として）　：　１８７．０８
４４（Ｍ”）実測値：　１８７．０８５０（Ｍ”）実施例　ｌｏ（２Ｓ、５Ｓ）−ピロリジン−２，５−ジカルボン酸（
Ｘ）（ＩＸ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（
Ｘ）化合物（ｆｆ　）９２＋ｎｇ（０，４９ミリモル）
にＩＮ水酸化カリウム水溶液０．５＋ｌＩＱを加え１４
時間撹拌した。

この溶液をイオン交換樹脂（Ｄｏｗｅｃ　５０Ｗ−Ｘ８
２００４００Ｍｅｓｈ　Ｈ”型）に付し、０．２３Ｎア
ンモニア水の流分からアミノ酸（Ｘ）を無色固形物とし
て７２１９（収率９２％）得た。さらに水−エタノール
から再結晶して針状晶２２ｍｇを得た。

融点〉３００℃ Ｃａ　）！’　　１０２’　（ｃ　　Ｏ，９８３，Ｈｚ
Ｏ）天然物：　Ｃａ　）ｒ　−１１２°（ｃ　　１．　
ＨｚＯ）’Ｈ−ＮＭＲ（ＤｚＯ）δ：１．９４−１．９
８（２８，ｍ）、２．１５−２．２１（２Ｈ，ｍ）、３
．７４（６Ｈ，ｓ）、３．９８−４．００（２Ｈ，ｍ）
〔発明の効果〕以上実施例でも述べた如く、本発明の方法により、トラ
ンス−２，５−二置換ピロリジン誘導体を簡便に、高立
体選択的に、しかも高収率で得ることが出来た。この化
合物は、不斉合成における不斉素子として有用であり、
また、ある種のアミノ酸等の合成の中間体としても有用
である。

Claims

【特許請求の範囲】下記式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）（ここでＲ＿１は水酸基の保護基であり、Ｐｈはフェニ
ル基または環上の水素が置換されていてもよいフェニル
基を示す）で表わされる化合物またはその対掌体をヨウ
素と処理することにより環化して下記式（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III）（ここでＲ＿１、Ｐｈは上記定義の通りである）で表わ
される化合物またはその対掌体とし、この化合物のアミノ基を保護基の導入によって保護して
下記式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV）（ここでＲ＿１、Ｐｈは上記定義の通りであり、Ｒ＿２
はアミノ基の保護基である）で表わされる化合物または
その対掌体とし、次いでこの化合物を脱ベンゾイル化するか、脱ベンゾイ
ル化とＲ＿１の除去とを行なうか、または脱ベンゾイル
化の後にその水酸基をＲ＿１と同じ保護基で保護するこ
とにより下記式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（ここでＲ＿２は上記定義の通りであり、Ｒ＿３は同一
または異なり水素またはＲ＿１で、Ｒ＿１は上記定義の
通りである）で表わされるトランス−２，５−二置換ピ
ロリジン誘導体またはその対掌体を製造する方法。