JPH03218816A - 立体リトグラフ装置 - Google Patents

立体リトグラフ装置

Info

Publication number
JPH03218816A
JPH03218816A JP2290593A JP29059390A JPH03218816A JP H03218816 A JPH03218816 A JP H03218816A JP 2290593 A JP2290593 A JP 2290593A JP 29059390 A JP29059390 A JP 29059390A JP H03218816 A JPH03218816 A JP H03218816A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
target surface
mirror
frame
distance
dynamic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2290593A
Other languages
English (en)
Inventor
Stuart T Spence
スチュアート、トーマス、スペンス
Charles W Lewis
チャールズ、ウイリアム、ルイス
Mark A Lewis
マーク、アラン、ルイス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3D Systems Inc
Original Assignee
3D Systems Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 3D Systems Inc filed Critical 3D Systems Inc
Publication of JPH03218816A publication Critical patent/JPH03218816A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/04—Automatically aligning, aiming or focusing the laser beam, e.g. using the back-scattered light
    • B23K26/042—Automatically aligning the laser beam
    • B23K26/043—Automatically aligning the laser beam along the beam path, i.e. alignment of laser beam axis relative to laser beam apparatus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/04—Automatically aligning, aiming or focusing the laser beam, e.g. using the back-scattered light
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10—Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • B29C64/135—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y10/00—Processes of additive manufacturing
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B33—ADDITIVE MANUFACTURING TECHNOLOGY
    • B33Y—ADDITIVE MANUFACTURING, i.e. MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL [3-D] OBJECTS BY ADDITIVE DEPOSITION, ADDITIVE AGGLOMERATION OR ADDITIVE LAYERING, e.g. BY 3-D PRINTING, STEREOLITHOGRAPHY OR SELECTIVE LASER SINTERING
    • B33Y30/00—Apparatus for additive manufacturing; Details thereof or accessories therefor

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Heating, Cooling, Or Curing Plastics Or The Like In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明の利用分野は、立体的な物体を製造するための立
体リトグラフ（ｓｌｅ＋ｅｏｌｉｌｈｏｇｒａｐｈ）装
置である。
発明の背景 立体リトグラフは、複雑な原型を製造するための方法と
して使用されるようになってきた。これは、ハットに入
った光硬化性ポリマーをその表面で硬化させることによ
って、所期の部分の断面層を上に重ねるように連続的に
プリントすることによって行イつれる。一つの断面層が
硬化した後、この断面をハット内で液体の表面より下に
連続した断面の所望の厚さたけ下げる。硬化した断面層
上に液体の滑らかなコーティングか形成されるようにす
るため、種々の方法のうちの一つ又はそれ以上の方法か
使用される。滑らかなコーティングの厚さは連続した断
面の所望の厚さに等しい。次いて、連続した断面を前の
断面と物理的に連結されるようにハントの表面で製造す
る。この工程を繰り返すこと、及び連続した断面の蓋然
的変化によって物理的な部分を構成することかできる。
これは、原型等を製造する上で非常に有用である。立体
リトグラフシステムは、［立体リトグラフによる立体的
な物体の製造装置（ＡＰＰＡＲＡＴＩＪＳ　ＦＯＲＰＲ
ＯＤＬＩＣＴＩＯＮ　ＯＦ　Ｔ｝ＩＲＥＥ−ＤＥＭＥＮ
ＳＩＯＮＡＬ　ＯＢＪＥＣＴＳＢＹ　ＳＴＥＲＥＯＬＩ
ＴＨＯＧＲＡＰＨＹ）Ｊという表題の米国特許第４５７
５３３０号に記載され、この特許の開示を参考のため本
願に組み込む。
リトグラフ工程について、幾つかの手段か考えられてき
た。光硬化性ポリマーのターゲット面を横切ってトレー
スする電磁放射ビーム、全体に一方向に放射させるマス
ク、化学物質の噴流、及び熱が、所望の断面をつくるの
に使用できる可能性の幾つかを提供する。非常に実用性
かあることがわかっている一つのこのようなシステムで
は、代表的にはレーザーが発生する電磁ビームを使用す
る。ビームの選択されたトレースを感光面で行うため、
コンピュータ制御式動的鏡システムｆｄＨａｍｉｃ　ｍ
ｉｒｒｏｒ　　ｓｙｓ＋ｅｍ）をこのようなビーム発生
装置と共に使用するのがよい。立体リトグラフシステム
では、ビームの選択されたトレースは、各連続した断面
が形成される光硬化性ポリマー液の表面上で行われる。
１９８９年３月３１日に出願された［解像度の高い立体
的な物体を立体リトグラフで製造するための方法及び装
置 （ＭＥＴＨＯＤ　ＡＮＤ　ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ　ＦＯＲ
　ＰＲＯＤＵＣＴＩＯＮ　ＯＦＨＩＧＨ　ＲＥＳＯＬＵ
ＴＩＯＮ　ＴＨＲＥＥ−ＤＩＭＥＮＳＩＯＮＡＬ　ＯＢ
ＪＥＣＴＳＢＹ　ＳＴＥＲＥＯＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＹ
）　Ｊという表題の米国特許出願第３３１６６４号を参
照されたい。この出願の開示を参考のため本願に組み込
む。
立体リトグラフ装置の設計に関して多くの配慮が払われ
ている。所望のパターンをトレースするのに動的鏡シス
テムを使用する場合、レーザービームを使用するのがよ
く、レーザービームは、鏡によって被加工面に差し向け
られる前に集光レンズを通過する。集光レンズは、多く
の場合液状の光硬化樹脂である硬化性材料の被加工面上
にビームを焦合させるように選択されている。ビームは
、集光レンズで焦合された後に小さな像を形成できるよ
うにその大きさを増大させるため、集光レン′ズを通過
する前に凹レンズを通過するのがよい。
ビームがトレースする水平液面の全ての部分は、動的鏡
システムからの光路長が同じところがなく、従って、ビ
ームを水平液面の全てのこのような部分て最適に焦合さ
せることができない。形成される部分に細部の最大解像
度を実現するため、ビームを比較的に小さな点に焦合し
なければならない。
この焦合上の問題のため、ビーム路長に比べて小さな視
野を使用するシステムが望ましい。この小さな視野は、
走査鏡とターゲット面との間の部分の長さに対して小さ
いターゲット面寸法（最大幅）に関連する。換言すると
、走査鏡の角変位は、ターゲット面の端から端まで横断
するとき、小さくなければならない。この設計の特徴は
、比較的大型の部品をこのようなシステムに加える必要
があるということとシステムの大きさを合理的な限度内
に収めるということである。
ビームの配向ちまた重要である。硬化速度がビムの強さ
（単位面積あたりの電力）によって影響を受けるため、
ビームを面に比較的均一に配向させることが有利である
。同様に、硬化放射がターゲット面に９０°以外の角度
で衝突する場合にはいつでも問題が起こる。これが起こ
った場合には、これらと同じ角度で硬化し、覆瓦効果（
ｓｈｉｎｇｌｉＢ　ｅｌｆｅｃｌ）として周知の、部分
の仕上げの粗さを引き起こす。従って、ビームを液面に
できるだけ垂直に近くする、設計上の配慮を払わなけれ
ばならない。ビーム路長に対して小さなパターンがこの
所望の状態を高める。
許容することのできる誤差に対して薄い層を形成するこ
とによって覆瓦効果を少なくすることができるというこ
とは理解されよう。これは、覆瓦効果を引き起こす誤差
を生じる、ビームの液面でのＸ−Ｙ位置とビームの液面
下一層厚でのＸ−Ｙ位置とのずれのためである。ビーム
は、層が薄ければ薄い程垂直から外れ、顕著な覆瓦効果
を引き起こすことなく面にあたる。等式の形態でいうと
、中央からのビームの最大角変位θは、許容し得る誤差
のアークタンジェントを層の厚さで除したものてある。
例えば、許容誤差か０．０５０８ｍｍ（２ｍｉｌｓ）で
レーザーの厚さが０．　　５０８＋ｎｍ（２０ｍｉｌｓ
）である場合には、ビームの最大角変位は約５．７°で
ある。しかしながら、層の厚さが０．　　１　２　７ｍ
ｍ　（５ｍｉｌｓ）まで減少すると、最大角変位は約２
０°まで増大する。
追加のレーザー及び他の光学装置は、これらの問題点の
幾つか又は全てを減少させるか或いは無くすことができ
るが、システム全体の価格を大きく増大させてしまう。
システムのレイアウトにも別の考慮か払われている。減
少させたビーム回折から鮮明な像を得るため、被加工面
上に焦合されるビームのための多数の穴を設けるのか有
利である。しかしながら、この利点は、小さな像とビー
ムの広範な入射及び出口コーンの両方のため、広範な被
加工面積に亘って鮮明な焦合を維持し続ける上での非常
に大きな困難によって相殺される。これは、有利には、
視野をビーム路長に対して狭くしてしまう。また、動的
鏡が設計に影響を及ぼしてしまう。これらの動的鏡は、
このようなシステムにしばしば制限を提供する。鏡速度
は大きさによって影響を受ける。
これは、大型の鏡は大きな慣性を持つためである。
大きな反射角に亘って機能する鏡の能力もまた制限を受
ける。同時に、被加工面での距離の所定の増分か鏡の比
較的大きな枢動を必要とする場合、鏡の制御は更に精密
である。かくして、上述の設計上の配慮は長いビーム路
長と短いビーム路長との間で矛盾する要求を与える。好
ましくは、妥協である「最良の距離」か選択される。
かくして、立体リトグラフの設計では、トレース速度と
、正確性と、システムの価格との間で妥協か図らなけれ
ばならない。これらのファクタの均衡をとるため、被加
工面の最大直線寸法の約２倍乃至５倍、好ましくは３倍
乃至４倍の範囲内のビーム路長か競合するファクタの合
理的な妥協点てあるということがわかった。この関係は
、ビームとターゲソト面との交差が、公称入射角度、例
えば液面に垂直な法線から約１４°を越えないようにす
るものと理解することもできる。しかしながら、大型の
原型を得るためには、これらの関係は、次いで、比較的
大型の立体リトグラフシステムを必要とする。
本明細書中、最初の方で論じたように、ビーム路長と被
加工面の最大直線寸法との比率は幾つかの競合するファ
クタに左右され、特定の状況での好ましい比率は、これ
らのファクタのうちのいずれが優勢であるかによって決
まる。ここに定義してあるように、ビーム路長は、ビー
ムが動的鏡を出てから樹脂面に到るまでのビームの移動
距離である。比率の範囲の下限を与えるファクタは、（
１）覆瓦効果、（２）ビームの強さの変動、（３）走査
鏡の最大角速度及び角加速度、（４）ビーム路長の相違
、等である。これらのファクタの大きさ及びこれらのフ
ァクタに及はされる制御に応じてこの下限は増減される
。同様に、範囲の上限に到るファクタは、（１）走査鏡
鏡の角度配置の解像度（２）ターゲット面で特定のスポ
ット径を得るのに必要な走査鏡の大きさ、等である。
これらのファクタの大きさ及びこれらのファクタに及ぼ
される制御に応じてこの上限は増減される。
長すぎるビーム路長は、以下の不利な結果をもたらす。
第１に、ビームを面上でトレースするのに関連した直線
解像度が、ビーム路長が乗じられる角度解像度に等しく
、長いビーム路長は直線解像度に受容し難い損失をもた
らす。第２に、長いビーム路長は、樹脂面で所望のビー
ム径を達成するために、大型の動的鏡を必要とする。こ
れは、動的鏡の大きさが光学系を制限するものであるか
らである。しかしながら、動的鏡は代表的には非常に高
価であり、大型のものは更に高価である。
更に、大型の動的鏡は小型の鏡程には速度又は加速度を
上げることができない。
他方、短すぎるビーム路長もまた不利な結果をもたらす
。第１に、ビームが樹脂面、特にバットの外縁に更に過
大な角度で当たるため、短いビーム路長は覆瓦効果を恐
らく受容し難い程に悪化させてしまう。第２に、短いビ
ーム路長は、樹脂面、特に入射角度更に極端なバットの
外縁での強さを不均等にしてしまう。これは、硬化深さ
を不均等にしてしまう。第３に、短いビーム路長は、バ
ットの中央に差し向けられたビームの路長とバットの該
縁に差し向けられたビームの路長との間の差を更に大き
なものにしてしまう。従って、外縁では、ビームは、ビ
ームのくびれの範囲外で樹脂面と交差する。ビームのく
びれは、焦点の前後の焦点領域であり、この領域では、
ビーム径がほぼ一定であるように入射円錐の頂点と出射
円錐の頂点か接触する。従って、ビームは、外縁では焦
点から外れ、そのためビーム径は大きすぎるものとなる
。このため、これに関連してビームの強さが小さくなる
ため硬化深さが不均等になる。ターゲット面でのビーム
の並進速度を一定に維持する、これは均一な露光を維持
するのに望ましい、ため、ビーム路長の変化時に鏡の角
走査速度を変化させる必要から別の困難が生じる。
要するに、上述の理由から、本実施例についてターゲッ
ト面の最大直線寸法の約２倍乃至５倍、好ましくは約３
倍乃至４倍の範囲内のビーム路長か受容し得る範囲であ
るということがわかった。
勿論、他の実施例については、別の範囲が適当であろう
。というのは、上述のファクタのうちの一つ又はそれ以
上がより大きなファクタとなるからである。本発明は、
これらの他の実施例を包含しようとするものであり、タ
ーゲット面の最大線型寸法に対するビーム路長の比率を
対応して変化させる。
機械の大きさを大きくすることによって、実際上の困難
性か固有に存在する。大きさそれ自体は非現実的なもの
となる。好ましい実施例では、自由液而か使用され、こ
の液面は水平であるため、ビームは被加工面の上方から
差し向けられなければならない。液状樹脂が入ったバッ
トの底部、又はハットの側部を通過させる実施例では、
これらの同じ困難性か生じる。これらの場合には、被加
工面の増大はシステムの長さによって制限される。
従って、ターゲット面積の増大はシステムの高さによっ
て制限される。全ての構成部品の相対的な位置を維持す
るのに必要な構造は、複雑なものになるか或いは製造及
び使用に大きな注意を払わなければならないものになる
かである。ビームの焦合は更に複雑なものになる。同様
に固有ビームが複雑にされる。
このような立体リトグラフシステムでのビームの適正な
制御に考慮が払われた。米国特許出願第３３１６６４号
、及び参考のため本願に組み込んた、本願と同時に出願
された［立体リトグラフ部品の迅速で正確な製造（ＲＡ
ＰＩＤ　ＡＮＤ　ＡＣＣＵＲＡＴＥＰＲＯＤＵＣＴＩＯ
Ｎ　ＯＦ　ＳＴＥＲＥＯＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ　Ｐ
ＡＲＴＳ）　Ｊという表題のライアンアンドライアン （Ｌｙｏｎ　　＆　　Ｌｙｏｎ）の事件番号第１８８／
１７５号の米国特許出願を再び参照する。ビーム輪郭そ
れ自体は、ビームの強さ及び焦点を制御することかでき
、光硬化液内につくり出されるプラスチックの硬化深さ
及び幅を予言することができるように計測することがで
きる。１９８８年１１月８日に出願されたＵビームの輪
郭を決めるための装置及び方法（ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ　
ＡＮＤ　ＭＥＴＮＯＤ　ＦＯＲＰＲＯＦＩＬＩＮＧ　Ａ
　ＢＥＡＭ）　Ｊという表題の米国特許出願第２６８８
１６号、及び参考のため本願に組み込んだ、本願と同時
に出願された「立体的な物体を種々の浸透深さ及びビー
ム輪郭を使用した立体リトグラフで製造するためのシス
テム（ＩＭＰＲＯＶＥＤＳＹＳＴＥＭＦＯＲＰＲＯＤＵ
ＣＴＩＯＮＯＦ　　ＴＨＲＥＥ−ＤＥＭＥＮＳＩＯＮＡ
Ｌ　ＯＢＪＥＣＴＳ　ＢＹ　ＳＴＥＲＥＯＧＲＡＰ｝Ｉ
ＹＥＭＰＬＯＹＩＮＧＶＡＲＩＯＬｉＳ　ＰＥＮＥＴＲ
ＡＴＩＯＮ　ＡＮＤ　ＢＥＡＭ　ＰＲＯＦＩＬＥ）　Ｊ
　トイう表題のライアンアンドライアンの事件番号第１
８６／１６８号の米国特許出願を参照する。いろいろな
原因によるビームの偏りを補正することに考慮か払われ
ている。参考のため本願に組み込んた、１９８８年１１
月８日に出願された［立体リトグラフによる物体の製造
における偏りを補正するための装置及び方法（ＡＰＰＡ
ＲＡＴＵＳ　ＡＮＤ　ＭＥＴＨＯＤＦＯＲ　　ＣＯＲＲ
ＥＣＴＩ　へＩＧ　　ＦＯＲ　　ＤＲＩＦＴ　　ＩＮＰ
ＲＯＤＩＩＣＴＩＯＮ　　ＯＦＯＢＪＥＣＴＳ　：ｌｌ
Ｙ　ＳＴＥ：ＩＥＯＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＹ）　Ｊとい
う表題の米国特許出願第２６８９０７号を参照する。更
に、ターゲット面のグリットの前後でのビームの較正及
び正規化もまた、芯考のため本願に組み込んだ、１９８
８年１１月８日に出願された「立体リトグラフ装置を較
正及び正規化するめの装置及び方法（ＡＰＰＡＲＡＴＵ
Ｓ　　ＡＮＤ　ＭＥＴＨＯＤ　　ＦＯＲ　ＣＡＬＩＢＲ
ＡＴＩＮＧ　ＡＮＤＮＯＲＭＡＬＬ２１ＮＧ　Ａ　ＳＴ
ＥＲＥＯＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ　ＡＰＰＡＲＡＴＵ
Ｓ）　Ｊという表題の米国特許出願第２６８８３７号で
言及されている。これらの方法及びそのための装置は、
ビームをターゲット面で、又はターゲット面の周りで修
正するように設計されている。かくして、これらは、整
えられたビームを発生してこれをターゲット面に送出す
るのに使用される装置とは関わりなくシステムコンピュ
ータ制御装置を有する。立体リトグラフ部品を作るため
の立体リトグラフンステムに関する他の教示は、参考の
ため本願に組み込んだ、以下の明細書中に見出される。
１９８８年８月１８日に出願された［立体的な物体を立
体リトグラフで製造するための方法及び装置（ＭＥＴＨ
ＯＤ　ＡＮＤ　ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ　ＦＯＲ　ＰＲＯＤ
ＵＣＩＮＧ　ＡＴＨＲＥＥ−ＤＥＭＥＮＳＩＯＮＡＬ　
ＯＢＪＥＣＴ　ＢＹ　ＳＴＥＲＥＯＧＲＡＰＨＹ）　Ｊ
という表題の米国特許出願第１８２８０１号、１９８８
年４月１８日に出願された「立体的な物体を立体リトグ
ラフで製造するための方法及び装置」という表題の米国
特許出願第１８３０１５号、 １９８８年１１月８日に出願された「部分的に重合させ
た部品を取り出すための方法（ＭＥＴＨＯＤＦＯＲ　Ｄ
ＲＡＩＮＩＮＧ　ＰＡＲＴＩＡＬＬＹ　ＰＯＬＹＭＥＲ
Ｉ２ＥＤ　ＰＡＲＴＳ　）　Ｊという表題の米国特許出
願第２６８４０８号、１９８８年１１月８日に出願され
た「部分的に重合させた部品を仕上げるための方法（Ｍ
ＥＴＨＯＤＦＯＲ　ＦＩＮＩＳ｝ＩＩＮＧ　ＰＡＲＴＩ
ＡＬＬＹ　ＰＯＬＹＭＥＲｌ２ＥＤ　ＰＡＲＴＳ）　Ｊ
という表題の米国特許出願第２６８４２８号、１９８８
年１１月８日に田願された「部分的に重合させた部品を
硬化させるための方法ＦＭＥＴ｝ＩＯＤ　ＦＯＲ　ＣＵ
ＲＩＮＧ　ＰＡＲＴＩＡＬＬＹ　ＰＯＬＹＭＥＲＩ２Ｅ
ＤＰＡＲＴＳ）　Ｊという表題の米国特許出願第２６８
４２９号、 １９８８年１０月３１日に出願された［液面高さを５ｌ
ＡＩリし制御する適用及び方法（ＡＰＰＬＩＣＡＴＩＯ
Ｎ、へＮＤ　ＭＥＴＨＯＤ　　ＦＯＲ　　ＭＥＡＳＬＩ
ＲＩＮＧ　ＡＮＤ　　ＣＯＮＴＲＯＬＬＩＮＧ　　ＴＨ
ＥＬＥＶＥＬ　ＯＦ　Ａ　ＦＬＵＩＤ）Ｊ　トイウ表題
の米国特許出願第２６５０３９号、 １９８８年９月２６日に出願された［立体的な物体を立
体リトグラフで製造するための方法及び装ｉｆ（ＭＥＴ
ＨＯＤ　ＡＮＩ）　ＡＰＰＡＲＡＴｔｌＳ　ＦＯＲ　Ｐ
ＲＯＤｔｌＣＴＩＯＮ　ＯＦＴ｝ＩＲＥＥ−ＤＥＭＥＮ
ＳＪＯＮＡＬ　ＯＢＪＥＣＴＳ　ＢＹ　ＳＴＥＲＥＯＧ
ｌｉＡＰ｝ＩＹ）Ｊという表題の米国特許出願第２４９
３９９号、１９８９年４月１７日に出願された「立体リ
ト’ｙ”ラ７　１：　．ｋ　ルカール減少（ＳＴＥＲＥ
ＯＧ）ｉＡＰ）｛ＩＣ　ＣＵＲＬ　ＲＥＤｔｌＣＴＩＯ
Ｎ｝　Ｊという表題の米国特許出願第３３９２４６号、
及び １９８９年９月２６日に出願された「立体リトグラフ層
の再コーティング（ｌｉＥｃＯＡＴＩＮＧ　ＯＦＳＴＥ
ＲＥＯＧＲＡＰ｝ＩＩｃ　ＬＡＹＥＲＳ）Ｊという表題
のライアンアンドライアンの事件番号第１８８／１８９
号の国際特許出願。
発明の概要 本発明は、立体リトグラフによって物体を作り出すシス
テムに関する。この目的のため、動的鏡システムとター
ゲット面との間のビーム路に鏡が使用される。このよう
な鏡は装置の全体の大きさを脊効に小さくすることがで
きる。これは大型の物体を作り出すのに特に有用である
。このように大きさを小さくすることは、それ自体自然
と実際的であり、必要な構造の複雑さ、及び幾つかの構
成部材の相対位置の保守を簡単なものにする。例えば、
ビーム発生装置及び動的鏡システムをバットのターゲッ
ト面に更に近づけることができる。
熱応力等の効果はこれに対応して減少する。動的鏡シス
テム及びバットの所期位置は、これらの構成部材の位置
決めにおける調節不良を補償するのに大型の中間鏡を調
節すればよいので、それ程厳密でなくてよい。
動的鏡システムとターゲット面との間での中間鏡の実際
の使用は、ビームの輪郭を定め、ビームの狙いを付け、
ビームを補償するのに使用される上述のシステムによっ
て高められる。このような中間鏡から利点を得るため、
システムはビーム路に沿った距離のおよそ１／４乃至３
／４のところに配置される。鏡の大きさか必然的に大き
くなればなる程、鏡をターゲット面近くに配置すること
かできる。この範囲内での鏡の配置は、次の幾つかのフ
ァクタ、即ち、（１）装置全体を小さくする気持ち、（
２）部品を、大型の鏡にぶつけることなく、樹脂の入っ
たバットから垂直に持ち上げる気持ち、（３）システム
の種々の構成部材の所望の位置、等に基づいている。好
ましい実施例では、この鏡は動的鏡システムからターゲ
ット面までの距離の約６／１０のところに配置されてい
る。
かくして、この位置では、この鏡は比較的に大型であり
、ターゲット面の大きさの半分よりも大きい。必要な光
学的コヒーレンス及び整合を得るには非常に精密な鏡配
置及び反射面が必要とされる。
しかしながら、較正一正規化システムを使用することに
よって、このような必要性は実際上大きく減じられる。
かくして、本発明の目的は、立体リトグラフによって中
実の、特に、大型の物体をつくるための実用的な立体リ
トグラフシステムを提供することである。本発明の別の
目的は、このような立体リトグラフ装置の大きさを減少
させることである。
他の目的及び更に他の目的は、以下の記載から明らかに
なるであろう。
実施例 次に、図面を詳細に参照すると、立体リトグラフ装置が
図示してある。第１図を明確な理解に基づいて参照する
と、この装置は主プロセスモジュール１０と、制御モジ
ュール１２と、サービスモジュール１４とを有する。プ
ロセスモジュール１０はバット、レーザー、及び必要な
光学系を含む。制御モジュール１２は、プロセス制御コ
ンピュータ、スクリーン、及びキーボード及び／又は制
御パネルを有する。サービスモジュール１４は、ヒータ
、フィルタ、電源等の付帯的な装置を収容するとともに
貯蔵用の室を提供する。
第２図はプロセスモジュール１０の内部を図示する。プ
ロセスモジュール１０は、容器即ちバット１６を含み、
このハット収容モジュール内に配置されている。バット
１６には液状の光硬化樹脂１８か入っており、特定の液
面高さに注意深く維持されている。変形例として、バッ
トは、液状のポリマーの代わりに、赤外線を吸収するこ
とによって溶融し、冷却後に再固化できる粉体等の液体
様媒体を収容してもよい。この場合には、特定の波長で
適切な反射を提供するため、鏡材料及び光学系の種々の
構成部材（以下に説明する）のコーティング（コーティ
ングが存在する場合）を選択しなければならない。
液状ボリマー１８の液面は、被加工面として公知の水平
ターゲット面を構成する。バット１６内には昇降台が配
置され、この昇降台は、続く断面要素を創成するために
発現部分を位置決めするため、非常に正確に上昇させた
り下降させたりすることができる。各要素は、液面に引
き出すことによって露光され、これによって液体内に特
定の深さまで硬化し、薄い層を形成することができる。
この実施例では、水平ターゲット面は比較的大型、例え
ば５０．８ｃｍ　（２０インチ）　Ｘ５０．　　８ｃｍ
（２０インチ）の正方形であるようになっている。昇降
台装置は、上述の米国特許第４５７５３３０号及び上述
の米国特許出願第３３１６６４号を検討すると、これら
に最も良く図示してある。
電磁エネルギビーム発生装置即ち紫外線アルゴンーイオ
ンレーザー２０がプロセスモジュール１０内でバット１
６に隣接して配置されている。
このレーザー２０もまた装置内で所定位置に固定され、
代表的にはフレーム２２に取付けられている。このレー
ザーは、感光性ポリマーを水平ターゲット面で所望の速
度で所定の深さまで硬化させるための適正な性質を持つ
ように選択されている。
このレーザーは、機能及び保守の容易性について最もよ
く決定されるように配向させることができる。第２図か
らわかるように、レーザー及びバットを比較的コンパク
トな領域内に配置することができる。光学板２４がレー
ザー２０の前方に配置され、これは多数の光学部品を正
確に固定するための固定取付け具を提供する。第３図で
わかるように、先ず、シャッタ組立体２６をレーザー２
０のすぐ前に配置する。このシャッタは、レーザーの前
方の位置へ迅速に揺動してビームを遮断するように、又
はこの位置から外れてビームが光学系に連続的に入射で
きるように回動自在に取付けられている。このシャッタ
は、便利には、危険な作動を回避するため、装置の本体
と関連した安全ラッチによって制御されるのがよい。二
つの鏡２８及び３０は、各々、ビームを９０″反射する
ように作動し、ビームをビーム拡大器３２、第２シャッ
タ組立体、及び走査鏡システム３４と整合させる。この
機能を一つの鏡で行うことができるということは理解さ
れよう。ビーム拡大器３２は、残りの光学系を通過した
後、ビームのくびれが水平ターゲット面にあるようにレ
ーザービームを拡大し且つ焦合する。ビームは、ビーム
拡大器３２から動的（走査）鏡システム３４に差し向け
られる。
動的鏡システム３４は、好ましくは、二つの高速走査鏡
を有する。マサチューセッツ州ウォータータウンのゼネ
ラルスキャニング社（ＧｅｎｅｒａＳｃａｎｎｉｎｇ　
Ｉｎｃ．　　ｏｆ　Ｗａｌｅｒｌｏｖｎ，　Ｍａｓｓａ
ｃｈｕｓｅｔｔｓ）か販売している２一鏡、２一軸ガル
バノメータ走査ヘッド、特定的には、ゼネラルスキャニ
ング社の型番ＤＸ−２００５サーボ及び型番ＸＹ０５０
７ガルバノメータＸＹ走査ヘッドがこの目的を満足させ
るものであることがわがっている。
これらの装置の代わりに、カリフォルニア州ミルピタス
のグレイホークシステムズ（ＧｔｅｙｈａｗｋＳｙｓｔ
ｅｍｓ（Ｍｉｌｐｉｌｘｓ　（：ｘｌｉｆｏｔｎｉａ）
）の走査鏡システム１１３３１−００１を使用してもよ
い。これらの鏡は高速で正確に位置決めすることができ
る。
上文で参照したライアンアンドライアンの事件番号第１
８８／１７５号の国際特許出願を参照されたい。動的鏡
システム３４もまた、ビーム路と注意深く整合されるよ
うに光学板に対して固定されている。これらの鏡は二つ
のほぼ直角な軸線に沿って作動し、レーザー２０から受
け取ったビームのトレースを、レーザービームがビーム
拡大器３２によって焦合された点から一定の距離にある
夕一ゲノト面のＸ軸線及びＹ軸線に沿って水平面内で行
う。
動的鏡システム３４は受け取ったビームをバット１６の
上へ上方に差し向けるように配向されている。静止鏡３
６かフレーム２２に固定配置されている。静止鏡３６は
、鏡の法線を垂直に対して約２２°３０′の角度にして
フレーム２２に下向きに固定されている。垂直からのこ
の２２ｍ３０′の回転は走査鏡に向かうものである。鏡
３６の中心はバット１６の水平ターゲット面の真上にあ
る。動的鏡システムは、静止鏡３６の中心に向かって垂
直に対して約４５°の角度でビームを差し向ける。かく
して、鏡３６の入射するビームは、ビームが鏡の中心に
当たったとき、鏡の法線に対して２２°３０′の角度で
ある。この幾何学的な関係によって反射ビームは、水平
ターゲット面の中心に当たったとき、この面の法線をな
すように、バット１６の水平ターゲット面にほぼ垂直下
方に差し向けられる。ビームがターゲット面にほほ垂直
な配向で衝突するように拘束しながら静止鏡を他の角度
配向にすることができる。層の厚さ／硬化深さが十分に
小さい場合、樹脂面での垂直な入射の必要性は、ほぼ一
定の入射の必要性にとってかわる。勿論、入射が非垂直
であるが一定角度であるため、非垂直入射によるターゲ
ット面上のビームの入射幅の伸びを補正するビーム成形
要素を必要とする。
第７図に示す他の実施例では、光学板（第７図には図示
せず）が垂直でなく水平にされており、９０″反射鏡（
折り返し鏡）が一つだけ設けられている。第２高速シャ
ッタ５１がビーム拡大器の第１レンズ５４の焦点に配置
され、反射鏡５１は、変化させる必要がある場合にレー
ザーを整合させるのに使用される二次ビーム５２を作り
出すビーム分割器としても作用する。更に、減衰器５３
がビーム拡大器の第２レンズ５５の後方に配置されてい
る。この減衰器は、実質的に透明なモード、及び９５％
遮光モードの二つのモードで作動することかできる。実
質的に透明なモードは、ほぼ全ての場合に使用される。
９５％遮光モードは、所望の硬化深さが小さく、互いに
重なり合うベクトルによる走査に基づいて露光が行われ
る場合に使用される。この状態がどのようなときに起こ
るのかの例は、薄皮充填ベクトル（ｓｈａｌｌｏｗ　ｓ
ｋｉｎｆｉｌｌ　ｖｅｃｔｏｒｓ）が引かれているとき
である。反射鏡５０はビームを二つのビーム路、即ち入
射ビ−ムの約９９％であるビーム５６と、入射ビームの
約１％であるビーム５２とに分割する。ビーム５６のビ
ーム路に配置されているのは、順に、（１）安全シャッ
タ２６、（２）折り返し鏡／ビーム分割器５０、（３）
第１ビーム拡大器レンズ５４、（４）高速シャッタ５１
、（５）第１ビーム拡大器レンズ５５、（６）減衰器５
３、（７）動的鏡３４、（８）環境シールとして作用す
る窓５６、（９）犬型鏡３６、及び（１０）樹脂面１８
である。５０／５０ビーム分割器５７及び象限セル（ｑ
ｕａｄ　ｃｅｌｌ　）　５８及び５９が図示のように加
えられている。ビーム分割器は、ビーム５２のビーム路
に配置され、このビームを強さがほぼ等しいビーム６０
及び６１に分割する。ビーム６０は、次いで、象限セル
５９と交差し、ビーム６１は象限セル５８と交差する。
これらの象限セルは、本明細書中、最初の方で参照した
出願第２６５０３９号に記載されているバイセル（ｂｉ
−ｃｃｌｌｓ　）と、バイセルのように２セルしかない
のでなく、これらが４セルを提供し、これによってビー
ムの位置を検出するという点を除けば、類似している。
４セルの利点は、バイセルがビームの一次元の整列に拘
束されているのとは異なり、ビムの二次元の整列を許容
することである。象限セル５８はビーム６１の位置を検
出し、象限セル５９はビーム６０の位置を検出する。各
セルは、ビームの位置を所定の位置と比較し、このため
、象限セルか検出したビーム位置が所定の位置と同じに
なるまでレーサー２０の位置を調節することができる。
その結果、レーザー２０を交換しなければならない場合
、放出されたビームが前に放出されたビームと同じビー
ム路に沿って移動するように、上述の装置を使用してレ
ーザーの再整合を行うことかできる。これによって、残
りの光学系を再整合させる必要なしにレーサーを交換で
きる。
更に、第７図には、種々の構成要素間の距離がミリメー
タを単位として示してある。
通常の作動では、制御モジュール１２は、製造されるべ
き部分の連続した断面を構成する一連のトレースを行う
ようにプログラムされている。プログラムを走らせると
、レーザービームが動的鏡システムに差し向けられ、こ
のシステムがビームを走査してレーザービームの選択さ
れたトレースを行う。このトレースは静止鏡３６に差し
向けられ、次いで、バット１６の水平ターゲット面に差
し向けられる。トレースは、所望厚さの感光性ポリマー
の中実断面が形成されるように、適切な強さ及びターゲ
ット面の横断速度で行われる。次いて、バット内の昇降
台を、次の被加工面よりも所定距離下の新たな正味位置
まで移動させる。この所定の距離は、成形されるべき次
の断面の所望の厚さに等しい。米国特許出願第２４９３
３９号、及び上文で参照したライアンアンドライアンの
事件番号第１８８／１７５号の国際特許出願に記載され
ているように、再コーティングを行って新たな平らな被
加工面をつくる。次いで、動的鏡システムを駆動して、
第２のトレースを第１のトレースと位置合わせして行い
、これを第１のトレースに接着する。連続した工程によ
って部分全体をつくることができる。
静止鏡３６の位置は、プロセスモジュール１０の全体を
コンパクトにするように構成されている。
このようにするため、この鏡はビーム路の中央近くに配
置され、これによって装置全体の高さが小さくされる。
このような位置は、長い距離に亘って差し渡すことなく
正確な整合を行うように構成部材を配置する上での構造
上の要求をも最小にする。
静止鏡３６か動的鏡システムからいくらか距離を隔てて
配置されているため、比較的大型の鏡が必要とされる。
動的鏡システムからのレーザービームによるトレースの
正確な反射に関し、大型の鏡に信頼が置かれるならば、
非常に高価で平らな注意深く配置された鏡か必要とされ
る。当然のことながら、実際上の理由のため、このよう
な高価な構成部材を避けるのがよい。前述の、システム
のグリット較正及び正規化は、水平ターゲット面、又は
この面の近くて行われる計測を介して行われる。ターゲ
ット面で計測及び較正を行うことによって、静止鏡３６
は、鏡の歪み及び不整合並びに他のファクタを考慮に入
れてある、システムの一体部分となる。
較正一正規化システムを広範な用途及びシステムで使用
できる。このシステムは、計画されたパターンが被加工
面上に引かれるように走査システムに送られるべき指示
にコンピュータの設計位置を変換できるようにする［ル
ックアップテーブル（ｌｏｏｋ−ｕｐ　ｔａｂｌｅ　）
　Ｊを自動的に発生する。［正規化（ｎｏ＋ｍａｌｉｒ
ａｌｉｏｎ）　Ｊという用語は、一度に一つ以上の寸法
が補正されるということを表すのに使用することができ
、［較正（ｃａｌｉｂ『ａｔｉｏｎ）Ｊという用語は、
システムに単一の物差しのファクタを適用するという言
外の意味を含む。好ましい実施例では、装置は、単一の
位置（ビーム輪郭）センサーを有し、このセンサーは被
加工面上の点の列、即ちアレイへ自動的に移動され、次
いで、これらの点の各々に到るのに必要な対応する鏡指
示で記録がつくられる。他の好ましい実施例では、セン
サーを動かす必要かないように、センサーピンホールの
正方形のアレイか使用される。更に他の好ましい実施例
では、単一の軸線だけに沿って動かす必要があるピンホ
ールセンサーの直線状のアレイが使用される。アレイの
点の数は、結果的にもたらされる補正の所望の正確さに
よって決まる。較正板のピンホールを所望のターゲット
面に正確に位置決めするのが非常に望ましい。このター
ゲット面が感光性ポリマー面の位置であるため、バット
は機械に取りつけたり外したりできるように設計されて
いるが、更に好ましくは、バット取付けシステムは、較
正装置をターゲット面に配置できるように、バットを十
分な距離下ろすことができるように設計される。
他の可能性は、ピンホールをターゲット面の高さの幾分
上（又は下）に移動させることである。
各ピンホールのＸ−Ｙ位置及びピンホールと走査鏡との
間の距離に基づいて、当業者はピンホールの位置をター
ゲット面でのそれらの所定の位置まで下方に外挿するこ
とができる。ピンホール位置とターゲット面との間の分
離は、バットに入った感光性ポリマーを取り除いたり再
位置決めすることなくシステムを較正できるようにする
のに有用である。この分離距離は、外挿が大きな偏差を
導入しないように、他の距離及び誤差源に対して十分に
小さくなければならない。
走査鏡と大型鏡との間の距離は、動的鏡から始まる走査
鏡からターゲット面までの金光路長の約１／４乃至３／
４の範囲にあり、好ましくは、金光路長の約１／２乃至
３／４の範囲である。本発明の好ましい実施例では、走
査鏡と大型鏡との間の距離は、ほぼ１５４．９４ｃｍ　
（６１インチ）である。大型鏡とターゲット面との間の
距離はほぼ９１．４４ｃｍ　（３６インチ）である。こ
れらの二つの距離の合計は、上文中に寸法を記載した（
５０．８ｃｍ　（２０インチ）Ｘ５０．８ｃｍ（２０イ
ンチ）Ｘ６０．９６ｃｍ　（２４インチ））ハットが構
成するターゲット面の最大直線寸法の約３．４倍である
。この最大寸法は、７１．　　８８ｃｍ　（２８．３イ
ンチ）である。これは、上文中で言及した比率範囲内に
ある。これらの寸法の装置では、較正装置をターゲット
面から最大るが、重要なことは、解像度を最大にするた
め、穴の直径が投射されたビームの板／液面での直径よ
りも小さいということである。好ましい実施例では、タ
ーゲット面でのビームの直径は０．２５４ｍｍ　（ｌｍ
ｉ　１　ｓ）以下である。光ダイオードであるのがよい
センサー４６は、較正板の内部に基材の下に取付けられ
ている。較正板は、使用中、好ましくはピンホール面が
光硬化液のターゲット面に位置された状態に配置される
。しかしながら、上述のように、算出した修正値でそれ
からの小さな距離を相殺して矛盾を補償することができ
る。
本発明の好ましい実施例では、５×５のアレイ即ち２５
個の紫外線に反応する光ダイオード４６が較正板に関連
して使用されている。拡散材料４７が基材４２とセンサ
ー４６との間に配置されている。光はピンホール４４の
うちの一つを通ってしか板３８に入ることができないた
め、そして拡散材料４７は入る光を拡散するため、ピン
ホールに入る光はピンホールの正確な位置を越えて水平
方向に移動し、そのため、好ましい実施例では，．上文
中に記載したセンサーような２５個のセンサーかビンホ
ールの全部で４９Ｘ４９のアレイをカハ′−するのに適
当である。
代表的には、較正手順は装置を顧客へ送る前に行われ、
引渡後、及び何らかの物理的な傷が鏡制御装置又は光学
系に付いた場合には、これは不整合を引き起こす。
作動では、較正手順は、質量の中心からのピンホールの
「最適位置」或いは走査データの比較し得る機能を得る
ため、ビーム輪郭倣い方法を使用する。新たな「最適位
置」が、板の場合に各ピンホールについて、直線の場合
には各ビンホールコラムについて、そして特定の所定の
位置に配置されたセンサーの場合には各所定の位置につ
いて得られる。作動し実際上使用可能なルックアップテ
ーブルを得るために各ピンホールを走査することは必ず
しも必要とされない。小さな幾何学的歪みかある場合、
又は低い精度でも受容し得る場合、或いは他の歪み源が
、内挿の信頼性を更に大きくすることによって、修正に
ついて適合し得る場合、少数のビンホールを写像するこ
とができる。ルックアップテーブルの記憶装置内に記憶
された「最適位置」までの中間点について走査鏡の位置
を決定するのにＸ位置及びＹ位置に対する双一次又は他
の内挿が使用される。ピンホールの適切な数は、これら
の考慮、又は、較正を行うのに必要な時間、ルックアッ
プテーブルに記憶するのに利用できるシステムメモリ、
及び静止鏡３６の品質などについての他の考慮から決定
できる。
較正システムは、ビームを所定位置に置くことに関し、
種々の光学部品によって導入される誤差を補償すること
ができる。上文中に記載したように、これらの光学部品
には大型アーム並びに他の較正部材が含まれる。従って
、ビームの焦合、又は覆瓦効果等に関連した問題点を減
少させる非平面鏡形状が、ビームをターゲット面上へ低
い精度で配置するためにかかるのと同じ費用で容易に得
られるならば、システム中に有利に使用することができ
る。このような鏡は、単独で、或いは中央から遠隔の光
学系（ｌｅｌｃｅｃｎｌｒｉｃ　ｏｐｔｉｃｓ）又は他
の光学系と組み合わせてこれらの問題点のうちの幾つか
に対処する有効な方法なるであろう。従って、システム
の大きさを更に小さくできるようになる。
例えば、大型鏡を湾曲させてもよいし、適当な光学系の
一部として平らであってもよい。このようなシステムは
、本明細書中で論じた幾つかの問題に対処するための利
点を有し、従って、ターゲット面の水平方向最大寸法に
対する光路長の比率の範囲を大きくするのに使用するこ
とができる。
かくして、立体リトグラフを使用した特に大型の原型を
実際に製作することのできる装置を開示した。本発明の
実施例及び適用を図示し且つ説明したが、本明細書中に
開示した本発明の概念を逸脱することなく、多くのこれ
以外の変形態様が可能であるということは当業者には明
らかであろう従って、本発明は添付の特許請求の範囲の
精神以外の何物にも拘束されない。
【図面の簡単な説明】
第１図は、立体リトグラフ装置の斜視図であり、第２図
は、明瞭のため、カバーの主要部が取り外してある立体
リトグラフ装置の斜視図であり、第３図は、明瞭のため
、大部分が取り外してあるレーザー、鏡及び光学系、及
び大型鏡装置の斜視図であり、 第４図は、本発明の好ましい実施例の光学系の概略図で
あり、 第５図は、較正板の斜視図であり、 第６図は、較正板の側断面図であり、 第７図は、本発明の第２の好ましい実施例の光学系の概
略図である。 １０・・・主プロセスモジュール、１２・・・制御モジ
ュール、１４・・・サービスモジュール、１６・・・容
器即ちバット、１８・・・光硬化樹脂、２ｏ・・・電磁
エネルギビーム発生装置即ちアルゴンイオンレーサー２
２・・・フレーム、２４・・・光学板、２６・・・シャ
ッタ組立体、２８、３０・・・鏡、３２・・・ビーム拡
大器、３４・・・動的鏡システム、３６・・・静止鏡、
３８・・・較正板、４０・・・紫外線不透過性金属コー
ティング、４４・・・穴、５０、折り返し鏡／ビーム分
割器、５１・・・第２高速シャッタ、５２・・・二次ビ
ーム、５３・・・減衰器、５４・・・第１ビーム拡大器
レンズ、５５・・・第２ビーム拡大器レンズ、５６・・
・窓、５７・・分割器、５８、５９・・・象限セル。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、電磁エネルギに露光するとき、物理的形態を選択的
    に変えることのできる材料から立体的な物体を製造する
    ためのシステムにおいて、フレームと、 前記フレームに対して固定された電磁エネルギビーム発
    生装置と、 前記フレームに対して固定された、材料を保持し且つタ
    ーゲット面を構成する容器と、 前記フレームに取付けられ、前記ビーム発生装置のビー
    ム路中に配置された、前記ビーム発生装置からのビーム
    の選択されたトレースを前記ターゲット面から一定の距
    離のところで前記ターゲット面上で行うように移動する
    ことができる、動的鏡システムと、 前記フレームに対し、前記動的鏡システムがトレースす
    るビームの路中に、前記動的鏡システムから前記一定の
    距離よりも小さい距離のところに固定された静止鏡とを
    有し、 前記静止鏡は、前記ビーム発生装置がトレースするビー
    ムを前記水平ターゲット面にほぼ垂直に反射するように
    、前記動的鏡システムに対して所定の角度になっている
    、システム。 ２、前記静止鏡がほぼ平らである、請求項（１）に記載
    のシステム。 ３、前記動的鏡システムがトレースするビームの前記静
    止鏡での入射角度は、前記静止鏡の中心に当たったとき
    約２２゜３０′の角度であり、前記静止鏡は、表面の法
    線を、前記ターゲット面に対して垂直な角度からほぼ２
    ２゜３０′の角度に有する、請求項（１）に記載のシス
    テム。 ４、前記動的鏡システムと前記ターゲット面との間のビ
    ーム路は、前記ターゲット面の中心から前記ターゲット
    面上の横方向最大トレース点までの距離の約４倍乃至１
    ０倍である、請求項（１）に記載のシステム。 ５、前記静止鏡が反射したトレースビームは、前記ター
    ゲット面上の横方向最大トレース点のところで前記ター
    ゲット面に対する法線から約１４゜を越えない、請求項
    （１）に記載のシステム。 ６、前記動的鏡システムがトレースするビームのビーム
    路長は、前記静止鏡までの長さ、及び前記ターゲット面
    までの長さが、前記一定距離に等しい、請求項（１）に
    記載のシステム。 ７、静止鏡が、前記動的鏡システムと前記ターゲット面
    との間のビーム路に沿って、鏡システムからビーム路長
    の約１／４乃至３／４の範囲内の距離のところに配置さ
    れている、請求項（１）に記載のシステム。 ８、選択的に硬化できる流体材料から立体的な物体を作
    り出すためのシステムにおいて、フレームと、 前記フレームに対して固定されたビーム発生装置と、 前記フレームに対して固定された、流体材料を保持し且
    つ水平ターゲット面を構成する容器と、前記フレームに
    取付けられ、前記ビーム発生装置のビーム路中に配置さ
    れた、前記ビーム発生装置からのビームの選択されたト
    レースを前記ターゲット面から一定の距離のところで前
    記ターゲット面上で行うように移動することができる、
    動的鏡システムと、 前記フレームに対し、前記動的鏡システムがトレースす
    るビームの路中に、前記動的鏡システムから前記一定の
    距離よりも小さい距離のところに固定された静止鏡とを
    有し、 前記静止鏡は、前記ビーム発生装置がトレースするビー
    ムを前記水平ターゲット面にほぼ垂直に反射するように
    、前記動的鏡システムに対して所定の角度になっている
    、システム。 ９、選択的に硬化できる流体材料から立体的な物体を作
    り出すためのシステムにおいて、フレームと、 前記フレームに対して固定されたビーム発生装置と、 前記フレームに対して固定された、前記流体材料を保持
    し且つ水平ターゲット面を構成する容器と、 前記フレームに取付けられ、前記ビーム発生装置のビー
    ム路中に配置された、前記ビーム発生装置からのビーム
    の選択されたトレースを前記ターゲット面から一定の距
    離のところの平らな面上で行うように移動することがで
    きる、動的鏡システムと、 前記フレームに対し、前記動的鏡システムがトレースす
    るビームの路中に、前記動的鏡システムから前記一定の
    距離よりも小さい距離のところに固定された静止鏡とを
    有し、 前記静止鏡は平らであり、前記トレースビームがトレー
    スの横方向最大限界で前記水平ターゲット面に対する法
    線から約１４゜を越えないように配置され、前記動的鏡
    システム、前記静止鏡、及び前記水平ターゲット面は、
    前記動的鏡システムと前記水平ターゲット面との間のビ
    ーム路が前記ターゲット面の中心から前記ターゲット面
    上の横方向最大トレース点までの距離の約４倍乃至１０
    倍であるように分離されている、システム。 １０、選択的に硬化できる流体材料から立体的な物体を
    作り出すためのシステムにおいて、フレームと、 前記フレームに対して固定されたビーム発生装置と、 前記フレームに対して固定された、前記流体材料を保持
    し且つ水平ターゲット面を構成する容器と、 前記フレームに取付けられ、前記ビーム発生装置のビー
    ム路中に配置された前記ビーム発生装置からのビームの
    選択されたトレースを前記ターゲット面から一定の距離
    のところの平らな面上で行うように移動することができ
    る、動的鏡システムと、 ビームの選択されたトレースの発生を制御するため、前
    記動的鏡システムに連結された制御装置と、 前記フレームに対し、前記動的鏡システムがトレースす
    るビームの路中に、前記動的鏡システムから前記一定の
    距離よりも小さい距離のところに固定された静止鏡と、
    を有し、 前記静止鏡は、前記ビーム発生装置がトレースするビー
    ムを前記水平ターゲット面にほぼ垂直に反射するように
    、前記動的鏡システムに対して所定の角度になっており
    、 更に、前記水平ターゲット面に位置することのできるビ
    ーム感応グリッドと、 前記ビーム感応グリッド上でのビームのトレースの位置
    を感知し、前記動的鏡システムを制御するための前記制
    御装置を較正するための手段と、を有するシステム。 １１、電磁エネルギに露光するとき、物理的形態を選択
    的に変えることのできる材料から立体的な物体を製造す
    るためのシステムにおいて、フレームと、 前記フレームに対して固定された電磁エネルギビーム発
    生装置と、 前記フレームに対して固定された、材料を保持し且つタ
    ーゲット面を構成する容器と、 前記フレームに取付けられ、前記ビーム発生装置のビー
    ム路中に配置された、前記ビーム発生装置からのビーム
    の選択されたトレースを前記ターゲット面から一定の距
    離のところで前記ターゲット面上で行うように移動する
    ことができる、動的鏡システムと、 前記フレームに対し、前記動的鏡システムがトレースす
    るビームの路中に、前記動的鏡システムから前記一定の
    距離よりも小さい距離のところに固定された静止鏡とを
    有し、 前記静止鏡は前記ビーム発生装置からのビームを前記タ
    ーゲット面へ反射するように位置決めされている、シス
    テム。 １２、ビームのトレースが前記ターゲット面に当たり、
    これによって、材料が前記面で硬化して薄い層になる、
    請求項１１に記載のシステム。
JP2290593A 1989-10-27 1990-10-26 立体リトグラフ装置 Pending JPH03218816A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/427,885 US5133987A (en) 1989-10-27 1989-10-27 Stereolithographic apparatus and method
US427885 1995-04-26

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03218816A true JPH03218816A (ja) 1991-09-26

Family

ID=23696698

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2290593A Pending JPH03218816A (ja) 1989-10-27 1990-10-26 立体リトグラフ装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5133987A (ja)
JP (1) JPH03218816A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000326416A (ja) * 1999-04-23 2000-11-28 Eos Gmbh Electro Optical Systems ３次元物体を製造する装置を校正する方法、校正装置、及び３次元物体を製造する装置および方法
JP2008173974A (ja) * 2007-01-17 2008-07-31 Three D Syst Inc 立体造形装置における像形成装置及び整合性のある反復が可能な位置合せのための方法
JP2012522661A (ja) * 2009-04-06 2012-09-27 イーオーエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング イレクトロ オプティカル システムズ 照射装置の校正方法および校正装置
CN105358310A (zh) * 2013-05-10 2016-02-24 Eos有限公司电镀光纤系统 用于对用于以生成方式制造三维物体的设备进行自动校准的方法
JP2020514104A (ja) * 2016-12-29 2020-05-21 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 樹脂の光学的性質をシミュレートするセンサ
CN112059179A (zh) * 2020-08-04 2020-12-11 北京航空航天大学 用于大型金属构件制造的激光增材制造设备及方法

Families Citing this family (77)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5495328A (en) * 1988-04-18 1996-02-27 3D Systems, Inc. Apparatus and method for calibrating and normalizing a stereolithographic apparatus
US5512162A (en) * 1992-08-13 1996-04-30 Massachusetts Institute Of Technology Method for photo-forming small shaped metal containing articles from porous precursors
US5430666A (en) * 1992-12-18 1995-07-04 Dtm Corporation Automated method and apparatus for calibration of laser scanning in a selective laser sintering apparatus
US5296335A (en) * 1993-02-22 1994-03-22 E-Systems, Inc. Method for manufacturing fiber-reinforced parts utilizing stereolithography tooling
JP3556358B2 (ja) * 1995-11-21 2004-08-18 シーメット株式会社 均一化された面露光式光硬化造形装置
US7332537B2 (en) 1996-09-04 2008-02-19 Z Corporation Three dimensional printing material system and method
WO1998019843A1 (en) * 1996-11-08 1998-05-14 Nu-Cast Inc. Improved truss structure design
US6001297A (en) 1997-04-28 1999-12-14 3D Systems, Inc. Method for controlling exposure of a solidfiable medium using a pulsed radiation source in building a three-dimensional object using stereolithography
US6084980A (en) * 1997-05-13 2000-07-04 3D Systems, Inc. Method of and apparatus for deriving data intermediate to cross-sectional data descriptive of a three-dimensional object
US6103176A (en) * 1997-08-29 2000-08-15 3D Systems, Inc. Stereolithographic method and apparatus for production of three dimensional objects using recoating parameters for groups of layers
US6207097B1 (en) 1998-02-18 2001-03-27 Norma Jean Iverson Method for manufacturing physical objects using precision stereolithography
DE19846478C5 (de) * 1998-10-09 2004-10-14 Eos Gmbh Electro Optical Systems Laser-Sintermaschine
US6932145B2 (en) 1998-11-20 2005-08-23 Rolls-Royce Corporation Method and apparatus for production of a cast component
US7418993B2 (en) * 1998-11-20 2008-09-02 Rolls-Royce Corporation Method and apparatus for production of a cast component
EP1024459A3 (en) 1999-01-19 2002-11-13 3D Systems, Inc. Method and apparatus for forming three-dimensional objects using stereolithography
US6129884A (en) * 1999-02-08 2000-10-10 3D Systems, Inc. Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application
US6261077B1 (en) 1999-02-08 2001-07-17 3D Systems, Inc. Rapid prototyping apparatus with enhanced thermal and/or vibrational stability for production of three dimensional objects
US6132667A (en) * 1999-02-08 2000-10-17 3D Systems, Inc. Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application
US6399010B1 (en) 1999-02-08 2002-06-04 3D Systems, Inc. Method and apparatus for stereolithographically forming three dimensional objects with reduced distortion
US6325961B1 (en) 1999-02-08 2001-12-04 3D Systems, Inc. Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation and application
US6406658B1 (en) 1999-02-08 2002-06-18 3D Systems, Inc. Stereolithographic method and apparatus for production of three dimensional objects using multiple beams of different diameters
US6241934B1 (en) 1999-02-08 2001-06-05 3D Systems, Inc. Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application
US6159411A (en) * 1999-02-08 2000-12-12 3D Systems, Inc. Rapid prototyping method and apparatus with simplified build preparation for production of three dimensional objects
US6126884A (en) * 1999-02-08 2000-10-03 3D Systems, Inc. Stereolithographic method and apparatus with enhanced control of prescribed stimulation production and application
US6524346B1 (en) * 1999-02-26 2003-02-25 Micron Technology, Inc. Stereolithographic method for applying materials to electronic component substrates and resulting structures
CA2388046A1 (en) 1999-11-05 2001-05-17 Z Corporation Material systems and methods of three-dimensional printing
US20010050031A1 (en) 2000-04-14 2001-12-13 Z Corporation Compositions for three-dimensional printing of solid objects
US6403399B1 (en) * 2000-08-11 2002-06-11 Lsi Logic Corporation Method of rapid wafer bumping
US6708071B1 (en) 2000-08-15 2004-03-16 Vought Aircraft Industries, Inc. Method and system for defining and verifying a part
US6607689B1 (en) * 2000-08-29 2003-08-19 Micron Technology, Inc. Layer thickness control for stereolithography utilizing variable liquid elevation and laser focal length
US6426840B1 (en) 2001-02-23 2002-07-30 3D Systems, Inc. Electronic spot light control
US6836736B2 (en) * 2001-06-08 2004-12-28 Georgia Tech Research Corporation Digital clay apparatus and method
US6646728B1 (en) 2001-07-09 2003-11-11 3D Systems, Inc. Calibrating a focused beam of energy in a solid freeform fabrication apparatus by measuring the propagation characteristics of the beam
US7921480B2 (en) * 2001-11-20 2011-04-12 Parsons Natan E Passive sensors and control algorithms for faucets and bathroom flushers
US7396000B2 (en) * 2001-12-04 2008-07-08 Arichell Technologies Inc Passive sensors for automatic faucets and bathroom flushers
US7731154B2 (en) 2002-12-04 2010-06-08 Parsons Natan E Passive sensors for automatic faucets and bathroom flushers
DE112004000301B4 (de) * 2003-02-25 2010-05-20 Panasonic Electric Works Co., Ltd., Kadoma-shi Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines dreidimensionalen Objekts
WO2004113042A2 (en) 2003-05-21 2004-12-29 Z Corporation Thermoplastic powder material system for appearance models from 3d printing systems
US20100174392A1 (en) * 2003-06-10 2010-07-08 Fink Jeffrey E Optimal dimensional and mechanical properties of laser sintered hardware by thermal analysis and parameter optimization
US20040254665A1 (en) * 2003-06-10 2004-12-16 Fink Jeffrey E. Optimal dimensional and mechanical properties of laser sintered hardware by thermal analysis and parameter optimization
US7261542B2 (en) 2004-03-18 2007-08-28 Desktop Factory, Inc. Apparatus for three dimensional printing using image layers
US7547978B2 (en) * 2004-06-14 2009-06-16 Micron Technology, Inc. Underfill and encapsulation of semiconductor assemblies with materials having differing properties
US7235431B2 (en) * 2004-09-02 2007-06-26 Micron Technology, Inc. Methods for packaging a plurality of semiconductor dice using a flowable dielectric material
EP2089215B1 (en) 2006-12-08 2015-02-18 3D Systems Incorporated Three dimensional printing material system
WO2008086033A1 (en) 2007-01-10 2008-07-17 Z Corporation Three-dimensional printing material system with improved color, article performance, and ease of use
US7968626B2 (en) 2007-02-22 2011-06-28 Z Corporation Three dimensional printing material system and method using plasticizer-assisted sintering
EP2078221A1 (en) * 2007-08-06 2009-07-15 Stephen Hastings Method for reactive optical correction of galvano motor scanning heads
CN101821081B (zh) * 2007-08-23 2014-06-25 3D系统公司 利用激光扫描反射计的自动几何校准
US7923298B2 (en) 2007-09-07 2011-04-12 Micron Technology, Inc. Imager die package and methods of packaging an imager die on a temporary carrier
US7955875B2 (en) * 2008-09-26 2011-06-07 Cree, Inc. Forming light emitting devices including custom wavelength conversion structures
US8206637B2 (en) * 2008-10-14 2012-06-26 The Boeing Company Geometry adaptive laser sintering system
US8777602B2 (en) 2008-12-22 2014-07-15 Nederlandse Organisatie Voor Tobgepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO Method and apparatus for layerwise production of a 3D object
US8678805B2 (en) 2008-12-22 2014-03-25 Dsm Ip Assets Bv System and method for layerwise production of a tangible object
WO2010074566A1 (en) * 2008-12-22 2010-07-01 Nederlandse Organisatie Voor Toegepast-Natuurwetenschappelijk Onderzoek Tno Method and apparatus for layerwise production of a 3d object
US9943996B2 (en) * 2012-05-22 2018-04-17 University Of Southern California Process planning of meniscus shapes for fabricating smooth surfaces in mask image projection based additive manufacturing
FR3000698B1 (fr) * 2013-01-09 2015-02-06 Phidias Technologies Fabrication d'un objet en volume par lithographie, a resolution spatiale amelioree
GB2514139A (en) * 2013-05-14 2014-11-19 Aghababaie Lin & Co Ltd Apparatus for fabrication of three dimensional objects
DE102013213547A1 (de) * 2013-07-10 2015-01-15 Eos Gmbh Electro Optical Systems Kalibriereinrichtung und Kalibrierverfahren für eine Vorrichtung zum schichtweisen Herstellen eines Objekts
NL2013861B1 (en) * 2014-11-24 2016-10-11 Additive Ind Bv Apparatus for producing an object by means of additive manufacturing.
WO2016085334A2 (en) * 2014-11-24 2016-06-02 Additive Industries B.V. Apparatus for producing an object by means of additive manufacturing
DE102015226722A1 (de) 2015-12-23 2017-06-29 Eos Gmbh Electro Optical Systems Vorrichtung und Verfahren zum Kalibrieren einer Vorrichtung zum generativen Herstellen eines dreidimensionalen Objekts
DE102016001355B4 (de) * 2016-02-08 2022-03-24 Primes GmbH Meßtechnik für die Produktion mit Laserstrahlung Verfahren und Vorrichtung zur Analyse von Laserstrahlen in Anlagen für generative Fertigung
CN106182779B (zh) * 2016-08-25 2019-04-12 佛山市南海中南机械有限公司 一种3d打印机的焦平面校正装置及其校正方法
IL277622B2 (en) * 2018-03-30 2024-02-01 Edison Welding Inst Inc A laser beam system for producing a profile for use in the production of powder substrate fusion by laser
EP3674427A1 (en) * 2018-12-28 2020-07-01 Etxe-Tar, S.A. Method and system for heating using an energy beam
US11433617B2 (en) 2019-01-29 2022-09-06 General Electric Company Method and apparatus for process monitoring in additive manufacturing utilizing an image of a negative structure
US11794412B2 (en) 2019-02-20 2023-10-24 General Electric Company Method and apparatus for layer thickness control in additive manufacturing
US11498283B2 (en) 2019-02-20 2022-11-15 General Electric Company Method and apparatus for build thickness control in additive manufacturing
US11179891B2 (en) 2019-03-15 2021-11-23 General Electric Company Method and apparatus for additive manufacturing with shared components
US11579041B2 (en) 2019-03-15 2023-02-14 Formlabs, Inc. Swappable optics module for additive fabrication devices
US11951679B2 (en) 2021-06-16 2024-04-09 General Electric Company Additive manufacturing system
US11731367B2 (en) 2021-06-23 2023-08-22 General Electric Company Drive system for additive manufacturing
US11958250B2 (en) 2021-06-24 2024-04-16 General Electric Company Reclamation system for additive manufacturing
US11958249B2 (en) 2021-06-24 2024-04-16 General Electric Company Reclamation system for additive manufacturing
US11826950B2 (en) 2021-07-09 2023-11-28 General Electric Company Resin management system for additive manufacturing
US11813799B2 (en) 2021-09-01 2023-11-14 General Electric Company Control systems and methods for additive manufacturing
AT526197A1 (de) * 2022-06-09 2023-12-15 Trotec Laser Gmbh Verfahren zum Ermitteln von, insbesondere statischen, Geometriefehlern einer Lasermaschine zum Schneiden, Gravieren, Markieren und/oder Beschriften eines Werkstückes und ein Verfahren zum Ermitteln der Lage bzw. Position des Mittelpunkts eines Detektors am Detektorelement sowie Kalibrier-Segment und Lasermaschine hierfür

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3989778A (en) * 1975-12-17 1976-11-02 W. R. Grace & Co. Method of heat sealing thermoplastic sheets together using a split laser beam
US4575330A (en) * 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
IL84936A (en) * 1987-12-23 1997-02-18 Cubital Ltd Three-dimensional modelling apparatus
US4999143A (en) * 1988-04-18 1991-03-12 3D Systems, Inc. Methods and apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
US5059359A (en) * 1988-04-18 1991-10-22 3 D Systems, Inc. Methods and apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
US5015424A (en) * 1988-04-18 1991-05-14 3D Systems, Inc. Methods and apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
US5014207A (en) * 1989-04-21 1991-05-07 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging system
US5002854A (en) * 1989-04-21 1991-03-26 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging method using compositions containing core-shell polymers

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000326416A (ja) * 1999-04-23 2000-11-28 Eos Gmbh Electro Optical Systems ３次元物体を製造する装置を校正する方法、校正装置、及び３次元物体を製造する装置および方法
JP2008173974A (ja) * 2007-01-17 2008-07-31 Three D Syst Inc 立体造形装置における像形成装置及び整合性のある反復が可能な位置合せのための方法
JP2012522661A (ja) * 2009-04-06 2012-09-27 イーオーエス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング イレクトロ オプティカル システムズ 照射装置の校正方法および校正装置
CN105358310A (zh) * 2013-05-10 2016-02-24 Eos有限公司电镀光纤系统 用于对用于以生成方式制造三维物体的设备进行自动校准的方法
US10336008B2 (en) 2013-05-10 2019-07-02 Eos Gmbh Electro Optical Systems Method for automatic calibration of a device for generative production of a three-dimensional object
JP2020514104A (ja) * 2016-12-29 2020-05-21 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 樹脂の光学的性質をシミュレートするセンサ
US11034082B2 (en) 2016-12-29 2021-06-15 3D Systems, Inc. Sensor that simulates resin optical properties
CN112059179A (zh) * 2020-08-04 2020-12-11 北京航空航天大学 用于大型金属构件制造的激光增材制造设备及方法
CN112059179B (zh) * 2020-08-04 2021-11-02 北京航空航天大学 用于大型金属构件制造的激光增材制造设备及方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5133987A (en) 1992-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH03218816A (ja) 立体リトグラフ装置
CN108472870B (zh) 用于校准用于制造三维物体的设备的方法
AU2007240215B2 (en) Optical modeling apparatus
US5059021A (en) Apparatus and method for correcting for drift in production of objects by stereolithography
JP3520310B2 (ja) ３次元物体の製造方法及び装置
US5460758A (en) Method and apparatus for production of a three-dimensional object
EP0860267B1 (en) Stereolithographic beam profiling
JP3718407B2 (ja) ３次元物体を製造する装置を校正する方法、校正装置、及び３次元物体を製造する装置および方法
KR101850222B1 (ko) 삼차원 프린터의 축 오차 보정 장치 및 방법
JP5735803B2 (ja) レーザ走査反射計を用いる自動形状校正法
US7758329B2 (en) Optical modeling apparatus
JP5726853B2 (ja) 照射装置の校正方法および校正装置
JP5088114B2 (ja) 光造形装置
US10942458B2 (en) Exposure system, exposure device and exposure method
US6646728B1 (en) Calibrating a focused beam of energy in a solid freeform fabrication apparatus by measuring the propagation characteristics of the beam
JP5023975B2 (ja) 光造形装置及び光造形方法
KR101798533B1 (ko) 3차원 프린터에 의한 조형 장치 및 방법
JP2009113294A (ja) 光造形装置及び光造形方法
JP6964801B2 (ja) 積層造形装置
JP2009083240A (ja) 光造形装置
JPS6237109A (ja) 立体形状形成装置
JP2002316364A (ja) ビームプロファイル測定装置および方法
EP0375097B1 (en) Stereolithographic beam profiling
JP3948835B2 (ja) 光造形方法及びその装置
JPH04113828A (ja) 大型立体樹脂モデルの製造方法及びその装置