JPH03216829A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は高耐食性反射膜を形成してなる高信頼性光ディ
スクに関するものである。

［従来の技術］ 光ディスクは磁気記録媒体に比較して情報の記録密度が
高く、しかも該情報の再生を非接触で行うことができる
という特性を有している為、光学的ビデオ・ディスク或
はデジタル・オーディオ・ディスク等の分野、更にはＯ
Ａ用の大量フ１イリング・システム等の分野において広
く利用されている． この様な光ディスクは透明性の高い合成樹脂製基板の片
面に情報に対応するビット列を形成し、その上へ反射膜
を被覆すると共に、更にその上へ所望に応じた保護膜を
形成してなるものであり、反対側面からレーザービーム
を照射して記録の読取りを行うものである．従って前記
反射膜は優れた反射特性を有するものであることが要求
され、純Ａｌの蒸着膜を使用するのがもつとも一般的で
ある。

この様に純Ａｌは反射率が優れているというところから
、光ディスクにおける反射膜用素材として確固たる地位
を礎いてきたが、上記優位性は専ばら初期反射率（製膜
直後の反射率）に依拠するものであり、最近に至って大
気雰囲気下での保存中に進行する反射率の低下が問題視
される様になってきた。即ち純Ａｔは金属自体として見
れば耐食性が低く、大気中での長期間放置によって腐食
が進行し易い。その為反射率の低下、或は孔食発生等を
引起こし、情報再生時の信号読み取りエラーを増大させ
るという問題がある。

この様なところから、特に保存環境の如何に拘らず、情
報再生の長期安定性を確保するという命題の下に、種々
の研究が行なわれ、純Ａｔに代る高耐食性合金として、
例えばＡｔ−Ａｇ系合金、Ａｌ−Ｎｉ　（Ｐｄ，Ｐｔ）
系合金、Ａｌ−Ｔａ（Ｎｂ）系合金等が提案されている
。しかしこれらのうちＡｇ．Ｐｄ，Ｐｔを用いるものは
高価であり、またＴａ，Ｎｂを添加するものは初期反射
率の低下を招くという重大な問題がある。しかもこれら
の合金系においては成分元素間に大きな融点差があるこ
とから蒸着法による安定した成膜を行うことが困難であ
り、蒸着法に代ってスパッタリング法を採用しようとし
ても、高合金系になるとターゲットの作成段階で困難に
遭遇するという問題があった。

一方特開昭６３−２２４０５０号においてはＡｌ−Ｔｉ
合金を反射膜とすることが提案されている。Ｔｉは前記
ＴａやＮｂと違って初期反射率を低下させるという欠点
は少いが、長期間保存中の耐食性において問題を残し、
光ディスクとしての情報再生に関する長期安定性につい
ては十分な信頼を寄せることができない。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明は上記事情に着目してなされたものであって、初
期反射率が十分に高いと共に長期間に亘って優れた耐食
性を示すことによって反射率の低下を抑制することので
きる反射膜を提供し、もって長期に亘る情報再生の信頼
性に優れた光ディスクを提供しようというものである。

［課題を解決する為の手段］ 本発明によって提供される光ディスクとは、Ｚｒ及び／
又はＨｆ：１０重量％以下 残部Ａ１及び不可避不純物 よりなるＡｌ−（Ｚｒ及び／又はＨｆ）合金によって反
射膜を形成したことを要旨とするものである。

［作用］ 本発明者等は、初期反射率を低下させないこと、並びに
長期耐食性を安定して発揮することの２点を条件とし、
特にこれらの条件を光ディスクに通用される反射用薄膜
の形態において十分に満足することのできるＡ１基合金
を開発すべく、数多くの合金元素について検討したとこ
ろ、前記したＺｒとＨｆに到達した。即ちこれらの２元
素を単独で加えてなるＡｌ−Ｚｒ又はＡｌ−Ｈｆの２元
合金及びこれら２元素を同時に加えてなるＡ１−Ｚｒ−
Ｈｆの３元合金は、上記ｎ題を見事に満足し得るもので
あることを見出して本発明を完成した。しかも上記以外
の合金元素が添加量の微小変化によって初期反射率に大
ぎな変化を生じ、製造条件において高度な制御安定性が
要求されるのに対し、Ｚｒ及びＨｆにはこの様な問題が
なく、また添加量の増大に伴う初期反射率の低下とレ）
う不利益も生じない。もつとも合金元素としての添加量
が１０重量％を超えると初期反射率の低下傾向が認めら
れ、また高温条件下での保存中に記録ビットを超える大
幹さの析出物を生じて情報の読み取りエラーを招くので
、上限は１０重量％と定めた。一方下限については、本
発明の諸効果を確実に発揮するという観点から０．１重
量％以上とすることが推められる。

反射膜の形成法については特に制限されず、従来知られ
ている金属薄膜形成法は物理的・化学的の如何を問わず
全て利用できる。高反射膜をスパッタリング法によって
形成する場合は、鋳造製Ａ１合金をターゲット材料とす
るのが最適であるが、上述した上限値は、該ターゲ・ン
ト材料の製造し易さという点においても遵守されるべき
である。

尚Ａｌ−Ｚｒ合金の反射膜自体は特公昭６２一４２９９
４号や特開昭６４−８６３４９号等によって知られてい
る。しかしこれらに開示されている反射膜は、前者が反
射物体用反射膜、後者力｛光磁気ディスク用反射膜であ
り、本発明の光デイスク用反射膜とは全く別の技術分野
に属するものである。また上記２つの公報に記載されて
いる製膜の為のターゲットは、基本的にはＡ１とＺｒを
独立的に存在させるもの、即ちＡｌターゲットにＺｒチ
ップを配置したモザイク状ターゲットであったり、Ａｌ
粉とＺｒ粉を単に混合し両者の比重差による偏在状態を
残したまま焼結したものである為、ターゲット自体の組
成の均一性に欠け、本発明の様に反射膜性能の均一性を
命とする光ディスクには到底応用できるものではない。

即ち不均一組成のターゲットを用いた場合には、得られ
る反射膜も不均一なものとならざるを得す、初期反射率
が不均一になったり、耐食性が局部的に不均一となって
部分的な腐食を惹起し、長時間保存後の信号読み取り精
度がばらつくという問題を生む。尚特に粉末金属の焼結
体をターゲットとする場合には粉末自体の表面に酸化物
を形成していることが多く、この酸化物がターゲット表
面に露出してスバッタ時の異常放電現象を招くという問
題もある。従って最も安定で且つばらつきの少ない反射
膜を形成するという点からは、先にも述べた如く鋳造製
ターゲットの使用が推奨される訳である。

［実施例］ 東直■ユ 種々の組成からなるＡｌ−Ｈｆ，Ａｌ−Ｚｒ，Ａｌ−Ｔ
ｉ，Ａｌ−Ｔａの各合金ターゲットを用い、ＤＣマグネ
トロン・スパッタリングにより、透明ポリカーボネート
樹脂基板上に５０ＯＡの各合金薄膜を形成した。このＡ
１合金薄膜上にアクリル樹脂からなる保護膜を１０μｍ
厚さで形成した。

この様に作成した光ディスクに、透明ポリカーボネート
樹脂基板側から波長７８０ｎｍのレーザー光を照射し、
反射率を測定した。Ａ１合金中の添加元素含有率と反射
率の関係を調べたところ、第１図に示す様な結果が得ら
れた。

図に見られる通り、Ａｌ−Ｔａ合金膜ではＴａの添加量
が増大するに伴って反射率は顕著に減少した。Ａ　Ｉ　
−Ｔ　ｉの場合はＡｌ−Ｔａほどではないが、反射率の
減少傾向が認められた。これに対しＡｌ−｝｛ｆ，Ａｌ
−Ｚｒの場合は合金元素を増大させたときの反射率減少
傾向は非常に僅かであることが分かる。

実施例２ 実施例１と同様に形成した光ディスクに対し、環境負荷
試験としてＰ　Ｃ　Ｔ　（Ｐｒｅｓｓｕｒｅ　Ｃｏｏｋ
ｅｒＴｅｓｔ：　１　２　ｉ℃、２気圧、１００％ＲＨ
）を行ない、Ａ１合金中の合金元素含有率と耐食性変動
状況を調べた。尚耐食性変動状況は波長７８０ｒ＋ｍの
レーザー光に対する反射率の減少量で評価した。

第２図はＰＣ７２０時間後の結果を示すものであり、合
金元素含有率が多くなるにつれて耐食性の向上を認める
ことができる。しかしＡｌ−Ｔａではその効果が弱く、
Ａ　Ｉ　−Ｔ　ｉがこれに次ぎＡｔ−ＨｆとＡｌ−Ｚｒ
がもっとも有効であることが分かる。

［発明の効果］ 本発明の光ディスクは上記の様に構成されているので、
光ディスクにおける反射膜の初期反射率を下げることな
く耐食性を向上させることができ、長期間保存後の信号
読み取り精度を高いレベルに維持することが可能となっ
た。

【図面の簡単な説明】

第１図は光ディスクの初期反射率を示すグラフ、第２図
は環境負荷試験後の反射率を示すグラフである。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）光ディスクに形成される反射膜がＺｒ及び／又は
   Ｈｆ：１０重量％以下残部Ａｌ及び不可避不純物よりな
   るＡｌ−（Ｚｒ及び／又はＨｆ）合金によって形成され
   たものであることを特徴とする光ディスク。
2. （２）反射膜が鋳造製Ａｌ−（Ｚｒ及び／又はＨｆ）合
   金をターゲットとしてスパッタリングすることにより形
   成されたものである請求項（１）記載の光ディスク。