JPH0321309A - 供給ラインのフィルタ監視装置 - Google Patents

供給ラインのフィルタ監視装置

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Publication number
JPH0321309A
JPH0321309A JP1152266A JP15226689A JPH0321309A JP H0321309 A JPH0321309 A JP H0321309A JP 1152266 A JP1152266 A JP 1152266A JP 15226689 A JP15226689 A JP 15226689A JP H0321309 A JPH0321309 A JP H0321309A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filter
supply line
pressure sensors
monitoring device
secondary side
Prior art date
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Pending
Application number
JP1152266A
Other languages
English (en)
Inventor
Kimiharu Matsumura
松村 公治
Hiroyuki Sakai
宏之 境
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Kyushu Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Tokyo Electron Kyushu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd, Tokyo Electron Kyushu Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP1152266A priority Critical patent/JPH0321309A/ja
Publication of JPH0321309A publication Critical patent/JPH0321309A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 見旦L且杵 (産業上の利用分野) 本発明は、レジスト,現像液等の供給ライン中に設けた
フィルタの監視装置に関するものである。
(従来の技術) 半導体製造・検査装置のプロセス工程において、薬液等
の流体、即ちレジスト液、現像液等の薬液を供給ライン
(供給配管)よりそれぞれの工程ユニットに供給するよ
うにしている.そして、供給ラインの途中には、フィル
タを設けて薬液中の塵埃を濾過し、クリーンな薬液を供
給するようにしている. このフィルタは,一定期間使用すると、濾過機能が低下
してフィルタの目詰りや又はトラブルを発生するおそれ
があるため、フィルタを使用する経験則や使用者の勘に
よって一定期間経過後にフィルタを交換するようにして
いる. (発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記の従来例によると、フィルタの交換
時を使用者の経験則や勘に頼っていると、フィルタ機能
が有効に発揮されていない場合は、薬液中の塵埃を濾過
することなく,工程ユニットに供給されるため、クリー
ン度を要求される半導体製造や検査工程に著しく反する
こととなり,被製造物や被検査物の歩留まりの低下にな
る等の大きな問題点が存在していた. 本発明は、上記した従来例の課題を解決するために開発
したものであり、その目的とするところは,薬液等の流
体の供給ラインに配設したフィルタの濾過機能の低下を
即座に知得することが可能で、フィルタの交換時期を確
実に検出することができ、常にクリーンな薬液等の流体
を供給することができるフィルタ監視装置を提供するも
のである. 発明の構或 (課題を解決するための手段) 上記の目的を達成するため,本発明は、供給ラインの途
中にフィルタを設け,このフィルタの一次側と二次側に
それぞれ圧力センサを配設し,両圧力センサの設定圧力
値以上の差が発生した際に、フィルタ交換の警告手段を
発するように構或した.また、供給ラインの途中にフィ
ルタを設け、このフィルタの二次側にパーティクルカウ
ンタを配設するようにしたものである. (作 用) 依って,第1の発明は、フィルタの一次側と二次側にそ
れぞれ圧力センサを配設するように構成したから、例え
ば、レジスト液、或いは現像液等の薬液を供給ラインよ
り供給すると、薬液中の塵埃はラインの途中に配設した
フィルタによって濾過されてクリーンな薬液が二次側よ
りレジスト塗布装置や現像装置等の工程ユニットに供給
される。
しかし、フィルタが目詰まりやトラブルが発生して濾過
機能がやや落ちると、一次側の圧力センサと二次側の圧
力センサの圧力値を比較制御回路によって比較し、予め
設定した圧力以上の差が発生した場合、フィルタの交換
時期を検出し、交換時をランプやブザー等の警告手段に
よりアラームを発生することができるので、使用者は、
勘に頼ることなくフィルタの交換時を知得することがで
き、工程ユニットのクリーン度を保障することが可能と
なる。
また、第2の発明は,フィルタの二次側にパーティクル
カウンタを配設したから、パーティクルカウンタにによ
り薬液等の流体中のパーティクルの大きさ及び量をモニ
ターして予め設定した設定値を超えた場合,フィルタの
異常及び交換のアラームを発生するようにしているので
、上記の発明と同様に使用者は,勘に頼ることなくフィ
ルタの交換時を知得することができ、工程ユニットのク
リーン度を保障することができる. (実施例) 以下に、本発明を供給ラインのフィルタ監視装置に適用
した一例を説明する. 第1図は、フィルタ監視装置の一実施例を示したもので
あり,供給ライン(供給配管)1によりレジスト塗布装
置、現像装置にレジスト或いは現像液等の薬液を供給し
、このラインの途中にフィルタ2を設ける.このフィル
タ2は,通常のフィルタを使用するものとし、例えばラ
イン1にジョイントを介して着脱自在に設け、フィルタ
2の本体の内部に中空糸膜或いは平膜を積層した積層型
のフィルタエレメントを内蔵したものを実施に応じて任
意に使用するものとする。3はフィルタ2の一次側であ
り、4はフィルタ2の二次側である.この一次側3と二
次側4にそれぞれ圧力センサ5、6を配設し、両圧力セ
ンサ5、6の設定圧力値以上の差が発生した際に,比較
制御回路9を介してフィルタ交換の警告手段10を発す
るようにする.上記した圧力センサ5、6は、供給ライ
ン1内の流体圧力を測定する公知のセンサを用いるちと
とし、また、警告手段は、ランプ、ブザー等の警告機器
を用いるものとする. フィルタ2の接続配管近傍にバルブ7,8を設けてフィ
ルタ2を交換する際にバルブ7又はバルブ8の一方或い
は双方を閉止するようにしている.9は比較制御回路で
あり、この回路9は、圧力センサ5、6の圧力値を比較
し、予め設定した圧力異常の差が発生した場合、即ち、
フィルタ2が目詰まりを起した場合、フィルタ2の一次
側3の流体圧が二次側4の圧力より一定以上大きくなっ
た場合に警告手段10に信号を送り,ランプ等の警告を
発してフィルタ2の交換時間を知らせるようにしている
次に、上記実施例の作用を説明する。
フィルタ2の一次側3と二次側4にそれぞれ圧力センサ
5、6を配設しているから、例えば、レジスト液、或い
は現像液等の薬液を供給ライン1より供給すると、薬液
中の塵埃はライン1の途中に配設したフィルタ2によっ
て濾過されてクリーンな薬液が二次側4よりレジスト塗
布装置や現像装置等の工程ユニット(図示せず)に供給
される.一旦、フィルタ2が目詰まりやトラブルを発生
して濾過機能がやや落ちると、一次側3の圧力センサ5
と二次側4の圧力センサ6の圧力値を比較制御回路9に
よって比較し、予め設定した圧力以上の差が発生した場
合、フィルタ2の交換時期を検出し,交換.時をランプ
やブザー等の警告手段10によりアラームを発生するこ
とができるので、使用者は、勘に頼ることなくフィルタ
2の交換時を知得して、バルブ7、8を閉止してフィル
タ2を交換することができ,工程ユニットのクリーン度
を常に保障することができる. また、第2図は他の例を示したもので、供給ライン1の
途中に上記と同様のフィルタ2を設け、このフィルタ2
の二次側4にパーティクルカウンタl1を配設したもの
である。このパーティクルカウンタ11は,測定セルに
薬液の試料液を流し、このなかにレーザー光を集光させ
、このとき,試料液中の微粒子は受光光学系の光軸方向
に通過し、集光部に設定した粒子検出領域からは水分子
の散乱光とともに通過粒子からの散乱光が得られ、得ら
れた散乱光信号の時系列データを解析することによりそ
の信号強度から通過粒子数と個々の粒子径を算出するも
のである。
従って、フィルタ2の二次側4にパーティクルカウンタ
11を配設したから,パーティクルカウンタ11にによ
り薬液等の流体中のパーティクルの大きさ及び量をモニ
ターして予め設定した設定値を超えた場合,上記の例と
同様に警告手段を介してフィルタ2の異常及び交換のア
ラームを発生するようにしているので、上記の例と同様
に使用者は、勘に頼ることなくフィルタ2の交換時を知
得することができ、工程ユニットのクリーン度を常に保
障することができる. なお,上記の実施例では、現像装置等の薬液の供給ライ
ンの例を示したが、その他、半導体製造、検査工程に供
給される気体やその他の流体等にも応用することができ
るものである。
発明の効果 以上のことから明らかなように,本発明によると、次の
ような有用な効果がある. 本発明は、薬液等の流体の供給ラインに配設したフィル
タの濾過機能の低下を即座に知得することができるので
,フィルタの交換時期を確実に検出することができ、常
にクリーンな薬液等の流体を供給することができる等の
効果がある。
【図面の簡単な説明】
図面は、本発明における供給ラインのフィルタ監視装置
の各実施例を示したもので、第1図はフィルタ監視装置
に一実施例を示した説明図、寮2図はフィルタ監視装置
に他の例を示した説明図であ7l+,, 5・・・圧力センサ   6・・・・圧力センサ10・
・・警告手段 11・・・・パーティクルカウンタ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)供給ラインの途中にフィルタを設け、このフィル
    タの一次側と二次側にそれぞれ圧力センサを配設し、両
    圧力センサの設定圧力値以上の差が発生した際に、フィ
    ルタ交換の警告手段を発するように構成した供給ライン
    のフィルタ監視装置。
  2. (2)供給ラインの途中にフィルタを設け、このフィル
    タの二次側にパーテイクルカウンタを配設した供給ライ
    ンのフィルタ監視装置。
JP1152266A 1989-06-16 1989-06-16 供給ラインのフィルタ監視装置 Pending JPH0321309A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1152266A JPH0321309A (ja) 1989-06-16 1989-06-16 供給ラインのフィルタ監視装置

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JP1152266A JPH0321309A (ja) 1989-06-16 1989-06-16 供給ラインのフィルタ監視装置

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JPH0321309A true JPH0321309A (ja) 1991-01-30

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ID=15536736

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JP (1) JPH0321309A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000167321A (ja) * 1998-12-02 2000-06-20 Ishigaki:Kk ろ過機におけるろ材の洗浄再生方法
JP2001304490A (ja) * 2000-04-25 2001-10-31 Morihisa Sumimoto ユーザーへの潤滑油、作動油等のオイル供給方式
EP1337728A1 (en) * 2000-10-26 2003-08-27 Poolrite Equipment Pty Ltd Filter control
WO2016047182A1 (ja) * 2014-09-22 2016-03-31 株式会社Screenホールディングス 塗布装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63305907A (ja) * 1987-06-08 1988-12-13 Toshiba Corp ろ過装置のフィルタ目詰まり監視装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63305907A (ja) * 1987-06-08 1988-12-13 Toshiba Corp ろ過装置のフィルタ目詰まり監視装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000167321A (ja) * 1998-12-02 2000-06-20 Ishigaki:Kk ろ過機におけるろ材の洗浄再生方法
JP2001304490A (ja) * 2000-04-25 2001-10-31 Morihisa Sumimoto ユーザーへの潤滑油、作動油等のオイル供給方式
EP1337728A1 (en) * 2000-10-26 2003-08-27 Poolrite Equipment Pty Ltd Filter control
WO2016047182A1 (ja) * 2014-09-22 2016-03-31 株式会社Screenホールディングス 塗布装置
JP2016063205A (ja) * 2014-09-22 2016-04-25 株式会社Screenホールディングス 塗布装置
US10600647B2 (en) 2014-09-22 2020-03-24 SCREEN Holdings Co., Ltd. Coating apparatus

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