JPH03211842A - Icチップの実装構造 - Google Patents

Icチップの実装構造

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JPH03211842A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 概要 高速信号処理用ICに適したICチップの実装構造に関
し、 実装されたICチップにおける入出力間の漏話を抑圧す
ることを目的とし、 第1の導体層、第1の絶縁体層、第2の導体層、第2の
絶縁体層及び第3の導体層をこの順に積層してなる回路
基板と、ICチップとを該ICチフブの上面と上記第2
の導体層とが概略同一平面上に位置するように金属体上
に固着するようにしたICチップの実装構造において、
上記第2の導体層は高速信号用の伝送ラインと、該伝送
ラインの近傍に設けられた、上記第1及び第3の導体層
に導通ずる接地パターンとを含んでなり、上記ICチッ
プの上面には、上記伝送ラインが第1のボンディングワ
イヤにより接続される信号用パッドと該信号用パッドを
囲むようにして設けられた接地用パッドとが形成されて
おり、該接地用パッドは上記接地パターン及び第3の導
体層と第2のボンディングワイヤにより接続されるよう
にして構成する。
産業上の利用分野 本発明は、光中継器等に使用される高速信号処理用IC
に適したICチップの実装構造に関する。
近年、光伝送路として極めて広帯域なものが実用される
ようになり、高速伝送システムの適用範囲が大幅に拡大
されつつある。今日では、1.6Gb/sシステムの幹
線系への導入が進められており、将来的には更に高速化
が予想される。このような所謂マイクロ波領域の信号を
取り扱うシステムを実現するためには、マイクロ波領域
で動作が可能なICチップの設計が必要になることはも
ちろんのこと、この種の高速信号処理用ICチップの実
装構造の最適化が必要になる。具体的には、5〜10G
b/sの信号を取り扱うシステムにおいて光/電気変換
回路で変換された信号レベルを高めるための等化増幅回
路やタイミング信号を抽出するためのタイミング抽出回
路では、広帯域且つ高利得(60dB程度)な特性が必
要になるので、これらの回路が実現されるICチップに
あっては、そのICチップを実装したときに、入出力間
の漏話が少なくとも10GHzまでの信号に対して十分
に抑圧されていることが必要になる。
従来の技術 従来、高速信号処理用のICチップであって高利得をを
したICチップを実装する場合の入出方間漏話抑圧対策
としては次のようなものがある。
■ ICチップを大型なチップサイズにして、入力パッ
ドと出力パッド間の距離を大きくとる。
■ 3層の導体層の間に2層の絶縁体層を挾み込んで構
成されるトリプレート型の回路基板を用いて、伝送線路
間での空間結合を抑圧する。
発明が解決しようとする課囚 上述の■、■の対策を行った場合、ICチップの人出力
パッドに対してボンディングワイヤ接続を行っていない
状態では、10GHz までの周波数に対しては約79
dB程度の漏話減衰量を確保することができるが、実際
にICチップの入出力パッドと回路基板の伝送線路とを
ボンディングワイヤ接続すると、LOG)Iz の周波
数で漏話減衰量が約30dB程度にまで低下し、そのI
Cチップが高利得の回路が実現されているものである場
合には、回路が発振してしまうことになる。
本発明はこのような技術的課題に濫みて創作されたもの
で、実装されたICチップにおける入出力間の漏話を抑
圧することを目的としている。
課題を解決するための手段 上述した技術的課題を解決するためになされた本発明の
ICチップの実装構造は、第1vIIJに示すように、
第1の導体層2、第1の絶縁体層4、第2の導体層6、
第2の絶縁体層8及び第3の導体層10をこの順に積層
してなる回路基板12と、ICチップ14とを該ICチ
ップ14の上面と上記第2の導体層6とが概略同一平面
上に位置するように金属体16上に固着するようにした
ICチップの実装構造において、上記第2の導体層6は
高速信号用の伝送ライン6aと、該伝送ライン6aの近
傍に設けられた、上記第1及び第3の導体層2.10に
導通する接地パターン6bとを含んでなり、上記ICチ
ップ14の上面には、上記伝送ライン6aが第1のボン
ディングワイヤ18により接続される信号用パッド20
と該信号用パッド20を囲むようにして設けられた接地
用パッド22とが形成されており、該接地用パッド22
は上記接地パターン6b及び第3の導体層10と第2の
ボンディングワイヤ(24)により接続されているもの
である。
ICチップ14は、図示のように絶縁用の基板26を介
して金属体16上に固着されていても良いし、絶縁用の
基板26を介さずに直接金属体16上に固着されていて
も良い。
作   用 本発明の構成によると、伝送ライン6aと信号用バッド
20とを接続する第1のボンディングワイヤ18が、接
地電位にある第2のボンディングワイヤ24により取り
囲まれる構造が実現されるので、第1のボンディングワ
イヤ18からの電界の漏れをシールドして、このICチ
ップの入出力間の空間結合を有効に抑圧することができ
るようになる。よって、本発明によると、高利得回路に
対応可能な漏話減衰量の確保が可能になる。
ところで、ICチップが例えばSi系のものである場合
には、ICチップの下面側(サブストレート)が最も低
い電位になるような実装構造を採用する必要があり、マ
イナス極性の電源を使用する回路形式である場合等のよ
うに、ICチップを接地電位である金属体に直接接触さ
せることができないことがある。従って、ICチップを
絶縁用の基板を介して金属体上に固着するようにした構
造は、このような場合に適している。ICチップを絶縁
用の基板を介して金属体上に固着した場合、ICチップ
における接地はボンディングワイヤを介して行わざるを
得ないので、本発明の構造はこのような場合に接地を強
化する上でも有効である。
実施例 以下本発明の実施例を第2図及び第3図により説明する
。第1図におけるものと実質的に同一の部分には同一の
符号を付しである。
第2図は本発明の実施例を示す光中継器用の装置の斜視
図である。この装置は、光ファイバを介して伝送された
高速光信号を電気信号に変換し、これを複数の比較的低
速な信号に時分割して出力するように機能する。
12はICチップ14が収容される切欠きを有する回路
基板であり、この回路基板12は、第1、第2の導体層
2.6が形成された第1の絶縁体層4とこれよりも僅か
に小さい第2の絶縁体層8とにより第2の導体層6を挟
み込むようにして構成されている。第2の絶縁体層8上
には第3の導体層10が形成されている。第1の絶縁体
層4の外周縁部には、外部回路との接続をなすための複
数のパッケージリード28が第2の導体層6と接続され
るように設けられている。30.16はそれぞれ回路基
板12の上面及び下面に固着されたCu lvVからな
る第1、第2の金属体である。第1の金属体30はIC
チップ14が収容される回路基板12の切欠きに対応す
る位置に開口を有しており、第2の金属体16はICチ
ップ14を固定するスペースを有している。第2の金属
体16の側面には、溶接が可能なコバールからなる側板
32が接合されている。34はこの装置内に光ファイバ
を導入するためのコバールからなるバイブ部材であり、
このパイプ部材34は、例えばレーザ溶接により側板3
2の所定位置に固定される。第1の金属体30の各IC
チップ14に対応する位置に形成された開口の縁にはそ
れぞれ枠部材36が固着されており、この枠部材36に
コバールからなる蓋部材38を溶接固定することによっ
て、この装置は密閉されている。
第3図にICチップ14の実装部の近傍の破断斜視図を
示す。第1の絶縁体層4上に形成された第2の導体層6
は、ICチップ14への入力信号を伝送する入力端の伝
送ライン6aと、出力信号を伝送する出力側の伝送ライ
ン6a / と、多数のビア40によって第1の導体層
2及び第2の導体層IOに導通する接地パターン6bと
、電源供給用等に供される通電ライン6Cとからなる。
ICチップ14は、この実施例では第2の金属体16上
に固定された絶縁用の基板26上に固着されている。絶
縁用の基板26は、例えば、窒化アルミニウムからなる
誘電体層と金等からなる導電体層とを交互に複数層(数
層乃至数十層)積層したものである。このような基板2
6を用いることによって、−様な絶縁体からなる同等草
みの絶縁用の基板を用いている場合と比較して、ICチ
ップ14の下面と第2の金属体16との間のキャパシタ
ンスを増大させることができる。その結果、高周波な漏
話成分は、ICチップ140入力側から出力側に到達す
ることなく、高キャパシタンスな基板26を介して第2
の金属体16に逃げるようになり、漏話特性が改善され
る。
ICチップ14上の相対する縁部には、それぞれ伝送ラ
イン5a、5a’に対向するように入出力信号用の信号
用パッド20が設けられており、信号用パッド20と伝
送ライン6a、6a’ とは第1のボンディングワイヤ
18により接続されている。信号用パッド20の周囲に
は、ICチップ14の上面縁部を除きコの字型の接地用
バッド22が設けられており、この接地用バッド22は
接地パターン6b及び第3の導体層lOと第2のボンデ
ィングワイヤ24により接続されている。この実施例で
は、第2のボンディングワイヤ24は一つのバッドに対
して5本設けられており、これらの第2のボンディング
ワイヤ24により第1のボンディングワイヤ18が取り
囲まれるようにして、良好なシールド性を確保している
。この実施例では、第1のボンディングワイヤ18だけ
でなく信号用パッド20及び伝送ライン6aも第2のボ
ンディングワイヤ24により取り囲まれるようになって
いるので、漏話減衰量を著しく大きくすることができる
。複数の第2のボンディングワイヤ24を設ける場合、
これらをこの実施例のように概略平行に配置するのでは
なく、互いに交叉するように配置しても良い。
この実施例では、信号用パッド20が入出力ようにそれ
ぞれ一つずつ設けられている場合が示されているが、そ
れぞれ複数の信号用パッドが設けられている場合にも本
発明は適用可能である。
この実施例では、第2のボンディングワイヤ24を採用
している他、トリプレート構造の回路基板12を採用し
、伝送ライン5a、5a’の近傍に接地パターン6bを
配するとともに多数のビア40を介して接地パターン6
bを電位安定性が高い第1及び第2の金属体30.16
に導通させているので、高利得(例えば6HB程度)の
回路用のrCチップに十分対処可能な漏話特性を確保す
ることができる。その結果、5〜10Gb/sの超高速
なシステムを比較的容易に実現することができるように
なる。
発明の詳細 な説明したように、本発明のICチップの実装構造によ
れば、実装されたICチップにおける入出力間の漏話の
抑圧が可能になるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の原理説明図、 第2図は本発明の実施例を示す光中継器用の装置の斜視
図、  ′ 第3図は第2図に示された装置におけるICチップ近傍
の破断斜視図である。 2・・・第1の導体層、 4・・・第1の絶縁体層、 6・・・第2の導体層、 8・・・第2の絶縁体層、 10・・・第3の導体層、 I2・・・回路基板、 14・・・ICチップ、 16・・・金属体、 18・・・第1のボンディングワイヤ、20・・・信号
用パッド、 22・・・接地用バッド、 24・・・第2のボンディングワイヤ、6a・・・伝送
ライン、 6b・・・接地パターン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1の導体層(2)、第1の絶縁体層(4)、第2
    の導体層(6)、第2の絶縁体層(8)及び第3の導体
    層(10)をこの順に積層してなる回路基板(12)と
    、ICチップ(14)とを該ICチップ(14)の上面
    と上記第2の導体層(6)とが概略同一平面上に位置す
    るように金属体(16)上に固着するようにしたICチ
    ップの実装構造において、 上記第2の導体層(6)は高速信号用の伝送ライン(6
    a)と、該伝送ライン(6a)の近傍に設けられた、上
    記第1及び第3の導体層(2、10)に導通する接地パ
    ターン(6b)とを含んでなり、 上記ICチップ(14)の上面には、上記伝送ライン(
    6a)が第1のボンディングワイヤ(18)により接続
    される信号用パッド(20)と該信号用パッド(20)
    を囲むようにして設けられた接地用パッド(22)とが
    形成されており、 該接地用パッド(22)は上記接地パターン(6b)及
    び第3の導体層(10)と第2のボンディングワイヤ(
    24)により接続されていることを特徴とするICチッ
    プの実装構造。 2、上記ICチップ(14)は絶縁用の基板(26)を
    介して上記金属体(16)上に固着されていることを特
    徴とする請求項1に記載のICチップの実装構造。
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