JPH0321111A - 弾性表面波装置及びその製造方法 - Google Patents
弾性表面波装置及びその製造方法Info
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- JPH0321111A JPH0321111A JP11972689A JP11972689A JPH0321111A JP H0321111 A JPH0321111 A JP H0321111A JP 11972689 A JP11972689 A JP 11972689A JP 11972689 A JP11972689 A JP 11972689A JP H0321111 A JPH0321111 A JP H0321111A
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Links
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Landscapes
- Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は弥性表面波装置及びその製造方法に関するもの
である。
である。
従来例をill,性表面波共振子の電極を例にとり説明
する。一般的に弾性表面波共振子にはインクディジタル
電極(櫛形の人出力電極)が形成されている。このイン
ターディジタル電極は純Aρ又はA.lll系合金で形
威されているのが通常である。
する。一般的に弾性表面波共振子にはインクディジタル
電極(櫛形の人出力電極)が形成されている。このイン
ターディジタル電極は純Aρ又はA.lll系合金で形
威されているのが通常である。
この人力電極に交流の電気信号を印加すると圧電体の圧
電現象により電気機械変換が生じて弥性表面波が発生ず
る。インターディジタル電極により励振した弾性表面波
を両側に配置した反射器間に閉じことにより高いQを持
つ共振子を実現することができる。
電現象により電気機械変換が生じて弥性表面波が発生ず
る。インターディジタル電極により励振した弾性表面波
を両側に配置した反射器間に閉じことにより高いQを持
つ共振子を実現することができる。
このような弾性表面装置において、ICのAρ配線に生
ずるのと類似の電極劣化(エレク1・ロマイグレーショ
ン)か問題であった。これに影響を与えるところの圧電
性基板の弾性表面波応力(SAW応力)Tは、以下の式
であらわされる。
ずるのと類似の電極劣化(エレク1・ロマイグレーショ
ン)か問題であった。これに影響を与えるところの圧電
性基板の弾性表面波応力(SAW応力)Tは、以下の式
であらわされる。
T=A.7Pw A:定数
ここでPはSAWパワー密度( 111位長当り)、w
はSAW角周波数である。この式からSAW応力Tは電
力と周波数の増加に応じて高くなり、先程のエレクトロ
マイグレーションについても厳しい条件になってくる。
はSAW角周波数である。この式からSAW応力Tは電
力と周波数の増加に応じて高くなり、先程のエレクトロ
マイグレーションについても厳しい条件になってくる。
例えば800MHz帯の自動車電話分波器用SAWフィ
ルターでは、IWクラスより5Wクラスへの大電力タイ
プにおいて厳しく又、共振器では、数百MHzからGH
z帯へと高周波になるほど劣化は急速に進行してゆく。
ルターでは、IWクラスより5Wクラスへの大電力タイ
プにおいて厳しく又、共振器では、数百MHzからGH
z帯へと高周波になるほど劣化は急速に進行してゆく。
この電極劣化の原因は高周波のSAW応力を主な駆動力
とする電極材料の粒界拡散であると考えられている。こ
の対策として、AρへのCuやTiの添加により薄膜の
結晶粒子の微細化と均質化することで耐久性向上してき
たが、さらに大電力化、高周波化する状況下において、
現状以上の耐久性向上策が必要になってきている。
とする電極材料の粒界拡散であると考えられている。こ
の対策として、AρへのCuやTiの添加により薄膜の
結晶粒子の微細化と均質化することで耐久性向上してき
たが、さらに大電力化、高周波化する状況下において、
現状以上の耐久性向上策が必要になってきている。
本発明は、この様な問題点を解決するもので、その目的
とするところは、より高耐久の弾性表面波装置とその製
造方法を提供することにある。
とするところは、より高耐久の弾性表面波装置とその製
造方法を提供することにある。
本発明による俳性表面波装置は、圧電性基板とAD系電
極材料との間にAg系窒化物層を介在させることを特徴
とするものである。
極材料との間にAg系窒化物層を介在させることを特徴
とするものである。
又、その製造方法は窒素ガス中での反応性スバッタを行
うことによりAg系窒化物層を形成することを特徴とす
るものである。
うことによりAg系窒化物層を形成することを特徴とす
るものである。
本発明の作用を述べれば、圧電基盤とAD系電極材料と
の間にA,ill系窒化物層を設けることにより、Al
系窒化物層の微細粒子が、その上部の膜の粒子に影響を
与えてその膜を微細化・均一化することにより電極の耐
久性を向上出来た。
の間にA,ill系窒化物層を設けることにより、Al
系窒化物層の微細粒子が、その上部の膜の粒子に影響を
与えてその膜を微細化・均一化することにより電極の耐
久性を向上出来た。
本発明による実施例を以下に示す。
最終研磨加工した圧電体基板上に、下記の条件でAll
系窒化物層を形成した。
系窒化物層を形成した。
電極材料膜形成装置:DCマグネトロンスパツタ装置
ターゲット材料:A.l! −0. 5wt%Cu基
板:STカット水晶 基板温度:220°C 導入ガス条件:Ar+10%N2、1Paスパッタパワ
ー 0,6kW 上記の条件で約400Aのll系窒化物層を形成3 4 した。次に上記の導入ガスを純アルゴンに変更すること
によりAj)−Cu材料系膜を形成し、合計0.1μの
電極用薄膜を形成した。この薄膜は、従来とまったく同
様のプロセスを用いてインタディジタル電極を形成出来
た。
板:STカット水晶 基板温度:220°C 導入ガス条件:Ar+10%N2、1Paスパッタパワ
ー 0,6kW 上記の条件で約400Aのll系窒化物層を形成3 4 した。次に上記の導入ガスを純アルゴンに変更すること
によりAj)−Cu材料系膜を形成し、合計0.1μの
電極用薄膜を形成した。この薄膜は、従来とまったく同
様のプロセスを用いてインタディジタル電極を形成出来
た。
上述の如く、本発明によれば、下付けのAl系窒化物は
、平均200人の粒径の薄膜が形成されており、その上
付けのA1l−Cu系膜も下地の影響を受けて、従来技
術による膜の約60%に微細化をはかることができた。
、平均200人の粒径の薄膜が形成されており、その上
付けのA1l−Cu系膜も下地の影響を受けて、従来技
術による膜の約60%に微細化をはかることができた。
それにより電極の劣化時間を大幅に延長出来る様になっ
た。
た。
電極の寿命の評価は一定の温度と電力(振動による応力
)を加えた時の、共振器のピーク周波数が一定量(50
KHz)変化した場合を劣化とし、試験開始から劣化ま
での時間をもって寿命時間として測定したが、その結果
、本発明による弾性表面波装置は同一のSAW電力に対
して約3〜5倍の寿命時間を有することが分った。
)を加えた時の、共振器のピーク周波数が一定量(50
KHz)変化した場合を劣化とし、試験開始から劣化ま
での時間をもって寿命時間として測定したが、その結果
、本発明による弾性表面波装置は同一のSAW電力に対
して約3〜5倍の寿命時間を有することが分った。
これにより劣化が少く信頼性が高い弾性表面波装置を実
現出来た。さらに今後高周波化、大電ツj化が進み使用
条件が増々厳しくなる中で、その特徴を発揮出来るもの
である。
現出来た。さらに今後高周波化、大電ツj化が進み使用
条件が増々厳しくなる中で、その特徴を発揮出来るもの
である。
以上
Claims (2)
- (1)圧電性基板とAl系電極材料との間にAl系窒化
物層を介在させることを特徴とする弾性表面波装置。 - (2)窒素ガス中で反応性スパッタを行うことによりA
l系窒化物層を形成することを特徴とする、請求項1記
載の弾性表面波装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11972689A JPH0321111A (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 弾性表面波装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11972689A JPH0321111A (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 弾性表面波装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0321111A true JPH0321111A (ja) | 1991-01-29 |
Family
ID=14768604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11972689A Pending JPH0321111A (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | 弾性表面波装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0321111A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04121797U (ja) * | 1991-04-19 | 1992-10-30 | テイーデイーケイ株式会社 | 電子部品の自動供給装置 |
JP2015023483A (ja) * | 2013-07-22 | 2015-02-02 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電膜製造方法、振動片、振動子、発振器、電子機器及び移動体 |
-
1989
- 1989-05-12 JP JP11972689A patent/JPH0321111A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04121797U (ja) * | 1991-04-19 | 1992-10-30 | テイーデイーケイ株式会社 | 電子部品の自動供給装置 |
JP2015023483A (ja) * | 2013-07-22 | 2015-02-02 | セイコーエプソン株式会社 | 圧電膜製造方法、振動片、振動子、発振器、電子機器及び移動体 |
CN104333338A (zh) * | 2013-07-22 | 2015-02-04 | 精工爱普生株式会社 | 压电膜制造方法、振动片、振子、振荡器、设备和移动体 |
CN110724917A (zh) * | 2013-07-22 | 2020-01-24 | 精工爱普生株式会社 | 振动片、振子、振荡器、电子设备和移动体 |
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