JPH03210462A - X線回折装置 - Google Patents

X線回折装置

Info

Publication number
JPH03210462A
JPH03210462A JP2005710A JP571090A JPH03210462A JP H03210462 A JPH03210462 A JP H03210462A JP 2005710 A JP2005710 A JP 2005710A JP 571090 A JP571090 A JP 571090A JP H03210462 A JPH03210462 A JP H03210462A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
crystal
curved
spectral crystal
ray
parallel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005710A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2867523B2 (ja
Inventor
Kazuo Koyanagi
和夫 小柳
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2005710A priority Critical patent/JP2867523B2/ja
Publication of JPH03210462A publication Critical patent/JPH03210462A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2867523B2 publication Critical patent/JP2867523B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明はX線用のモノクロメータでX線回折装置に用い
られるものに関する。
(従来の技術) X線回折装置には平行X線束を用いる平行ビーム型と試
料からの回折X&1!を一点に収束させる収束ビーム型
とがある。粉末試料とか固体試料で厚さのある試料は収
束ビーム型が適用できるが、薄膜試料のように厚みのな
い平板試料では収束条件を実現することができないので
、平行ビーム型を用いる必要がある。従来のX線回折装
置では回折Xvlを分光するモノクロメータを取換える
ことによって上記した二つの型に切換え得るようになっ
ているが、平行ビーム型用の平板分光結晶を用いたモノ
クロメータと、収束ビーム型用の湾曲分光結晶を用いた
モノクロメータが別々に用意されていて、平行ビーム型
と収束ビーム型との切換時には、これらのモノクロメー
タを着脱交換する際−々光学系の調整をしなければなら
ず切換操作が面倒であった。試料の中には基板上に薄膜
が形成されていて、その薄膜と基板の両方を分析したい
と云うようなものがあり、この場合薄膜については平行
ビーム型で分析を行い、基板については収束ビーム型で
分析を行うことになるが、一つの試料の−装置内の分析
において、平行ビーム型と収束ビーム型との切換えに手
間がか\ると云うことは甚だ非能率な状況である。
(発明が解決しようとする課!II) 本発明はX線回折装置で平行ビーム型と収束ビーム型と
の切換え操作を簡単化して上述した非能率な状況を解消
しようとするものである。
(課題を解決するための手段) X線回折装置のゴニオメータ軸と平行な軸によって回転
可能な台上に背中合せに平行ビーム用平板分光結晶と収
束ビーム用湾曲分光結晶を取付け、上記台を180°回
転させることにより、平板結晶と湾曲結晶の何れかを回
折X線入射位置に位置させ得るようにした。
或は一種類の分光結晶を平板状にしたり湾曲させたりす
ることが可能なように分割し或は薄板にして、湾曲機構
に取付けた。
(作用) 平板結晶と湾曲結晶を背中合せ(接している必要はない
)にして台に取付け、この台をゴニオメータの軸と平行
な軸により回転させれば、−操作で二種の分光結晶の交
換が可能である。同一波長のX線に対して、モノクロメ
ータ上の結晶位置を考えると、分光結晶への入射X線と
反射回折される特定波長のxmとの関係は鏡への入射反
射光と鏡との関係と同じで、分光結晶を切換えても、X
線検出器とか分光器の入射スリットの位置を変える必要
はなく、従って分光結晶台の回転だけで、平行ビーム型
と収束ビーム型の切換えが可能となる。二種の分光結晶
を用いる代わりに、一種類の分光結晶を分割してお(と
、真直に並べて平板結晶とし、曲線に沿わせて多角形の
一部状に並べることで近似湾曲結晶とすることが可能で
あり、結晶を薄板にしておけば、弾性的に湾曲させるこ
とが可能であり、何れの場合でも、結晶の位置もX線検
出器の位置も変えないで、結晶を真直にするか湾曲させ
るかだけで平行ビーム型と収束ビーム型の切換えが可能
である。
(実施例) 第1図に本発明の請求項1の発明の一実施例を示す。図
でGはゴニオメータで中央の試料台1の回転角θに対し
て、腕2が2倍角の2θだけ回転するようになっている
。3はX線源である。Fj2にX線検出部4が取付けら
れている。X線検出部4はモノクロメータMとX線検出
器りとよりなっている。
モノクロメータMは腕2に取付けられたゴニオメータ軸
と平行な軸Aによって回転可能な円板5上に湾曲結晶C
1と平板結晶C2と、湾曲結晶型モノクロメータ用の入
出射スリットSl、S2と、平板結晶型モノクロメータ
用の入射側ソーラスリットSsが取付けられている。第
1図はX線回折装置を収束ビーム型として使用している
状態を示している。この場合X線源は電子ビームをター
ゲットT上に収束させて点状X線源とし、このX線源と
、モノクロメータMの入射スリットS1とがゴニオメー
タGと同心の一つの円周上に位置するようになっている
。また出射スリ・ントS2がX線検出器りの前面に位置
し、湾曲結晶C1の中心と上記入出射スリットSL、S
2が一つのローランド円層上に位置するように円板5上
に取付けである。6は試料で、試料台1と腕2とをθ、
2θの関係で回転させて試料からの回折X線を検出する
が、モノクロメータM、X線検出器りは腕2上に取付け
られているので、それらの相互位置関係は不変に保たれ
ている。
第2図は上記装置を平行ビーム型として使用する場合を
示す。円板5を第1図の状態から時計方向に180°回
転きせると第2図の状態になり、ソーラスリットSsが
試料6に向き、平板結晶C2が湾曲結晶C1のあった位
置に来る。従って湾曲結晶の場合と同じフラッグの反射
条件が成立して試料からの特定の波長の回折X線を選別
することができる。
円板5にはノックビン7を挿入する孔が円板中心に対し
て180°隔てて2個所に設けてあり、第1図でノック
ビン7を抜き、孔りをノ・ンクビンのあった位置まで回
わして来てhを通して腕2にノックビンを挿入すると、
円板5は正確に位置決めされて固定される。なお円板5
の回転に対しては180°回転位置にクリック機構(図
では見えない)が設けであるので、それにより手動で1
80°回わして大体の位置を決め、ノックビン7で正確
な位置に固定するのである。平行ビーム型として用いる
場合X線源は電子ビームのターゲット上の焦点をぼかし
、またX線源の前面にソーラスリットSLを置(。8は
ゴニオメータの固定部に取付けられている位置決め溝で
、平行ビーム型として使用する場合、SLをこの溝に嵌
め込む。収束ビーム型の場合、原理上スリットは不要で
あるが、試料外にまで拡がってX線検出器DI:直接入
射し、バックグラウンドレベルを高める不要なX締を除
くため、ソーラスリットの代わりに絞りAを溝8に嵌め
込む。
第3図第4図は一種類の分光結晶を真直にしたり湾曲さ
せたりする本発明の請求項2の発明装置の実施例を示す
。第1図と対応する部分には同じ符号を付けである。C
が分光結晶で、腕2上での位置は固定されており、曲率
だけが無限大と、成る一定値とに変えられる。第4図は
分光結晶Cの曲率を切換える構造を示す。分光結晶Cは
数個に分割され、上下両側の前面で、弾性FfLllに
取付けである。弾性板11の両端はクリップ12に固定
されている。クリップ12はビン13を支点とするL字
形のレバー14の一端に固定されており、対向するL字
形レバーの他端間にカム15が介在させである。このカ
ムを回わしでこのL字形レバーの対向他端間の間隔を拡
げたり、狭めたりすることで、拡げたときは弾性板11
が円弧状に湾曲して、分割された分光結晶Cは全体とし
て湾曲結晶となり、狭くしたときは弾性板11は自由と
なって真直となり分光結晶Cは平板結晶となる。ビン1
3の位置を適当に選ぶことで、分光結晶を真直にしたと
きと湾曲させたときの結晶中心の前後位置の移動を殆ん
ど0にすることができる。弾性板11そのものを結晶薄
板とすることで、−枚の連続結晶板を真直にしりた湾曲
させたりすることもできる。
(発明の効果〉 本発明によれば、X線回折装置の平行ビーム型と収束ビ
ーム型との切換えにモノクロメータの交換を必要としな
いので、切換が殆んどワンタッチの調整不要の操作で行
えるようになり、分析能率か著しく向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の請求項1の発明の一実施例の平面図、
第2図は同実施例の平行ビーム型装置としての使用状態
の平面図、第3図は本発明の請求項2の発明の一実施例
装置の平面図、第4図は同実施例の要部斜視図である。 1・・・試料台、6・・・試料、2・・・腕、3・・・
X線源、4・・・X線検出部、M・・・モノクロメータ
、D・・・X線検出器、5・・・円板、C1,C2・・
・分光結晶、SL。 S2・・・人、出射スリット、Ss・・・ソーラスリッ
ト、G・・・ゴニオメータ、7・・・ノックビン、8・
・・位置決め溝、SL・・・ソーラスリット、A・・・
絞り、11・・・弾性板、12・・・クリップ、14・
・・L字形レバー15・・・カム。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ゴニオメータのX線検出部を取付けた回転腕上で
    、ゴニオメータ軸と平行な軸によって回転可能な台上に
    モノクロメータの平板分光結晶と湾曲分光結晶とを背中
    合せに取付け、上記台の回転により何れかの分光結晶が
    回折X線入射位置に位置するようにしたことを特徴とす
    るX線回折装置。
  2. (2)X線検出部のモノクロメータにおいて、分光結晶
    を位置を変えないで、真直にしたり、湾曲させたりする
    ことが可能な分光結晶としたことを特徴とするX線回折
    装置。
JP2005710A 1990-01-13 1990-01-13 X線回折装置 Expired - Lifetime JP2867523B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005710A JP2867523B2 (ja) 1990-01-13 1990-01-13 X線回折装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005710A JP2867523B2 (ja) 1990-01-13 1990-01-13 X線回折装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03210462A true JPH03210462A (ja) 1991-09-13
JP2867523B2 JP2867523B2 (ja) 1999-03-08

Family

ID=11618676

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005710A Expired - Lifetime JP2867523B2 (ja) 1990-01-13 1990-01-13 X線回折装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2867523B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003517603A (ja) * 1999-12-17 2003-05-27 オスミック,インコーポレイテッド 高線束低バックグラウンド2次元小角x線散乱用光学系
JP2009085669A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Rigaku Corp X線回折装置およびx線回折方法
JP2009085668A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Rigaku Corp X線回折装置およびx線回折方法
JP2010223851A (ja) * 2009-03-25 2010-10-07 Rigaku Corp X線回折方法及びx線回折装置
JP2018021836A (ja) * 2016-08-04 2018-02-08 株式会社島津製作所 X線回折装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003517603A (ja) * 1999-12-17 2003-05-27 オスミック,インコーポレイテッド 高線束低バックグラウンド2次元小角x線散乱用光学系
JP2009085669A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Rigaku Corp X線回折装置およびx線回折方法
JP2009085668A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Rigaku Corp X線回折装置およびx線回折方法
JP2010223851A (ja) * 2009-03-25 2010-10-07 Rigaku Corp X線回折方法及びx線回折装置
JP2018021836A (ja) * 2016-08-04 2018-02-08 株式会社島津製作所 X線回折装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2867523B2 (ja) 1999-03-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Henke et al. Pulsed plasma source spectrometry in the 80–8000‐eV x‐ray region
US6665372B2 (en) X-ray diffractometer
US6385289B1 (en) X-ray diffraction apparatus and method for measuring X-ray rocking curves
JP3706641B2 (ja) X線分析装置
JP2004294136A (ja) X線回折装置
JP3468623B2 (ja) X線回折装置の光学系切換装置
JPH06213836A (ja) X線分析装置
NL8204584A (nl) Roentgen analyse apparaat met een vier-kristal monochromator.
JP2002329473A (ja) X線分光器を備えた透過型電子顕微鏡
JP2014026013A (ja) 回折格子ホルダ、回折格子評価装置、および測定装置
JP2001099994A (ja) X線集光装置及びx線装置
JPH03210462A (ja) X線回折装置
US5790628A (en) X-ray spectroscope
JP2002189004A (ja) X線分析装置
US2783385A (en) X-ray fluorescent spectrometry
US4580283A (en) Two-crystal X-ray spectrometer
Henins Variable radius curved crystal mount
JPS6093336A (ja) レ−ザ微量分析装置
US2666147A (en) Spectrometer
JPH11264762A (ja) エシェル型分光器
US3200248A (en) Apparatus for use as a goniometer and diffractometer
JP2666871B2 (ja) X線モノクロメータ
US4490041A (en) Device for applying radiation at adjustable angles
JP2861736B2 (ja) X線分光器
JPH11133191A (ja) X線集光装置