JPH03209736A - Tabインナーリードのバンプ形成方法 - Google Patents

Tabインナーリードのバンプ形成方法

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JPH03209736A
JPH03209736A JP437390A JP437390A JPH03209736A JP H03209736 A JPH03209736 A JP H03209736A JP 437390 A JP437390 A JP 437390A JP 437390 A JP437390 A JP 437390A JP H03209736 A JPH03209736 A JP H03209736A
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JP
Japan
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inner lead
punch
width
bump
die
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Application number
JP437390A
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English (en)
Inventor
Yasuhiro Otsuka
泰弘 大塚
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体素子の実装に用いられるTAB(Tap
e Autonated Bonding)用テープキ
ャリアのインナーリード先端部に、機械的なプレス加工
により複数のバンプを一括して形成するバンプの形成方
法に関する。
〔従来の技術〕
一般に、半導体素子をTAB用テープキャリアに実装す
るには、半導体素子の電極部またはテープキャリアのイ
ンナーリード先端部のいずれか一方に、バンプとなる突
起を形成する必要がある。半導体素子の電極部にバンプ
形成する方法には、例えば、「アイビーエムジャーナル
(IBMJournal) J第8巻(1964年)1
02頁に記載のように電極部に直接バンプとなる突起を
メツキ法により形成する方法や、「エレクトロニック・
パッケージング・アンド・プロダクション(Elect
r。
nic Packaging & Productio
n) J 、1984年12月号、33〜39頁に記載
のようにエツチング技術を用いたペデスタル法、すなわ
ちバンプを形成する部分をマスキングしておき、他のイ
ンナーリード部分をハーフエツチングすることにより、
30〜40μmの高さの突起を形成する方法、あるいは
「昭和60年度電子通信学会半導体・材料部門全国大会
論文集、講演番号2J(1985年11月)に記載のよ
うにガラス基板にバンプを形成した後、!極部にバンプ
を移し換える方法の転写バンプ法などが行われている。
しかし、これらの方法でバンプを形成するには、高価な
露光装置やメツキ装置などの設備が必要であるばかりで
なく、材料コストが高く、高価な露光装置やメツキ装置
などの設備を用いてパターンニングのためのりソゲラフ
イエ程やエツチング工程を行う必要があるため、バンプ
形成工程が長くなるという課題がある。
このため、特公昭64−10094号公報に記載のよう
に、金型を用いた機械的なプレス成形加工技術を用いて
インナーリード先端部にペデスタルを製作する方法が提
案されている。この方法は、下型へフィルムとインナー
リードが一体となったテープキャリアを装着し、上方か
らインナーリードの幅よりも大きな凸部を有する上型を
降下させてインナーリードの先端部に凸部をプレス加工
によって形成し、パン1となるペデスタルをインナーリ
ード先端部に形成する方法である。なお、上型の凸部に
より押圧されたインナーリードの凹部の材料の逃げのた
め、幅方向に切欠きが設けられている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが、このようなプレス加工方法によりインナーリ
ード先端部に成形されたバンプは、インナーリードの外
形部分を金型を用いて成形した断面形状が中実構造のバ
ンプのため、半導体素子とバンプを熱圧着で接合する工
程において作用させる圧縮荷重に対して、はぼ剛体とし
て作用する。
このため、個々のバンプの高さにバラツキがあると、半
導体素子とバンプを接合するとき、すべてのバンプを均
一に接合することができず、電気的に接続不良が発生す
るという課題がある。接続不良を発生させないためには
、バンプの高さのバラツキを少なくとも0.5μm以下
とすることが必要であり、極めて高精度にバンプを形成
することが要求される。また、インナーリードの凹部に
は、事前に切欠きを設ける加工を行う必要がある等の課
題がある。
本発明の目的は、このような従来の欠点を除去せしめて
バンプ形成工程が簡単で、バンプ高さのバラツキが存在
しても半導体素子との良好な接合を達成できる生産性に
優れたバンプ形成方法を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
前記目的を達成するため、本発明に係るTABインナー
リードのバンプ形成方法においては、TAB用テープキ
ャリアのインナーリード先端部近傍にバンプを形成する
方法であって、底面の幅が前記インナーリードの幅に等
し′<、上面は底面よりも幅が広がったテーパ状断面の
配置溝を複数有するダイス上の前記配置溝に、前記イン
ナーリードを装着する第1の工程と、前記ダイス穴のピ
ッチに等しく該ダイス穴の直径より小さな複数の凸部を
有し、かつ該凸部の周囲が平坦であるポンチを前記凸部
の中心が前記ダイス穴の中心に一致するように配置する
第2の工程と、前記インナーリードを前記ポンチと前記
ダイスを用いてプレス加工する第3の工程とを含むもの
である。
〔作 用〕
ポンチとダイスを用いて第5図に示すような、インナー
リード15の幅よりも小さなバンプを形成することによ
り、ドーム状の中空機構のパン118を形成することが
できる中空構造のパン118ではバンプ形成のための前
加工が不用となり、バンプ形成工程を大幅に簡略化でき
るという利点があり、しかも、中実構造に比べ圧縮力に
対して変形し易い性質を有するなめ、パン118の高さ
にバラツキが存在しても熱圧着時の圧縮荷重によりバン
プが塑性変形し、全てのバンプを均一な高さに矯正する
ことができる。このため、バンプ高さにバラツキが存在
しても、中空バンプを半導体素子の全ての電極部と均一
に密着させ、良好な接合を達成できる。
このような中空パン118は一般に第6図に示すように
、1組のダイス11と棒状のポンチ17を用いて形成さ
れる。この場合、1本のインナーリード14に対してバ
ング18を1ケづつ形成するため、多品種少量生産の用
途に対しては十分効果があるが、大量生産の用途に対し
てはバンプ形成に要する時間が長くなるため(1ケ当た
り1秒程度)、その生産性が低くなるという課題がある
。生産性を向上するためには、複数のダイス穴を有する
ダイスと複数の突起を有するポンチを用いて、−括して
複数のインナーリードをプレス加工し、同時に複数の中
空バンプを形成すれば良い。
上記のような方法で、同時に複数のバンプを高精度かつ
生産性良く形成するためには、各々のインナーリードと
ポンチおよびダイスの位置決めを高精度にかつ瞬時に行
うことが要求される。ところが、−括して形成するバン
プの数、すなわちインナーリードの本数が増加する程、
位置決めの累積誤差が増加するため、より高度な位置決
め技術が必要となり、しかも形成バンプ数が増加する程
、一般に位置決めに要する時間も長くなるなめ、生産性
の点でも問題が生じる。
そこで、本発明では第1図(a)に示すように、まず凹
状配置溝12のテーパ状側面部12aにインナーリード
14が接触するようにインナーリード14を粗位置決め
して装着する。ここで、配置溝12はインナーリード1
4と等ピッチで複数形成されており、しかも配置溝12
の先端部近傍にはポンチ17の凸部15の外径よりも大
きな直径のダイス穴13が形成されている。配置溝12
は、底面12bの幅Q1がインナーリード14の幅Q2
に等しく、上面の幅Q3がインナーリード14の幅Q2
よりも広いテーパ状の断面を有するなめ、粗位置決めを
瞬時に行うことができる。
次いで、ダイス穴13のピッチに等しい複数の凸部15
を有し、凸部15の周囲が平坦である平坦部16を有す
るポンチ17を、凸部15の中心がダイス穴13の中心
に一致するように配置して、ポンチ17によりインナー
リード14を圧下する。インナーリード14は、凸部1
5および平坦部16により圧下され、インナーリード1
4の先端近傍は配置溝12のテーパ状の側面部12aに
沿って弾性的に移動し、第1図(C)に示すようにイン
ナーリード14のIN!Q2に等しい幅を有する配置溝
12の底面12bに挿入される。
以上のようにして、インナーリード14とポンチ17お
よびダイス11の位置決めが行われる。なお第1図(b
) 、 (c)では、説明上ポンチを図示していない。
バンプ18の形成は、さらにポンチ17に作用させる荷
重を増加し、インナーリード14にポンチ凸部15を押
し込むことにより行われ、複数の中空パン118を一括
してインナーリード14の中心位置に形成する。
以上のように本発明のバンプの形成方法では、幅の広い
ダイス配置溝のテーパ状の側面部にインナーリードを粗
位置決めさえすれば、インナーリード中心位置にバンプ
を高精度に形成できる。ダイス配置溝の幅を十分広くす
ることにより、インナーリードの本数が増加しても、高
精度にインナーリードとポンチおよびダイスの位置決め
を短時間で行うことができ、複数の中空構造のバンプを
高精度かつ容易に、しかも生産性良く形成することがで
きる。
〔実施例〕
以下、本発明について図面を用いて詳細に説明する。
第1図(a)〜(d)は、本発明のインナーリードのバ
ンプ形成方法を工程順に説明する断面図ならびに平面図
である0図において、11はダイス、12はダイス上に
形成されたテーパ状断面を有する配置溝、13は配置溝
12の先端に形成されたダイス穴、14はインナーリー
ド、15はポンチ先端に形成した凸部、16は平坦部、
17はポンチを示す。
第2図は本発明で用いたバンプ形成用ポンチおよびダイ
スの製造方法を示す概略図である9図において、15は
ポンチ17に形成する凸部、19は水酸化カリウム溶液
、20はエッチャント容器、21はレーザ光源、22は
レーザ光、23は集光レンズを示す。
以下、本発明の具体例について示す。実施例においては
、以下に示すようなレーザエツチング法を用いてポンチ
17およびダイス11の作成を行った例を示す。レーザ
エツチング法とは、熱化学反応性を有するエッチャント
中に被加工物を配置し、被加工物にレーザを照射し、被
加工物の加熱された領域のみを選択的にエツチング除去
する加工方法である。
第2図に示すように、水酸化カリウム溶液19(KOH
,50wt%)をエッチャント容器20に満たし、ポン
チ17としての10++m角のアルミナチタンカーバイ
ドと、ダイス11としてのアルミナチタンカーバイドを
水酸化カリウム溶液19中に配置した。
集光レンズ23によりスポット径約3μmに集光したA
rレーザ光21をレーザパワー1.5Wで、ポンチ17
およびダイス11に照射した。なお、レーザの走査速度
は0.2am/sとし、所望とするポンチおよびダイス
形状が得られるように、XYステージ24を移動させて
レーザエツチング法を実行した。
形成したポンチ17は第3図に示すように、ポンチ17
の凸部15が直径30±2μm、ポンチ17の周囲の平
坦部16はQ67±1μm、長さ500±5μmの長方
形であり、各ポンチ17の凸部15のピッチは140±
2μmとし、ポンチ17の凸部15を一列に30ケ形成
した。形成したダイス11は第3図に示すように、ダイ
ス穴13が直径50土1μm、深さが30±1μmであ
り、配置溝12は底面の幅70±1μm、長さ500±
5μm、ストレート部の深さ20±1μmである。配置
溝12の上面の幅は100±5μmであり、ピッチ14
0土2μmで一列に30ケ形成した。
次いで第1図(a)に示すように、ポンチ17の凸部1
5の中心がダイス11のダイス穴13の中心に一致する
ようにポンチ17を固定した。さらに第4図に示すよう
な幅70μm、厚さ35μmのインナーリード14が一
辺に30ケ、ピッチ140μmで四辺に並んだフィルム
25を、その−辺が第1図(b)に示すようにダイス1
1の配置溝12のテーパ状側面に接触するように粗位置
決めを行い固定した。最後に第1図(d)に示すように
、ポンチ17に押し込み荷重12kg fを作用させ、
インナーリード14を圧下し、パン118を形成したと
ころ、第5図に示すような皿型の中空パン118を一括
して120ケ形成することができた。
インナーリード14の先端に形成された第5図に示す中
空バンプ18と、AQ電極の付いた半導体素子とを低温
ボンディング法(素子加熱温度=275℃、加圧用ツー
ル温度=450℃、圧力60gf/リード、加圧時Fl
1秒)により接合したところ、電気的にも機械的強度の
面でも良好な強度で接合を達成できた。
なお、本発明のプレス加工によるバンプ形成方法は、サ
イクルタイム10秒以下でフィルム25上の全てのイン
ナーリード14上に120ケのバング形成が可能であっ
た。
本発明の一実施例では、30ケ並んだインナーリードの
一辺に一括してバンプを形成し、同工程を連続して四辺
にあるインナーリードに対して4サイクル行うことによ
り、フィルム25上の全てのインナーリード14にバン
プ形成を行ったが、−括して四辺にある全てのインナー
リード14にバンプ形成を行っても、あるいは数ケのイ
ンナーリード14に対してパン118を一括形成する工
程を複数サイクル行い、全てのインナーリード上にバン
プを成形してもよい。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明のTABインナーリードの
バンプ形成方法によれば、バンプ形成工程が簡単であり
、バンプ高さのバラツキが存在しても半導体素子との良
好な接合を達成できる生産性に優れたバンプ形成を実現
できる効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)〜(d)は本発明のバンプ形成方法を工程
順に示した図であり、第1図(a)はインナーリードと
ポンチおよびダイスを粗位置決めした状態の断面図、第
1図(b)は同平面図、第1図(C)はインナーリード
が配置溝底面に挿入された状態を示す平面図、第1図(
d)はバンプ形成の様子を示す断面図、第2図は本発明
の一実施例で用いたバンプ形成用ポンチとダイスを製造
する方法を示す概略図、第3図は本発明の一実施例によ
り製造されたポンチおよびダイスを示す断面図、第4図
は本発明の一実施例で用いたフィルムの平面図、第5図
は本発明の一実施例により形成されたバンブの側面図、
第6図は一組のポンチとダイスにより、1ケづつバンプ
を形成する方法を示す断面図である。 11・・・ダイス      12・・・配置溝13・
・・ダイス穴     14・・・インナーリード15
・・・凸部       16・・・平坦部17・・・
ポンチ      18・・・中空バンブ19・・・水
酸化カリウム溶液 20・・・エッチャント容器 21・・・レーザ光源2
2・・・レーザ光     23・・・集光レンズ24
・・・XY子テーブル  25・・・フィルム(α) 第1図 (d) 第1図 第4図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)TAB用テープキャリアのインナーリード先端部
    近傍にバンプを形成する方法であって、底面の幅が前記
    インナーリードの幅に等しく、上面は底面よりも幅が広
    がったテーパ状断面の配置溝を複数有するダイス上の前
    記配置溝に、前記インナーリードを装着する第1の工程
    と、前記ダイス穴のピッチに等しく該ダイス穴の直径よ
    り小さな複数の凸部を有し、かつ該凸部の周囲が平坦で
    あるポンチを前記凸部の中心が前記ダイス穴の中心に一
    致するように配置する第2の工程と、前記インナーリー
    ドを前記ポンチと前記ダイスを用いてプレス加工する第
    3の工程とを含むことを特徴とするTABインナーリー
    ドのバンプ形成方法。
JP437390A 1990-01-11 1990-01-11 Tabインナーリードのバンプ形成方法 Pending JPH03209736A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4975254A (en) * 1988-07-06 1990-12-04 Hoechst Aktiengesellschaft Process for removing hydrogen phosphide from waste air
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US9028649B2 (en) 2010-09-28 2015-05-12 Shinkawa Ltd. Semiconductor die pick-up apparatus and method of picking up semiconductor die using the same

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