JPH03200385A - エキシマレーザ装置 - Google Patents
エキシマレーザ装置Info
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- JPH03200385A JPH03200385A JP34201589A JP34201589A JPH03200385A JP H03200385 A JPH03200385 A JP H03200385A JP 34201589 A JP34201589 A JP 34201589A JP 34201589 A JP34201589 A JP 34201589A JP H03200385 A JPH03200385 A JP H03200385A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
Landscapes
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- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、希ガスハライド放電励起を利用したエキシマ
レーザ装置に関するものである。
レーザ装置に関するものである。
従来の技術
従来より、半導体集積回路の微細パターンの露光用光源
として、エキシマレーザが注目されている。このエキシ
マレーザはレーザ媒質として、クリプトン、アルゴン、
キセノン等の希ガスと、ツブ素、塩素等のハロゲンガス
を組み合わせることにより、３５３ｎｍから１９３ｎｍ
の間のいくつかの波長でパターン露光に十分な出力を有
する発振線を得ることができる。これらエキシマレーザ
の利得バンド幅は、約１ｎｍと広く、光共振器と組み合
わせて発振させた場合、発振線が０．５ｎｍ程度の帯域
幅（半値全幅）を持つ。従来において、このような帯域
幅の比較的広いエキシマレーザを露光装置に用いる場合
、レーザ発振線の帯域幅を０．００５ｎｍ程度にまで単
色化し、色収差補正をしない結像光学系を用いている。
として、エキシマレーザが注目されている。このエキシ
マレーザはレーザ媒質として、クリプトン、アルゴン、
キセノン等の希ガスと、ツブ素、塩素等のハロゲンガス
を組み合わせることにより、３５３ｎｍから１９３ｎｍ
の間のいくつかの波長でパターン露光に十分な出力を有
する発振線を得ることができる。これらエキシマレーザ
の利得バンド幅は、約１ｎｍと広く、光共振器と組み合
わせて発振させた場合、発振線が０．５ｎｍ程度の帯域
幅（半値全幅）を持つ。従来において、このような帯域
幅の比較的広いエキシマレーザを露光装置に用いる場合
、レーザ発振線の帯域幅を０．００５ｎｍ程度にまで単
色化し、色収差補正をしない結像光学系を用いている。
そして、単色化するには、一般に波長選択素子を共振器
内に設置する方法が採られている。その構成の一例につ
いて簡単に説明する。
内に設置する方法が採られている。その構成の一例につ
いて簡単に説明する。
第２図は、従来のエキシマレーザ装置を示す構成図であ
る。第２図に示すように、希ガスとハロゲンガスの混合
気体をレーザ媒質とする放電管１１と、その両側に設置
された一対の全反射鏡１２．１３とによシ紫外域でレー
ザ発振するためのレーザ共振器が構成されている。この
レーザ共振器の光路中には、１／４波長位相器１４と出
力光分岐用の偏光分離器１５が設置されている。出力光
路以外のレーザ共振器の光路中に気密容器１６が設置さ
れ、気密容器１６は両側にレーザ光透過用の窓１７．１
８を備えている。気密容器１６の内部には波長選択用光
学素子であるファブリペロ−エタン１９が設置されてい
る。
る。第２図に示すように、希ガスとハロゲンガスの混合
気体をレーザ媒質とする放電管１１と、その両側に設置
された一対の全反射鏡１２．１３とによシ紫外域でレー
ザ発振するためのレーザ共振器が構成されている。この
レーザ共振器の光路中には、１／４波長位相器１４と出
力光分岐用の偏光分離器１５が設置されている。出力光
路以外のレーザ共振器の光路中に気密容器１６が設置さ
れ、気密容器１６は両側にレーザ光透過用の窓１７．１
８を備えている。気密容器１６の内部には波長選択用光
学素子であるファブリペロ−エタン１９が設置されてい
る。
以上の構成において、以下、その動作の概略について説
明する。
明する。
レーザ共振器の放電管１１のレーザ媒質で増幅されたレ
ーザ光は偏光分離器１５によシ分岐され、出力光２０と
して出力される。そして、気密容器１６の圧力を変化さ
せることにより、波長を変化させ、特定の狭い波長だけ
を選択してレーザ発振することができる。
ーザ光は偏光分離器１５によシ分岐され、出力光２０と
して出力される。そして、気密容器１６の圧力を変化さ
せることにより、波長を変化させ、特定の狭い波長だけ
を選択してレーザ発振することができる。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、上記従来例のエキシマレーザ装置のよう
に気密容器１６の両側にレーザ光透過用の窓１７．１８
を設けた構成では、レーザ光がレーザ共振器内を往復す
る間に、レーザ共振器として原理的に必要のない気密容
器１６の窓１７゜１８を通過することになる。レーザ光
は未使用の窓材であっても、窓１７．１８′ｔ−通過す
る際に吸収、゛反射、散乱等によＦ）２）程度損失し、
レーザ出力が低下する。また、光吸収に伴い、窓材に光
学歪が生じ、レーザビーム形状等、ビーム品質の劣化を
招く。これらはエキシマレーザ装置にとって重要な問題
となる。
に気密容器１６の両側にレーザ光透過用の窓１７．１８
を設けた構成では、レーザ光がレーザ共振器内を往復す
る間に、レーザ共振器として原理的に必要のない気密容
器１６の窓１７゜１８を通過することになる。レーザ光
は未使用の窓材であっても、窓１７．１８′ｔ−通過す
る際に吸収、゛反射、散乱等によＦ）２）程度損失し、
レーザ出力が低下する。また、光吸収に伴い、窓材に光
学歪が生じ、レーザビーム形状等、ビーム品質の劣化を
招く。これらはエキシマレーザ装置にとって重要な問題
となる。
本発明は、上記のような従来技術の問題を解決するもの
であり、レーザ共振器の光路中にある光学部品の数を減
らし、レーザ出力およびビーム品質の向上を図ることが
できるようにしたエキシマレーザ装置を提供することを
目的とするものである。
であり、レーザ共振器の光路中にある光学部品の数を減
らし、レーザ出力およびビーム品質の向上を図ることが
できるようにしたエキシマレーザ装置を提供することを
目的とするものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するための本発明の技術的手段は、レー
ザ共振器の光路上に光学素子を内部に設置した気密容器
が設置され、この気密容器におけるレーザ光透過用の窓
のうち、少なくとも一方がレーザ共振器を構成する他の
光学素子で兼用されたものである。
ザ共振器の光路上に光学素子を内部に設置した気密容器
が設置され、この気密容器におけるレーザ光透過用の窓
のうち、少なくとも一方がレーザ共振器を構成する他の
光学素子で兼用されたものである。
そして、上記兼用する光学素子として偏光分離器を用い
ることができる。
ることができる。
作 用
したがって、本発明によれば、レーザ共振器内の光路上
に設置した気密容器におけるレーザ光透過用の窓のうち
、少なくとも一方をレーザ共振器を構成する他の光学素
子で兼用しているので、レーザ光が通過する光学部品の
数を減らすことができる。
に設置した気密容器におけるレーザ光透過用の窓のうち
、少なくとも一方をレーザ共振器を構成する他の光学素
子で兼用しているので、レーザ光が通過する光学部品の
数を減らすことができる。
実施例
以下、本発明の実施例について口面を参照しながら説明
する。
する。
第１図は本発明の一実施例におけるエキシマレーザ装置
を示す構成図である。第１図に示すように、希ガスとノ
・ロゲンガスの混合気体をレーザ媒質とする放電管１と
、その両側に設置された一対の全反射鏡２．３とにより
紫外域でレーザ発振するためのレーザ共振器が構成され
ている。このレーザ共振器の光路中には、１／４波長位
相器４と出力光分岐用の偏光分離器５が設置されている
。
を示す構成図である。第１図に示すように、希ガスとノ
・ロゲンガスの混合気体をレーザ媒質とする放電管１と
、その両側に設置された一対の全反射鏡２．３とにより
紫外域でレーザ発振するためのレーザ共振器が構成され
ている。このレーザ共振器の光路中には、１／４波長位
相器４と出力光分岐用の偏光分離器５が設置されている
。
出力光路以外のレーザ共振器の光路中に気密容器６が設
置され、気密容器６はレーザ光を透過することができ、
放電管１に対する離隔側にレーザ光透過用の窓７が設け
られ、放電管１側のレーザ光透過用の窓が上記偏光分離
器５で兼用されている。
置され、気密容器６はレーザ光を透過することができ、
放電管１に対する離隔側にレーザ光透過用の窓７が設け
られ、放電管１側のレーザ光透過用の窓が上記偏光分離
器５で兼用されている。
気密容器６の内部には波長選択用光学素子であるファブ
リペロ一二タン８が設置されている。
リペロ一二タン８が設置されている。
以上の構成において、以下、その動作の概略について説
明する。
明する。
レーザ共振器の放電管１のレーザ媒質で増幅されたレー
ザ光は偏光分離器５により分岐され、出力光９として出
力される。そして、気密容器６の圧力を変化させること
によシ、波長を変化させ、特定の狭い波長だけを選択し
てレーザ発振することができる。このとき、気密容器６
の一方の窓を偏光分離器５で兼用し、レーザ光が通過す
る光学部品の数を減らしているので、レーザ光の吸収、
反射、散乱等を少なくしてレーザ出力を向上させること
ができ、しかも、光学歪の影響を少なくしてビーム品質
を向上させることができる。
ザ光は偏光分離器５により分岐され、出力光９として出
力される。そして、気密容器６の圧力を変化させること
によシ、波長を変化させ、特定の狭い波長だけを選択し
てレーザ発振することができる。このとき、気密容器６
の一方の窓を偏光分離器５で兼用し、レーザ光が通過す
る光学部品の数を減らしているので、レーザ光の吸収、
反射、散乱等を少なくしてレーザ出力を向上させること
ができ、しかも、光学歪の影響を少なくしてビーム品質
を向上させることができる。
発明の効果
以上述べたように、本発明によれば、レーザ共振器の光
路上に設置した気密容器におけるレーザ透過用の窓のう
ち、少なくとも一方をレーザ共振器を構成する他の光学
素子で兼用しているので、レーザ光が通過する光学部品
の数を減らすことができる。したがって、レーザ光の損
失が減少してレーザ出力を向上させることができ、また
、光学歪による影響を少なくしてビーム品質を向上させ
ることができる。
路上に設置した気密容器におけるレーザ透過用の窓のう
ち、少なくとも一方をレーザ共振器を構成する他の光学
素子で兼用しているので、レーザ光が通過する光学部品
の数を減らすことができる。したがって、レーザ光の損
失が減少してレーザ出力を向上させることができ、また
、光学歪による影響を少なくしてビーム品質を向上させ
ることができる。
第１図は本発明の一実施例におけるエキシマレーザ装置
を示す構成図、第２図は従来のエキシマレーザ装置を示
す構成図である。 １・・・放電管、２，３・・・全反射鏡、５・・・偏光
分離器、６・・・気密容器、７・・・窓、８・・・ファ
ブリペローエタロン。
を示す構成図、第２図は従来のエキシマレーザ装置を示
す構成図である。 １・・・放電管、２，３・・・全反射鏡、５・・・偏光
分離器、６・・・気密容器、７・・・窓、８・・・ファ
ブリペローエタロン。
Claims (2)
- （１）レーザ共振器の光路上に光学素子を内部に設置し
た気密容器が設置され、この気密容器におけるレーザ光
透過用の窓のうち、少なくとも一方がレーザ共振器を構
成する光学素子で兼用されたエキシマレーザ装置。 - （２）兼用する光学素子が偏光分離器である請求項１記
載のエキシマレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34201589A JPH03200385A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | エキシマレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34201589A JPH03200385A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | エキシマレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03200385A true JPH03200385A (ja) | 1991-09-02 |
Family
ID=18350524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34201589A Pending JPH03200385A (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | エキシマレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03200385A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006165484A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Komatsu Ltd | 多段増幅型レーザシステム |
| CN113054516A (zh) * | 2021-03-11 | 2021-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 密封装置、激光器和激光退火设备 |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP34201589A patent/JPH03200385A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006165484A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-06-22 | Komatsu Ltd | 多段増幅型レーザシステム |
| CN113054516A (zh) * | 2021-03-11 | 2021-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 密封装置、激光器和激光退火设备 |
| CN113054516B (zh) * | 2021-03-11 | 2022-06-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 密封装置、激光器和激光退火设备 |
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