JPH0319995Y2 - - Google Patents

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JPH0319995Y2
JPH0319995Y2 JP1985016954U JP1695485U JPH0319995Y2 JP H0319995 Y2 JPH0319995 Y2 JP H0319995Y2 JP 1985016954 U JP1985016954 U JP 1985016954U JP 1695485 U JP1695485 U JP 1695485U JP H0319995 Y2 JPH0319995 Y2 JP H0319995Y2
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Description

【考案の詳細な説明】 本考案は超音波洗浄装置に関し、特に磁気ヘツ
ドあるいは焼成部材、磁性部材その他各種の電子
部品をチツピングなどを起さずに超音波洗浄する
ことのできる超音波洗浄装置に関する。
磁気ヘツドはその製造工程中に油とか粉などの
汚物が付着するので、超音波洗浄によつてこの汚
れを取り除く必要がある。超音波による洗浄原理
は、空胴現象(キヤビテーシヨン)による液中で
の気泡の発生と破壊の繰り返しにより、被洗浄部
材に付着した汚物に衝撃を与えて取り除くものと
考えられる。しかし磁気ヘツドのようなものを洗
浄する場合、磁気ヘツドの前面はフエライトコア
がケースから露出しかつこの面は研磨されている
ので、無制限に超音波洗浄を行うと、ヘツド前面
の面あらさ制度を阻害し、場合によつては毀損し
てしまう。特に磁気ヘツド前面を下向きにしたま
ま超音波洗浄すると、コアのフエライト結晶粒が
その表面から剥離、脱落し、微視的にみると表面
がこまかくかけるという、いわゆるチツピングを
起こし、不良品となつてしまう。このチツピング
現象は、前述のキヤビテーシヨンによる表面の侵
蝕作用によりコアの結晶粒が剥れて自重で脱落す
るためと考えられる。
このような結晶粒の脱落を防止するために上下
に離隔して超音波発振部を配置し、この間に被洗
浄面を上向きにして被洗浄部材を保持し超音波洗
浄を行うようにした装置(実開昭57−55580号)
が提案されている。この構成によれば被洗浄部材
の加工面の面あらさ精度を害することなく洗浄で
きるので、特に表面を研磨した結晶粒組成の各種
素材、磁気ヘツド等の洗浄に有用なものである
が、この装置では上側超音波発振部の高さ位置の
調整機構は有するものの、洗浄動作中は上下の超
音波発振部と被洗浄部材の取付部は固定されてお
り、洗浄作業中に生じた液中の浮遊物等のため
に、表面全体にわたつて均一にかつ充分に洗浄す
るには未だ難点があつた。
本考案は、被洗浄部品の微細加工面を上向きに
して配置し、しかも洗浄動作中に被洗浄部品を超
音波発振部に対して移動させ得るように構成する
ことにより、多面かつ微細加工面をチツピングや
面あらさ精度の低下を起すことなく各面効果的に
洗浄することのできる超音波洗浄装置を提供する
ことを目的とするものである。
この目的のために本考案に係る超音波洗浄装置
は、洗浄槽内に各々出力調整可能な下側超音波発
振部と上側超音波発振部とを設け、被洗浄部品の
加工面を上向きにして前記両発振部の間に保持す
るための被洗浄部品取付部を設け、さらに前記取
付部を前記上側または下側超音波発振部に対して
水平面内で往復移動または回転し得るように槽内
に保持するとともにその駆動機構を設けたもので
ある。
以下、本考案を、図面を参照しながら実施例に
ついて説明する。
第1図は本考案の1実施例に係る超音波洗浄装
置を、その動作中の状態で示した側面断面図であ
る。洗浄槽1の底部に下側超音波発振部3が配置
され、また前記底部に支柱2を介して被洗浄部品
である磁気ヘツド4を保持するための可動治具5
が設けられている。この治具5は複数個の上下に
貫通した段付孔部5aを有し、該孔部5aの各段
差部にそれぞれ前記磁気ヘツド4が保持される。
この場合、磁気ヘツド4はその研磨した前面(磁
気媒体走行面)4aが上向きになるように孔部5
aに保持され、これによつて磁気ヘツド研磨面4
aおよびヘツド底面4bが前記孔部を通して上下
に露出し、またヘツド側部の一部も治具5から露
出している。
前記被洗浄部品の精密仕上加工面は、磁気ヘツ
ドにおいてはその前面つまり磁気ギヤツプのある
磁気媒体走行面となる。
可動治具5に取り付けた磁気ヘツド4の上方で
かつ洗浄槽内に上側超音波発振部6が適当な支持
フレーム7によつて保持されている。上下の超音
波発振部6,3はそれぞれ互いに向き合う方向に
超音波を発振するように配置され、またそれぞれ
別々に出力調整装置10,11を介して超音波発
振器12に接続され、これによつて前記上側およ
び下側の超音波発振部6,3の出力を個別に可変
できるようになつている。洗浄槽1内には、例え
ば水、アルコール、アセトンあるいはトリクロル
エチレンなどの洗浄液14で満され、上述の上
側、下側の各超音波発振部6,3および治具5、
磁気ヘツド4などがこの洗浄液14に浸漬され
る。
第1図の実施例では支柱2上を可動治具5が横
方向に所定のストロークで往復摺動し得るように
保持されている。この場合の往復移動周期は、1
例として、1サイクル/秒以下であり、この往復
動作の手段として治具5の下面に取り付けたラツ
ク8と、該ラツク8とかみ合うピニオン9と、洗
浄槽1を貫通して槽外へのびかつ可逆モータ(図
示省略)に連結されたピニオン軸13とから成る
駆動機構が設けられている。しかしながら本考案
による駆動機構は上記構造のものに限定されるも
のでなく、例えばピストン−シリンダ装置あるい
は槽外のモータにより駆動される送りねじおよび
これに螺合する治具5側に固着されたナツトから
成るねじ機構なども有効に採用され得る。ピスト
ン−シリンダ装置の場合はシリンダが槽外に設置
され、治具5の移動方向と平行にピストンロツド
が洗浄槽1を貫通して治具5の端部に連結され
る。槽壁を貫通する部分には液もれ防止用の適当
な密封装置が設けられることは勿論である。
このような構成で、被洗浄部品の磁気ヘツド4
を担持した治具5を往復移動させながら、上側お
よび下側の超音波発振部6,3を発振させて液中
に超音波を発生させる。磁気ヘツド4の研磨面4
aは上方を向いているので、超音波による洗浄作
用を受けても、表面のフエライト結晶粒が自重で
剥れ落ちることがなく、チツピングなどを起さず
に磁気ヘツド4に付着した油、塵介などの汚れが
除去される。被洗浄部品は上下の超音波発振部
6,3の間を左右に移動するので、浮遊物の影響
を受けず、多面体あるいは複雑な形状のものでも
各面むらなく洗浄され、微細な加工面も有効に洗
浄される。汚れの程度により、あるいは被洗浄部
品の形状、種類などによつて超音波発振器12の
出力を調整し、あるいは被洗浄部品の移動速度を
変える。
第2図は本考案の他の実施例の側面断面図であ
る。この実施例では治具5を支える支柱2が大径
の円筒支柱で構成され、可動治具5の両端部が該
円筒支柱2の上部に摺動回転可能に支持されてい
る。治具5の中心部には短軸15が固着され、こ
の短軸15を介して図示しない歯車機構によつて
治具5が回転駆動される。この実施例でも被洗浄
部品の加工面は上向きに取り付けられ、また上下
の超音波発振部6,3に対して一定間隔を保ちつ
つ回転移動するので、第1図の実施例と同様に加
工面を毀損することなく、また受遊物をさけつつ
微細加工面や多面の洗浄が効果的に行われる。
上述の実施例はいずれも上下の超音波発振部
6,3に対して被洗浄物の方を移動させるように
構成したが、その移動機構については種々の手段
が採用される。また第2図の実施例で治具5を全
体として円形状に形成し、この円形板に被洗浄物
を担持するための複数個の貫通孔を形成し、これ
によつてより多くの被洗浄物を一度に洗浄するよ
うにすることもできる。さらに上側の超音波発振
部6の高さ位置を調整するように構成してもよ
い。
上述の如く本考案によれば、被洗浄部品の面あ
らさ精度を必要とする面を上向きにして上下の超
音波発振部の間に設置し、しかもこの間を移動す
るように構成したので、微細な加工面であつても
面精度を維持しながら一層洗浄効果を高めること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の1実施例に係る超音波洗浄装
置の概略的な側面断面図、第2図は本考案の他の
実施例の部分的な側面断面図である。 1……洗浄槽、2……支柱、3……下側超音波
発振部、4……被洗浄部品(磁気ヘツド)、5…
…可動治具、6……上側超音波発振部、8……ラ
ツク、9……ピニオン、10,11……出力調整
装置、12……超音波発振器、14……洗浄液。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 洗浄槽内に、各々出力調整可能な下側超音波発
    振部と上側超音波発振部とを、共に槽内の洗浄液
    に浸るように上下に水平に設け、被洗浄部品の精
    密仕上加工面を上向きにして前記下側および上側
    超音波発振部の間に該被洗浄部品を配置するため
    の可動取付部を水平に設け、さらに前記可動取付
    部を前記上側および下側超音波発振部に対して往
    復水平移動または回転可能に保持するとともにそ
    の移動または回転駆動機構を設け、前記取付部
    は、複数個の上下に貫通した段付孔部を有し、該
    段付孔部の各段部に被洗浄部品が、少なくともそ
    の上部が露出するように載置され、かつ複数個の
    被洗浄部品が同時に前記上側超音波発振部に対面
    するように構成されることを特徴とする超音波洗
    浄装置。
JP1985016954U 1985-02-08 1985-02-08 Expired JPH0319995Y2 (ja)

Priority Applications (1)

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JP1985016954U JPH0319995Y2 (ja) 1985-02-08 1985-02-08

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JP1985016954U JPH0319995Y2 (ja) 1985-02-08 1985-02-08

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JPS61132091U JPS61132091U (ja) 1986-08-18
JPH0319995Y2 true JPH0319995Y2 (ja) 1991-04-26

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ID=30504209

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JP1985016954U Expired JPH0319995Y2 (ja) 1985-02-08 1985-02-08

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS503644U (ja) * 1973-05-15 1975-01-16
JPS5839535U (ja) * 1981-09-11 1983-03-15 株式会社 博屋商行 溶融金属測温プロ−ブ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS503644U (ja) * 1973-05-15 1975-01-16
JPS5839535U (ja) * 1981-09-11 1983-03-15 株式会社 博屋商行 溶融金属測温プロ−ブ

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Publication number Publication date
JPS61132091U (ja) 1986-08-18

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