JPH03197154A - イオンフロー記録ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電極層と絶縁層との積層体にイオンフロー通
過孔を二次元マトリクス状に貫通形成してなる二枚のシ
ートを、互いに接合してイオンフロー制御体をつくり、
このイオンフロー制御体によりイオン源からのイオンフ
ローを制御し、記録をなし得るように構成されたイオン
フロー記録ヘッドに関する。

［従来の技術］ 一対の電極層が平行に対向して離間配置される如く、上
記一対の電極層を絶縁層の両面に接合し、上記電極層と
絶縁層との積層体にイオンフロー通過孔を貫通形成し、
電極間に印加する電圧を制御する事によってイオンフロ
ー制御を行なう如く構成されたイオンフロー制御体を備
えたイオンフロ−記録ヘッドと、この記録ヘッドを用い
た記録方法はＵＳＰ３，６８９．９３５号等によって公
知である。

またイオンフロー通過孔を二次元マトリクス状に配列し
、このイオンフロー通過孔を横方向の開口列ごとに電気
的に連接してなる横電極と、縦方向の開口列ごとに連接
してなる縦電極との組合わせにより、いわゆるマトリク
ス駆動するようにしたイオンフロー記録ヘッドは、特公
昭５９−４３３１７号公報等において公知である。

なお本発明者は、記録速度を高めると共に、記録ヘッド
の製作上の課題を解決するために、より多層化した構造
のイオンフロー制御体を備えた記録ヘッドを開発した。

このイオンフロー制御体に関しては、本出願人の先願に
係わる特願平１−０５５４８７号として出願中である。

第９図は上記出願から引用した図である。１０はイオン
フロー記録ヘッド本体とも言うべきイオンフロー制御体
である。このイオンフロー制御体１０は、第１電極１１
．第２電極１２．第３電極１３、第１絶縁層１４．第２
絶縁層１５．およびイオンフロー通過孔１７Ａ、１７Ｂ
、からなっている。１８は記録画像形成用の信号源であ
り、１９はイオンフロー集束電界形成用の電源である。

また２１はコロナイオンを発生させるコロトロン帯電器
、２２はコロナイオン発生用の高圧電源である。さらに
２３は記録媒体であり、絶縁層２４と導電支持体２５と
からなづている。２６は記録媒体に印加するバイアス電
界を形成するための電源である。

なおイオンフロー通過孔１７Ａは、コロナイオンフロー
の集束用兼０Ｎ−ＯＦＦ制御用の孔であり、イオンフロ
ー通過孔１７Ｂは、０Ｎ−ＯＦＦ制御を含むイオンフロ
ー制御用の孔である。

コロトロン帯電器２１のコロナワイヤ２１ａに電源２２
から高電圧が印加されると、コロナイオンが発生する。

このコロナイオンは、イオンフロー制御体１０の方向へ
イオンフローとなって流れる。このイオンフローは、イ
オンフロー制御体１０の集束用通過孔により集束作用を
受ける。すなわち集束用イオンフロー通過孔１７Ａには
電極１１と１２との間に印加される電圧によってつくり
出される電界が働いている。この電界の作用で、広い孔
径のイオンフロー通過孔１７Ａの内部に受は入れられた
イオンフローは、集束されて制御用イオンフロー通過孔
１７Ｂへ送り込まれる。制御用イオンフロー通過孔１７
Ｂには電極１２と電極１３との間に印加される電圧によ
ってつくり出される電界が働いている。この電界の作用
で、イオンフローはその通過を制御される。イオンフロ
ー通過孔１７Ａ、１７Ｂを通過したイオンフローは、バ
イアス電源２６がつくり出す電界により、拡散を抑制さ
れた状態で記録媒体２３に導かれる。かくして記録媒体
２３にはドツト状の静電潜像が形成される。

電極１１．１２．．１３の中のいずれか二つ、例えば１
１と１３とは、互いにＸＹ力方向クロスして対向するよ
うに、帯状に分割されたセグメント電極となっている。

かくしてマトリクス状に配列されているイオンフロー通
過孔を時間差をもってアクセス制御する如く構成されて
いる。

第１０図は、イオンフロー通過孔がマトリクス状に配設
されたイオンフロー制御体の構成を示す部分平面図であ
る。同図において１７−１１〜・・・はイオンフロー通
過孔であり、太矢印で示す記録媒体の移動方向に直交す
る方向に、１７−１１゜１７−２１．〜１７−ｍ１で示
す如く配列されている。また太矢印で示す記録媒体の移
動方向に沿って、１７−１１．１７−１２．〜１７−Ｉ
ｎで示す如く配列されている。結局「ｍＸｎｊなる二次
元マトリクスを構成している。また１１−１〜１１−ｍ
は第１電極であり、例えばイオンフロー通過孔１７−１
１〜１１−１４を縦方向に電気的に連接する形状となっ
ている。１３−１〜１３−ｎは第３？Ｉ！極であり、例
えばイオンフロー通過孔１７−１１〜１７−１４を横方
向に電気的に連接する形状となっている。

第９図における残りの第２電極１２は、ベタ電極であり
、イオンフロー通過孔を除いた部分は、いわゆるベタ状
に作られている。この電極１２は、マトリクス駆動に際
して間接的に寄与する電極であって、この電極１２には
基準となる電圧が印加される。

画像記録時には第３電極１３の一つ、例えば１３−１を
選択し、第２電極１２との間に、所要電圧すなわちイオ
ンフローがイオンフロー通過孔１７の内部を通過するに
十分な大きさの電圧を与える。また選択された電極１３
−１の列上にあるイオンフロー通過孔１７−１１．１７
−２１．〜１７−ｍ１のうち、画像信号に従い記録ドツ
トを記録しようとする位置にあるイオンフロー通過孔を
有している第１電極１１と第２電極１２との間のみに、
所要の電圧すなわち画像信号に応じた量のイオンフロー
がイオンフロー通過孔の内部を通過するに十分な大きさ
の電圧を与える。かくして信号を与えた第１電極１１と
第３電極１３とがクロスした位置に設けられているイオ
ンフロー通過孔には、イオンフローを通過させるに十分
な大きさの促進電界が形成される。上記イオンフロー通
過孔以外のイオンフロー通過孔には、少なくともイオン
フロー通過孔を構成している二つの通過孔１７Ａ、１７
Ｂのいずれかにイオンフローの通過が阻止される方向の
電界が形成される。第３電極１３−１．１３−２．〜１
３−〇の選択をシーケンシャルに一巡させれば、全イオ
ンフロー通過孔への１サイクルのアクセスが終了する。

上記１サイクルのアクセスに対応させて記録媒体２３を
１ドツトピツチＰだけ移動させるという動作を繰返すこ
とにより、記録は行なわれる。

［発明が解決しようとする課ｆｆｉ］ 上記した構成のイオンフロー記録ヘッドにおいては、複
数の電極層と複数の絶縁層とを積層した積層体に、イオ
ンフロー通過孔を貫通形成したイオンフロー制御体が備
えられている。この種のイオンフロー制御体を製作する
場合、全層を一体化したものを先ず形成し、しかるのち
電極層および絶縁層に孔加工を施すことは多大な困難を
伴なう。

その解決策として、本発明者は絶縁層と電極層とを積層
して一体化した部材にイオンフロー通過孔を貫通形成し
て第１のシートおよび第２のシートをつくり、この両者
を互いに接合して第９図示のものと同等の機能を有する
イオンフロー制御体を構成することを提案した。

しかしながら、第１０図に示すイオンフロー通過孔１７
および電極１１．１３等のマトリクス構造は複雑微細で
あって、第１のシートと第２のシートとを接合するため
の接着剤がイオンフロー通過孔１７Ａ、１７Ｂの内部に
はみ出してくるのを確実に防止することができなかった
。その結果、記録ムラが発生する等のおそれがあった。

本発明の第１の目的は、マトリクス状に配設されたイオ
ンフロー通過孔の形成領域に接着剤がはみ出すことがな
く、接着剤はみ出しに起因する記録ムラ発生等のおそれ
がなく、しかも製作が容易なイオンフロー記録ヘッドを
提供することにある。

本発明の第２の目的は、第１の目的に加え、イオンフロ
ー通過孔形成領域の非接着部における第１のシートと第
２のシートとの間のギツヤツブが、均−且つ安定に保持
され得るイオンフロー記録ヘッドを提供することにある
。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、上記課題を解決し目的を達成するために次の
ような手段を講じた。

（１）少なくとも第１の電極層、第１の絶縁層。

これら両者を貫通し二次元マトリクス状に配設された第
１のイオンフロー通過孔、を有する第１のシートと、 少なくとも第２の電極層、第２の絶縁層、これら両者を
貫通し二次元マトリクス状に配設された第２のイオンフ
ロー通過孔、を有する第２のシートと、 上記第１および第２のシートを、各イオンフロー通過孔
のセンターを一致させて接合する接合手段と、 を備え、前記接合手段は、二次元マトリクス状に設けら
れたイオンフロー通過孔の周辺を除く残余の領域に限り
接着剤を塗布し、第１のシートと第２のシートとを接合
するものとした。

（２）上記第１の手段に、第１のシートと第２のシート
とを接合したイオンフロー制御体を、支持体により円弧
状に湾曲支持する手段を加えた。

［作用］ 第１の手段を講じた結果、次のような作用が生じる。イ
オンフロー通過孔の周辺部には接着剤が塗布されていな
い為、第１のシートと第２のシートとを密着接合させて
も接着剤がイオンフロー通過孔内へはみ出してくるおそ
れがない。

第２の手段を講じた結果、次のような作用が生じる。支
持体により湾曲支持されることによって、第１のシート
と第２のシートとが相互に接近し、互いに圧接するよう
な作用が生じる。その結果、第１のシートと第２のシー
トとの非接前部でのギャップが少くなり、安定な接合状
態を呈するものとなる。

［実施例コ 第１図（Ｊｌ）（ｂ）　〜第３図（ａ）（ｂ）は本発明
の第１実施例を示す図であって、第１図（ａ）（ｂ）は
第１のシート３０と第２のシート４０との接合前の状態
を示す断面図であり、第２図は第１のシート３０と第２
のシート４０との接合後の状態を示す断面図である。ま
た第３図（ａ）（ｂ）は上記第１図（ａ）（ｂ）に示す
第１のシート３０と第２のシート４０とを各々接着面側
から見た平面図である。

第１図（ａ）に示すようにように、第１のシート３０は
、ポリイミド樹脂のような絶縁シート３１と、縦電極３
２と、イオンフロー通過孔３３とからなっている。３４
は絶縁シート上の接着剤塗布領域、３５は位置合わせ孔
をそれぞれ示している。

第１のシート３０は次のように製作される。まず絶縁シ
ート３１の上に、金属層を被着した部材にエツチング処
理を施して縦電極３２のパターン加工を行なう。さらに
パンチング、レーザ光照射等の処理を施すことによって
、イオンフロー通過孔３３および位置合わせ孔３５の加
工を行なう。

第１図（ｂ）に示すようにように、第２のシート４０は
、ポリイミド樹脂のような絶縁シート４１と、横電極４
２と、イオンフロー通過孔４３と、ベタ電極４６とから
なっている。４４は絶縁シート上の接着剤塗布領域、４
５は位置合わせ孔をそれぞれ示している。

第２のシート４０は次のように製作される。まず絶縁シ
ート４１の両面上に、金属層を被着した部材にエツチン
グ処理を施して横電極４２のパターン加工およびベタ電
極４６の加工を行なう。さらにパンチング、レーザ光照
射等の処理を施すことによって、イオンフロー通過孔４
３および位置合わせ孔４５の加工を行なう。

なお第１のシート３０のイオンフロー通過孔３３は、イ
オンフローを集束し高密度化するためのものである。こ
のため孔径が大きく設定される。

また第２のシート４０のイオンフロー通過孔４３は、主
としてイオンフローを制御するためのものである。この
ため孔径が小さく設定される。イオンフロー通過孔３３
．４３が二次元マトリクス状に配設されている領域は、
例えば縦電極方向に５〜１０ｍｍ程度の幅を有しており
、その両側に接着剤塗布領域３４．４４が形成されてい
る。上記第１のシート３０の接着剤塗布領域３４および
第２のシート４０の接着剤塗布領域４４の双方またはい
ずれか一方に接着剤を塗布した後に、第１シート３０と
第２シート４０とを重ね合わせて接合することにより、
両者は一体化される。その結果、第２図に示す断面構造
を有するイオンフロー制御体５０が製作される。なお第
２図において５１゜５２は接着剤層を示している。また
両シート３０゜４０の接合時に−おけるイオンフロー通
過孔３３゜４３の位置合わせに際しては、各シート加工
時においてイオンフロー通過孔３３．４３と同様にして
加工しておいた位置合わせ孔３５．４５にガイドビンを
通した状態で接合する等の手段を講じることにより、容
品かつ高精度に位置合わせを行なえる。

この様に構成されたイオンフロー制御体においては、第
１のシート３０のイオンフロー通過孔３３、第２のシー
ト４０のイオンフロー通過孔４３が設けられている領域
が非接着状態になっている。

しかしイオンの流れは電極層３２，４６．４２によって
形成される電界に依存している。したがって第１のシー
ト３０と第２のシート４ｏとの間が非接着状態になって
いること自体は、イオンフローを制御する上で同等問題
がない。ただし、第１のシート３０と第２のシート４０
との非接着部の間隙が不均一であったり、イオンフロー
通過孔３３．４３のセンターがずれている場合には、影
響が出てくる。非接着部の幅が５〜１０ｍｍ程度の狭い
幅である場合には、接着層５１．５２の厚みを薄くして
均一化を図ることにより、上記の障害を比較的容易に除
去できる。しかし非接触部の幅がより広くなると、第１
のシート３０と第２のシート４０との隙間に不揃いが出
るおそれがある。

また接着剤層５１．５２の厚みが厚いと、第１のシート
３０と第２のシート４０との隙間が増大してしまう。そ
の結果、安定性、記録性能等に欠けるものとなる。

第４図（ａ）（ｂ）は上記不具合を解消すべく改善され
た本発明の第２実施例を示す図である。

第４図（ａ）に於て、６０は第２図のイオンフロー制御
体５０を得た場合と同様な手順によって作ったイオンフ
ロー制御体を示している。中央のイオンフロー通過孔二
次元マトリクス配列部を中心にして非接着領域Ｘが設け
られている。但しこの場合、マトリクスの縦方向の列数
が多くなっている為に非接着領域Ｘの幅が広くなってい
る。又接着剤層６１．６２の厚みｔが比較的厚い為に、
第１のシート３０と第２シート４０とのギャップが大き
くなっている。このような理由から、このままの状態で
使用すると、ギャップの不揃いが無視できない上、その
ギャップの大きさが外力やシートに加わる熱歪等によっ
て不安定に変化する恐れを有している。

第４図（ｂ）は上記のような不具合が発生しないように
、つまり上記ギャップの不安定性を除去すると共に、ギ
ャップの値を零に近ずける様に改良したものを示してい
る。図示の如くイオンフロー制御体６０は支持体７０に
より円弧状に支持されている。

図示例ではコロナイオン源側を内側ＩＮにし、記録媒体
に面する側を外側ＯＵＴにした円弧となる様に、イオン
フロー制御体６０を湾曲させている。その結果、湾曲の
内側にある第１のシート３０には第１のシート３０を圧
縮する方向の力Ｖが作用し、湾曲の外側にある第２のシ
ート４０にはシートを引き伸す方向の力Ｗが作用する。

上記の力ｖ、Ｗは、内側の第１のシート３０を外方へ押
し出す力Ｍと、外側の第２シート４０を内側へ押し返す
力Ｎとを生ぜしめる。上記力ＭとＮは、第１のシート３
０と第２のシート４０とを相互に圧縮する様に作用する
。したがって第４図（ａ）に示す様に平面状態では不安
定であったイオンフロー通過孔形成部のギャップが、狭
くて安定的なものになる。加えてシー）３０．４０に作
用する抗張力、抗圧縮力の影響で、シート６０全体の外
力に対する抵抗性が増す。その結果、イオンフロー制御
体６０自体で円弧状を安定に保ち得ると同時に、外力が
加わっても変形しにくいものとなる。

なお第４図（ａ）（ｂ）の例では、第１のシート３０と
第２のシート４０とを接合するに際しては平板面状態で
加工し、使用するに際して円弧状に支持する場合につい
て説明した。しかるに各シート３０．４０の厚みが大き
い場合、両シート３０．４０を接合したのち所定の曲率
に湾曲させることは極めて困難となる。この様な場合の
対応策としては、シート３０．４０を接合する段階で、
予め使用状態の湾曲度よりは若干小さな湾曲率で円弧状
に湾曲させておき、これを使用に際して十分大きな湾曲
率となるように湾曲させて使用すれば良い。この様にす
る事によって使用状態の湾曲率に容易に湾曲設定するこ
とができ、両シート３０．４０に作用する張力、圧縮力
を適正化する事が可能となる。

上述した第１実施例および第２実施例では、イオンフロ
ーの集束効果を持たせるための大径なイオンフロー通過
孔と、イオンフロー制御効果を持たせるための小径なイ
オンフロー通過孔とをもった複数の絶縁層と複数の電極
層とを有するイオンフロー制御体へ本発明を適用した例
を示した。しかし本発明はイオンフロー集束効果を持た
ない型式のイオンフロー制御体にも適用することができ
る。かかる型式のものは、機能的には単層の絶縁層と２
層の電極層とを積層することで構成できるが、製作の理
由で複数の絶縁層と複数の電極構成とする場合もある。

第５図（ａ）（ｂ）　〜第７図（ａ）（ｂ）は上記のよ
うなイオンフロー制御体に本発明を適用した第３実施例
を示す図である。第５図（ａ）（ｂ）〜第７図（ａ）（
ｂ）に示すイオンフロー制御体１００は、絶縁層８１の
一方の面にマトリックス電極８２．他方の面にベタ電極
８６を有する第１シート８０と、絶縁層９１の一方の面
にマトリックス電極９２、他方の面にベタ電極９６を有
する第２のシート９０とを一体的に接合した構成となっ
ている。

第５図（ａ）（ｂ）　〜第７図（ａ）（ｂ）において、
８３．９３はイオンフロー通過孔、８４゜９４は接着剤
塗布領域、８５．９５は位置合わせ孔を各々示している
。第１のシート８０の好ましい加工例を示すと以下のと
おりである。絶縁シート８１の両側面に金属層を被着し
て成る部材を用意する。この部材にエツチング処理を施
すことによりＡ電極８２と、ベタ電極８６との加工を行
なう。しかる後に加工されたパターンをマスクとして、
エキシマレーザ光を照射することにより、照射部分のプ
ラスチック絶縁層を分解除去して孔あけ加工を行なう。

なおエキシマレーザ先照射時にＡ電極８２側から照射す
ると、マトリックス電極間の隙間のプラスチック絶縁層
も分解除去されてしまう不都合がある。このため上記レ
ーザ光照射はＣ電極８６側から照射するものとする。す
なわちこのようにすると、イオンフロー通過孔８３と位
置合せ孔８５以外の部分は、電極材料でカバーされてい
るから、分解除去さる事なく孔あけ加工を行なうことが
できる。

上記と同様に第２のシート９０についても加工が行われ
る。

第１シート８０と第２シート９０とを製作した後、イオ
ンフロー通過孔形成領域Ｘの外側に位置する接着剤塗布
領域８４．９４に接着剤を塗布して両シートを接合する
。こうすることによって、所要のイオンフロー制御体１
００を製作することができる。

なおＣ電極８６．９６は同一電位に維持される必要があ
ること、又イオンフロー通過孔８３．９３の通過を阻止
されたコロイオン流が流れ込む通路などの理由により、
リード電極パターンを通してイオンフロー通過孔８３．
９３から離れた位置で外部回路に接続可能な如く構成さ
れている。

第３実施例で、Ｃ電極８６．９６が存在しなくともイオ
ンフロー制御体１００は動作可能である。

しかしＣ電極８６．９６はレーザ加工時のマスクとして
必要である。Ｃ電極８６．９６を中間に設けてイオンフ
ロー制御体１００を作成した場合、Ｃ電極８６．９６を
電気的に非接続なフロート状態にしておくこと事も可能
である。その場合イオンフロー制御体１００は、絶縁層
とこれを挟む一対のマトリックス状クロス電極とからな
るものとして動作する。

しかしながら何らかの理由により、Ｃ電極８６゜９６の
部分に、電流ないしコロナイオン流が流れ込むと、その
電位が大きく変化してイオンフロー制御体、ひいては記
録ヘッドの動作特性を大きく歪ませてしまうおそれがあ
る。このような不具合を回避する為には、Ｃ電極を所定
の電位に保つようにする事が好ましいが、その場合には
イオンフロー制御の原理が異なったものとなる。

第１〜第３実施例に示したような絶縁シートに挟まれて
所定電位に保たれてるＣ電極を有するイオンフロー制御
体を備えた記録ヘッドの場合、第１のシートのイオンフ
ロー通過孔と、第２のシートのイオンフロー通過孔とは
、各々単独でイオン流を制御する能力を有している。従
ってベタ電極部に流れ込むイオン電流を外部回路に流し
去る必要がある。

第８図はこのような機能を備えた駆動回路例を示す図で
ある。第８図において、１１０はイオンフロー制御体で
あり、１１１は第１電極、１１２は第２電極、１１３は
第３電極、１１４は第１絶縁層、１１５は第２絶縁層、
１１７Ａ、１１７Ｂはイオンフロー通過孔をそれぞれ示
している。また１２１はコロトロン帯電器、１２２はコ
ロナ用高電圧源、１２３，１２４はイオンフロー阻止電
源、１２５はバイアス電源、１２６は記録媒体、１２７
．１２８はイオンフロー促進用電源、１２９．１３０は
電極ドライバー回路である。

コロトロン帯電器１２１、高電圧電源１２２、バイアス
電源１２５、記録媒体１２６の作用は、第９図に示した
ものと同一機能を有しているので再度の説明は省略する
。

イオンフロー阻止電圧源１２３はイオンフロー通過孔１
１７Ａにイオンフロー通過阻止に十分な電界が形成され
るような電圧を第１電極１１１と第２電極１１２との間
に印加される様に設定される。イオンフロー阻止用電源
１２４は、イオンフロー通過孔１１７Ｂにイオンフロー
通過阻止に十分な電界が形成されるような電圧を印加す
るように設定されている。又イオン促進用電源１２７゜
１２８は前記電源１２３，１２４の効果を打消して各イ
オンフロー通過孔１１７Ａ、１１７Ｂをイオン流が十分
に通過し得る電界を形成するようにその電圧値が設定さ
れる。

第１電極用ドライバー回路１２９は、第１電極１１１の
本数に相当する分だけ設けてあって、不図示の記録画信
号回路からの信号で駆動される。

かくしてこのドライバ回路１２９は、イオンフローの通
過面を阻止する場合にはＰ点の電位を出力し、イオンフ
ローを通過させない場合にはＰ点の電圧から電源１２７
の電圧分だけシフトした電圧を出力し、イオンフロー通
過孔１１７Ａをイオンフローが通過する電界を形成する
。

同様にドライバー回路１３０は、第２電極１１２の本数
に相当する分だけ設けてあって不図示のシーケンスコン
トロール回路によって、サイクリックに駆動される。か
くしてこのドライバー回路１３０は非選択時にはＱ点の
電圧値をそのまま出力しているが、選択が行なわれると
選択された回路の一つのみについてはＱ点の電圧から電
源１２８の電圧分だけシフトした電圧を出力し、イオン
フロー通過孔１１７Ｂをイオンフローが通過する電界が
形成される。

かくしてイオンフロー通過孔１１７Ａ１１７Ｂ共にイオ
ンフローの通過を許容する場合のみ、イオンフローは記
録媒体１２６に向けて放射するが、イオンフロー通過孔
１１７Ａ、１１７Ｂのいずれか一方または双方が阻止状
態にある時は、イオンフローは通過孔を通り抜ける事は
できない。

ドライバー回路１２９がＯＮで、ドライバー回路１３０
がＯＦＦの場合、イオンフローは通過孔１１７Ａを通る
が、通過孔１１７Ｂで阻止される。

この阻止されたイオンフローは電極１１２を通って電源
回路へ流れ込んで除去される。

すなわち本実施例に於ては、第１電極１１１と第３電極
１１３とのクロス部分に於て作られる電界によって、イ
オンフローの通過および阻止が支配されるのではなく、
第１電極１１１と第２電極１１２とによるイオンフロー
制御、および第２電極１１２と第３電極１１３によるイ
オンフロー制御、が独立的に行なわれるものとなる。つ
まり、第１＊極１１１と第２電極１１２とによって動作
するイオンフロー制御体と、第２電極１１２と第３電極
１１３とで動作するイオンフロー制御体とが多重構造的
に一体化されたものと理解するべきである。このように
ベタ電極からなる第２電極の存在はイオンフロー制御体
の構成要素として極めて必要な役割を担うこととなる。

以上のべたように絶縁層と、電極とを積層し、これにイ
オンフロー通過孔を貫通して形成した二つのシートを互
いに接合する構成の各種イオンフロー制御体のいずれに
対しても本願は良好に適用することができる。

なお本発明は前記各実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であ
るのは勿論である。

［発明の効果］ 本発明によれば次のような効果が期待できる。

第１に、マトリクス状に配設されたイオンフロー通過孔
の形成領域に接着剤がはみ出すことがなく、接着剤のは
み出しに起因する記録ムラ発生等のおそれがなく、しか
も製作が容易になる。

第２に、第１の効果に加え、イオンフロー通過孔形成領
域の非接着部における第１のシートと第２のシートとの
間のギッヤップが、均−且つ安定に保持され得るものと
なる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）（ｂ）　〜第３図（ａ）（ｂ）は本発明の
第１実施例を示す図で、第１図（１１）（ｂ）は第１の
シートと第２のシートとの接合前の状態を示す断面図、
第２図は第１のシートと第２のシートとの接合後の状態
を示す断面図、第３図（ａ）（ｂ）は第１図（ａ）（ｂ
）に示す第１のシートと第２のシートとを各々接着面側
から見た平面図である。第４図（ａ）（ｂ）は本発明の
第２実施例を示す図で、同図（ａ）は第１のシートと第
２のシートとの接合後の状態を示す断面図、同図（ｂ）
は支持体による湾曲支持状態を示す断面図である。ｍ５
図（ａ）（ｂ）　〜第７図（ａ３　　（ｂ）は本発明の
第３実施例を示す図で、第５図（ａ）（ｂ）は第１のシ
ートと第２のシートとの接合前の状態を示す断面図であ
り、第６図は第１のシートと第２のシートとの接合後の
状態を示す断面図、第７図（ａ）（ｂ）は第５図（ａ）
（ｂ）（：示す第１のシートと第２のシートとを各々接
着面側から見た平面図である。第８図は第１実施例〜第
３実施例に示したイオンフロー制御体の駆動回路例を示
す図である。第９図および第１０図は本発明の課題説明
のために示した本出願人による先願発明の内容を示す図
である。 １０．５０．６０，１００，１１０・・・イオンフロー
制御体、３０・・・第１のシート、３１・・・絶縁シー
ト、３２・・・縦電極、３３・・・イオンフロー通過孔
、３４・・・接着剤塗布領域、３５・・・位置合わせ孔
、４０・・・第２のシート、４１・・・絶縁シート、４
２・・・横電極、４３・・・イオンフロー通過孔、４４
・・・接着剤塗布領域、４５・・・位置合わせ孔、７０
・・・支持体、５１．５２，６１，６２，１０１．１０
２・・・接着剤層。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）少なくとも第１の電極層，第１の絶縁層，これら
   両者を貫通し二次元マトリクス状に配設された第１のイ
   オンフロー通過孔，を有する第１のシートと、 少なくとも第２の電極層，第２の絶縁層，これら両者を
   貫通し二次元マトリクス状に配設された第２のイオンフ
   ロー通過孔，を有する第２のシートと、 上記第１および第２のシートを、各イオンフロー通過孔
   のセンターを一致させて接合する接合手段と、 を備え、前記接合手段は、二次元マトリクス状に設けら
   れたイオンフロー通過孔の周辺を除く残余の領域に限り
   接着剤を塗布し、第１のシートと第２のシートとを接合
   するものであることを特徴とするイオンフロー記録ヘッ
   ド。
2. （２）第１のシートと第２のシートとを接合したイオン
   フロー制御体を、支持体により円弧状に湾曲支持する手
   段を備えたことを特徴とする請求項１に記載のイオンフ
   ロー記録ヘッド。