JPH03194425A - 低圧鋳造方法 - Google Patents

低圧鋳造方法

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JPH03194425A
JPH03194425A JP33451789A JP33451789A JPH03194425A JP H03194425 A JPH03194425 A JP H03194425A JP 33451789 A JP33451789 A JP 33451789A JP 33451789 A JP33451789 A JP 33451789A JP H03194425 A JPH03194425 A JP H03194425A
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casting
hole
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Hirokazu Naga
博和 那賀
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、コイルに生じるインダクタンス変化により
、鋳造溶湯面の位置を検出するようにした位置検出装置
に関する。
(従来の技術) 鋳物を機械的に多量生産するような場合には、その鋳造
のために、従来、低圧鋳造装置が用いられることがある
上記低圧鋳造装置は、通常、次のような構成となってい
る。即ち、密閉容器に溶湯が注入された状態で、同上容
器内に加圧ガスが送り込まれる。
そして、この加圧ガスで溶湯面が加圧されることによっ
て、溶湯の一部が給湯管を通して押し上げられ、この溶
湯がこの給湯管の上端に連設されている鋳型に注入され
る。そして、この注入から所定時間が経過すれば、鋳型
内の溶湯が凝固して鋳物が成形される。次に、容器から
加圧ガスが排出され、給湯管内の溶湯面が元に戻される
。その−方、鋳型を開けることにより上記鋳物が取り出
される。
(発明が解決しようとする問題点) ところで、上記した従来の鋳造装置では、鋳型に溶湯を
注入する毎に、つまり、鋳造を1回する毎に給湯管内の
溶湯面が、この給湯管内を大きく上下することになる。
しかし、このようにすると、給湯管の内面が、溶湯との
接触と溶湯からの露出とを繰り返し、このため、この内
面に酸化物などの不純物が付着し易くなる。この結果、
これが溶湯に巻き込まれて、鋳造欠陥が生じ易くなると
いう不都合がある。
そこで、上記給湯管内の溶湯面の位置を検出して検出信
号を出力する検出装置を設け、その検出信号により、鋳
造が一旦終了したときの溶湯面の位置が必要以上に下が
らないように、加圧ガスの圧力を制御することが考えら
れる。
しかしながら、溶湯は極めて、高温であるため、検出装
置は耐熱性にする必要があるなど、溶湯面の位置検出は
容易ではない。
(発明の目的) この発明は、上記のような事情に注目してなされたもの
で、耐熱性に優れ、しかも、溶湯面゛の位置検出が精度
よくできる装置の提供を目的とする。
(発明の構成) 上記目的を達成するためのこの発明の特徴とするところ
は、耐火物で覆ったコイルを鋳造溶湯の通路に対応させ
て設け、この通路を移動する溶湯によって、上記コイル
に生じるインダクタンス変化を検出する一方、その検出
信号を出力するインダクタンス検出手段を設けた点にあ
る。
(作 用) 上記構成による作用は次の如くである。
第1に、コイル29は耐火物28で覆われている。また
、第2に、貫通孔(溶湯の通路)10における溶湯5の
移動状態の検出、つまり、溶湯面25の位置検出は、上
記コイル29に生じるインダクタンス変化をインダクタ
ンス検出手段30により検出することによりなされて、
コイル29が溶湯5に直接的に接することがない。この
ため、これら耐火物28やコイル29により構成される
位置検出装置27は、十分の耐熱性を保持することとな
っている。
また、上記したように位置検出装置27は十分の耐熱性
を有することから、これは貫通孔(溶湯の通路)10の
溶湯5に十分近づけることができる。
(実施例) 以下、この発明の実施例を図面により説明する。
第2図において、1は低圧鋳造装置であり、この低圧鋳
造装置lは密閉容器2を備えている。この密閉容器2内
にはるつぼ3が収納され、このるつぼ3内には溶湯補給
口4を通して、適宜、溶湯5を補給できるようになって
いる。6は上記溶湯補給口4を開閉自在に閉じる蓋であ
る。
上記密閉容器2の天井板には開口が形成され、この開口
から円筒状の給湯管8が下方に向って延びている。そし
て、この給湯管8の下端部は上記るつぼ3のほぼ中央で
、溶湯5内に潜り込んでいる。
また、上記密閉容器2の天井板の上面には゛ダイベース
9が取り付けられ、このダイベース9には上記給湯管8
内に連通する断面円形の貫通孔10が形成され、上記給
湯管8と貫通孔10とは同一の垂直軸線上に位置してい
る。
上記ダイベース9上には金型たる鋳型12が取り付けら
れており、この鋳型12は上型13と下型14とで構成
され、これら両型13.14の間がキャビティ15とな
っている。また、上記貫通孔lOからキャビティ15内
に通じる湯口16が下型14に形成されている。
前記密閉容器2には加圧ガス供給管18が連結されてい
る。そして、この加圧ガス供給管18を通し、加圧ポン
プ19で加圧された空気20が密閉容器2内に供給され
るようになっている。また、上記加圧ガス供給管18を
開閉するサーボ弁2Iが設けられている。更に、同上密
閉容器2には、この密閉容器2内の空気20を外部に排
出させる排気管22が連結され、かつ、この排気管22
を開閉する電磁弁23が設けられている。
第1図と第2図において、溶湯5の通路たる貫通孔10
に対し、溶湯面25の位置を検出する位置検出装置27
が設けられる。
この位置検出装置27はセラミックスなど耐火物28で
覆ったコイル29を有し、このコイル29は上記耐火物
28と共に貫通孔lOと同軸上で、その内周面に強固に
嵌め付けられている。上記コイル29の材質は耐熱性の
あるニッケル線であり、これは銅パイプで巻かれ水冷却
されている。また、上記貫通孔10を移動する溶湯5に
よって、上記コイル29に生じるインダクタンス変化を
検出する一方、その検出信号を上記サーボ弁21や電磁
弁23に出力するインダクタンス検出手段30が設けら
れている。
上記インダクタンス検出手段3oはコイル29に接続さ
れるインダクタンス測定器32や、このインダクタンス
測定器32と、上記サーボ弁21や電磁弁23とを接続
させる制御コンピュータ33などにより構成されている
。なお、第1図中、35は磁力線である。
そして、上記低圧鋳造装置1は、制御コンピュータ33
に予めメモリーされたプログラムに従い次のように自動
制御されるようになっている。
即ち、鋳造の当初には、第2図中実線で示すように、る
つぼ3内に溶湯5が補給されており、この場合、密閉容
器2内は大気圧とされている。そして、このように密閉
容器2が大気圧であることから、溶湯面25は給湯管8
の内外において等レベルどなっている。
この状態から、電磁弁23が閉じられてサーボ弁21が
開かれる。すると、加圧ポンプ19により加圧された空
気20が密閉容器2内に送り込まれ、その圧力Pにより
、給湯管8外の溶湯面25が図中仮想線で示すように押
し下げられる。そして、給湯管8内の溶湯面25はこれ
とは逆に、給湯管8内を矢印Aで示すように押し上げら
れる。
この場合、上記サーボ弁21は大きく開けられており、
給湯管8内の溶湯面25は高速にて上昇する。
そして、この溶湯面25が同上図中仮想線で示すように
貫通孔10に達すると、コイル29にはインダクタンス
変化が生じ、これをインダクタンス検出手段30が検出
する一方、その検出信号を出力する。すると、この信号
を入力したサーボ弁21がその開度を狭めて、密閉容器
2内への空気20の送り込み速度を遅くさせる。このた
め、溶湯面25の上昇速度が緩やかとなり、この状態で
、溶湯面25が更に上昇して、溶湯5が乱れを生じない
で円滑に鋳型12のキャビティ15に注入される。この
場合、キャビティ15は外部と細い空気抜き孔で連通さ
れており、このキャビティ15に空気が残留することが
防止されている。
そして、上記キャビティ15が溶湯5で十分に満たされ
たとき、溶湯5が上記空気抜き孔に入り込むと共に、こ
こで凝固してこの孔が塞がれることとなっている。この
後、サーボ弁21は所定時間(例えば、約5分)開いた
ままとされて、溶湯5がキャビティ15内で加圧された
状態に保持される。次に、上記サーボ弁21力(閉じて
、上記加圧が停止され、このままの状態で、更に、所定
時間(例えば、約5分)保持され、この間に、キャビテ
ィ15と湯口16における各溶湯5が共に凝固し、キャ
ビティ15内で鋳物36が成形されることとなる。
そして、この後、電磁弁23が開かれて、密閉容器2内
の空気20が排気され、これに伴う減圧により、給湯管
8内の溶湯面25が下がり始める。そして、この溶湯面
25が貫通孔10に達すると、コイル29にはインダク
タンス変化が生じ、これを検出したインダクタンス検出
手段3゜の出力により、電磁弁23が閉じられる。する
と1図中仮想線で示すように、給湯管8内の溶湯面25
は貫通孔lOにおいて停止させられる。
上記状態で、図中矢印Bと、仮想線とで示すように上型
13を下型14から引き離し、キャビティ15において
成形された鋳物36が取り出される。そして、上記上型
13を再び元の位置に戻せば、サーボ弁21が開かれて
、再び、加圧された空気20が密閉容器2内に送り込ま
れ、溶湯面25は貫通孔10から上昇して、キャビティ
15に注入される。以下、上記作用が繰り返されて、鋳
物36が連続的に量産される。
そして、この鋳造のロットが終了するときには、溶湯面
25は電磁弁23の開弁により貫通孔10から下げられ
る。そして、密閉容器2内が大気の状態とされ、このロ
ットが終了する。
上記実施例によれば、鋳物36を連続的に量産するとき
、溶湯面25は貫通孔1oがらキャビティ15に向って
往復動するだけであって、給湯管8内を無駄に大きく上
下動することがない、このため、第1に、給湯管8の内
面には酸化物などの不純物が生じることが防止され、よ
って、溶湯5へのこれら不純物の巻き込みが防止される
。また、第2に、溶湯5の上下動が必要最小限に抑えら
れるため、溶湯5に乱れの生じることが防止され、その
分、鋳造欠陥の生じることが防止される。
更に、第3に、湯口16に近いところに溶湯面25が位
置しているため、この湯口16は常に溶湯5によって加
熱された状態にある。このため、この湯口16における
押し湯の凝固はキャビティ15における溶湯5に比べて
十分遅くできる。この結果、この湯口16に欠陥を集め
ることによって、鋳物36に鋳造欠陥の生じることを確
実に防止することができる。
なお、以上は図示の例によるが、るつぼ3はなくてもよ
く、密閉容器2に直接溶湯5を補給するようにしてもよ
い、また、コイル29は貫通孔10と同軸上に設ける必
要はなく、溶湯の通路の近傍に設けるようにしてもよい
(発明の効果) この発明によれば、耐火物で覆ったコイルを鋳造溶湯の
通路に対応させて設け、この通路における溶湯の移動に
よって、上記コイルに生じるインダクタンス変化を検出
する一方、その検出信号を出力するインダクタンス検出
手段を設けたため、第1に、コイルは耐火物で覆われて
いる。また、第2に、溶湯面の位置検出は、上記コイル
に生じるインダクタンス変化をインダクタンス検出手段
により検出することによりなされて、コイルが溶湯に直
接的に接することがない、よって、これら耐火物やコイ
ルにより構成される位置検出装置は、十分の耐熱性を保
持することとなって、耐久性の点で有益である。
また、上記したように位置検出装置は十分の耐熱性を有
することから、これは溶湯に十分遅づけることができる
。よって、その分、上記溶湯面の位置検出は高精度にな
されこととなる。
【図面の簡単な説明】
図はこの発明の実施例を示し、第1図は第2図の一部拡
大図に制御手段を線図で加えた図、第2図は低圧鋳造装
置の全体側面線図である。 l・・低圧鋳造装置、2・・密閉容器、5・溶湯、8・
・給湯管、lO・・貫通孔(溶湯の通路)、25・・溶
湯面、27・・位置検出装置、28・・耐火物、29・
・コイル、30・・インダクタンス検出手段。 第 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、耐火物で覆ったコイルを鋳造溶湯の通路に対応させ
    て設け、この通路を移動する溶湯によって、上記コイル
    に生じるインダクタンス変化を検出する一方、その検出
    信号を出力するインダクタンス検出手段を設けた鋳造溶
    湯面の位置検出装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006167777A (ja) * 2004-12-17 2006-06-29 Shinko Electric Co Ltd 固液界面検出装置、鋳造装置及び鋳造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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