JPH03188047A - 芳香族カルボン酸アリールエステル類の製造方法 - Google Patents
芳香族カルボン酸アリールエステル類の製造方法Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、芳香族カルボン酸アリールエステル類の製造
方法に関し、さらに詳しくは、フェノール類と芳香族カ
ルボン酸類とを反応させる芳香族カルボン酸アリールエ
ステル類の製造方法に関するものである。
方法に関し、さらに詳しくは、フェノール類と芳香族カ
ルボン酸類とを反応させる芳香族カルボン酸アリールエ
ステル類の製造方法に関するものである。
芳香族カルボン酸アリールエステル類は、染料、高分子
重合体、紫外線吸収剤、合成樹脂安定剤、発色剤、医薬
品などの中間体として極めて有用な物質である0例えば
ジフェニルテレフタレートなどの芳香族ジカルボン酸ジ
フェニルエステルなどは、ポリエステル樹脂などの製造
原料として非常に有用性の高い物質である。
重合体、紫外線吸収剤、合成樹脂安定剤、発色剤、医薬
品などの中間体として極めて有用な物質である0例えば
ジフェニルテレフタレートなどの芳香族ジカルボン酸ジ
フェニルエステルなどは、ポリエステル樹脂などの製造
原料として非常に有用性の高い物質である。
このような芳香族カルボン酸アリールエステル類を製造
する方法としては、従来、スズ、マンガンおよびコバル
ト等の金属の酸化物、水酸化物。
する方法としては、従来、スズ、マンガンおよびコバル
ト等の金属の酸化物、水酸化物。
酸素酸塩、カルボン酸塩、ハロゲン化物、フェノキシト
、アルコキシドなどの化合物を触媒として用いる方法(
特公昭46−23724号)、シリカ、アルミナ、酸性
白土およびゼオライトなどの固体酸触媒を触媒として使
用する方法(特開昭52−71433号)、SnOを触
媒として2段階で反応させる方法(特表昭57−501
031号)などが開示されている。
、アルコキシドなどの化合物を触媒として用いる方法(
特公昭46−23724号)、シリカ、アルミナ、酸性
白土およびゼオライトなどの固体酸触媒を触媒として使
用する方法(特開昭52−71433号)、SnOを触
媒として2段階で反応させる方法(特表昭57−501
031号)などが開示されている。
しかし、いずれも高温で反応を行うため、エステル化後
にフリース転位等の副反応が起りやすく、このため目的
の芳香族カルボン酸アリールエステル類の選択率が低く
、反応速度も遅いという問題点がある。
にフリース転位等の副反応が起りやすく、このため目的
の芳香族カルボン酸アリールエステル類の選択率が低く
、反応速度も遅いという問題点がある。
またフェノール類と芳香族カルボン酸類との反応の場合
、生成する芳香族カルボン酸アリールエステル中のジエ
ステルの生成率が低いという問題点がある。
、生成する芳香族カルボン酸アリールエステル中のジエ
ステルの生成率が低いという問題点がある。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明の目的は、上記問題点を解決するため、高温によ
る副反応を抑えて、目的とする芳香族カルボン酸アリー
ルエステル類の選択率および反応速度を向上させた芳香
族カルボン酸アリールエステル類を製造する方法を提案
することである。
る副反応を抑えて、目的とする芳香族カルボン酸アリー
ルエステル類の選択率および反応速度を向上させた芳香
族カルボン酸アリールエステル類を製造する方法を提案
することである。
本発明は1次の芳香族カルボン酸アリールエステル類の
製造方法である。
製造方法である。
(1)エステル化触媒の存在下に、フェノール類と芳香
族カルボン酸類とを反応させて芳香族カルボン酸アリー
ルエステル類を製造する方法において、白金族の金属ま
たはその化合物を共存させることを特徴とする芳香族カ
ルボン酸アリールエステル類の製造方法。
族カルボン酸類とを反応させて芳香族カルボン酸アリー
ルエステル類を製造する方法において、白金族の金属ま
たはその化合物を共存させることを特徴とする芳香族カ
ルボン酸アリールエステル類の製造方法。
(2)白金族の金属またはその化合物が水素処理された
ものである上記(1)記載の製造方法。
ものである上記(1)記載の製造方法。
(3)白金族の金属が白金、パラジウムまたはルテニウ
ムである上記(1)または(2)記載の製造方法。
ムである上記(1)または(2)記載の製造方法。
(4)エステル化触媒がスズ化合物である上記(1)な
いしく3)のいずれかに記載の製造方法。
いしく3)のいずれかに記載の製造方法。
(5)エステル化触媒が下記一般式[1]で表わされる
スズ化合物である上記(1)ないしく3)のいずれかに
記載の製造方法。
スズ化合物である上記(1)ないしく3)のいずれかに
記載の製造方法。
(式中、R1−R4はアルキル基またはアリール基を。
X”、X”はヒドロキシ基、アルコキシ基またはアリー
ロキシ基をそ九ぞれ示す。) 本発明で使用されるエステル化触媒としては、公知のエ
ステル化触媒が使用できる。エステル化触媒の具体的な
ものとしては、例えば前記一般式(1)で表わされるス
ズ化合物:スズ、マンガン、コバルト、アンチモン、チ
タン等の金属の酸化物、水酸化物、酸素酸塩、カルボン
酸塩、ハロゲン化物、フェノキシト、アルコキシド等の
化合物;シリカ、アルミナ、酸性白土およびゼオライト
等の固体酸触媒などをあげることができる。これらの中
ではスズ化合物、特に前記一般式[1]で表わされるス
ズ化合物が好ましい。
ロキシ基をそ九ぞれ示す。) 本発明で使用されるエステル化触媒としては、公知のエ
ステル化触媒が使用できる。エステル化触媒の具体的な
ものとしては、例えば前記一般式(1)で表わされるス
ズ化合物:スズ、マンガン、コバルト、アンチモン、チ
タン等の金属の酸化物、水酸化物、酸素酸塩、カルボン
酸塩、ハロゲン化物、フェノキシト、アルコキシド等の
化合物;シリカ、アルミナ、酸性白土およびゼオライト
等の固体酸触媒などをあげることができる。これらの中
ではスズ化合物、特に前記一般式[1]で表わされるス
ズ化合物が好ましい。
エステル化触媒は1種単独で使用することもできるし、
2種以上を混合して使用することもできる。
2種以上を混合して使用することもできる。
前記一般式[1)において、R1−R4で示されるアル
キル基としては炭素数1〜12のアルキル基が好ましく
、アリール基としては炭素数6〜12のアリール基が好
ましい。
キル基としては炭素数1〜12のアルキル基が好ましく
、アリール基としては炭素数6〜12のアリール基が好
ましい。
前記一般式〔■〕で表わされるスズ化合物の具体的なも
のとしては、例えば ((CH,hSn−ツ)zO5((C,)1.縞n−4
)、0、((C3H,±、5n−0@)、0、((C4
H,+25n−0@)20゜((> 5n−0@)、0
、 ((C)13)i−5n−OCH,)、01((czu
shsn−oco3)to、((C3Hv)TSn−O
CHi)zOl((C,H,)7Sn−OCH3)20
、((cuihsn−oczos)io−((CJsh
Sn−OCJs)zO1((C,+4,4Sn−OC2
H5)lo、 ((C4Hi二5n−OC2Hs)z
O−< (CH?−)−25n −OH) 20、((
c、u5hsn−oH)、o、((C3t+J、5n−
Of()、0、((C4HJ、5n−OH)、Ol((
> 5n−OCH3) z Ol((俤5n−OC2,
8s )20、((◎鴫りn−OH)20 などをあげることができる。
のとしては、例えば ((CH,hSn−ツ)zO5((C,)1.縞n−4
)、0、((C3H,±、5n−0@)、0、((C4
H,+25n−0@)20゜((> 5n−0@)、0
、 ((C)13)i−5n−OCH,)、01((czu
shsn−oco3)to、((C3Hv)TSn−O
CHi)zOl((C,H,)7Sn−OCH3)20
、((cuihsn−oczos)io−((CJsh
Sn−OCJs)zO1((C,+4,4Sn−OC2
H5)lo、 ((C4Hi二5n−OC2Hs)z
O−< (CH?−)−25n −OH) 20、((
c、u5hsn−oH)、o、((C3t+J、5n−
Of()、0、((C4HJ、5n−OH)、Ol((
> 5n−OCH3) z Ol((俤5n−OC2,
8s )20、((◎鴫りn−OH)20 などをあげることができる。
本発明ではエステル化触媒に白金族の金属またはその化
合物を共存させる。白金属の金属としては、ルテニウム
(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オ
スミウム(O5)、イリジウム(Ir)および白金(P
t)をあげることができる。
合物を共存させる。白金属の金属としては、ルテニウム
(Ru)、ロジウム(Rh)、パラジウム(Pd)、オ
スミウム(O5)、イリジウム(Ir)および白金(P
t)をあげることができる。
これらの白金族の金属の化合物としては、酸化物、錯化
物、塩化物、アセチルアセトネート塩などをあげること
ができる。
物、塩化物、アセチルアセトネート塩などをあげること
ができる。
上記白金族の金属またはその化合物はそのまま用いるこ
ともできるし、担体に担持して用いてもよい。担体とし
ては1例えば炭素、アルミナ、ゼオライト、グラファイ
ト、シリカ、酸化マグネシウム、クレー、硫酸バリウム
、炭酸カルシウムなどがあげられる。
ともできるし、担体に担持して用いてもよい。担体とし
ては1例えば炭素、アルミナ、ゼオライト、グラファイ
ト、シリカ、酸化マグネシウム、クレー、硫酸バリウム
、炭酸カルシウムなどがあげられる。
白金族の金属またはその化合物は、あらかじめ水素処理
したものを使用するのが好ましい。水素処理は水素ガス
の圧力がO〜100kg/d−G、好ましくは1〜50
kg/aJ−Gテ、処理温度が0〜300℃、好ましく
は5〜100℃、処理時間が0.001〜3時間、好ま
しくは0.01〜1時間の条件で行うのが望ましい。
したものを使用するのが好ましい。水素処理は水素ガス
の圧力がO〜100kg/d−G、好ましくは1〜50
kg/aJ−Gテ、処理温度が0〜300℃、好ましく
は5〜100℃、処理時間が0.001〜3時間、好ま
しくは0.01〜1時間の条件で行うのが望ましい。
白金族の金属またはその化合物としては、白金、炭素に
担持した白金、酸化白金、塩化白金酸、パラジウム、炭
素に担持したパラジウム、炭素に担持したルテニウム、
酸化ルテニウムなどが好ましく用いられる。
担持した白金、酸化白金、塩化白金酸、パラジウム、炭
素に担持したパラジウム、炭素に担持したルテニウム、
酸化ルテニウムなどが好ましく用いられる。
本発明で一方の原料として用いられるフェノール類は、
下記一般式[1)で表わすことができる。
下記一般式[1)で表わすことができる。
Ar’(OHL ・=(I[](式中
、 Ar’は芳香族化合物残基を示し、mは1以上の整
数を示す。) Ar”で示される芳香族化合物残基としては、置換また
は無置換のベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環
およびテトラリン環などがある。このAr” が置換さ
れている場合、この置換基または置換原子としては、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基、フ
ェノキシ基、アミノ基、アリール基、アルコキシカルボ
ニル基、フェノキシカルボニル基およびカルボキシル基
などがあげられる。mは1〜2が好ましい。
、 Ar’は芳香族化合物残基を示し、mは1以上の整
数を示す。) Ar”で示される芳香族化合物残基としては、置換また
は無置換のベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環
およびテトラリン環などがある。このAr” が置換さ
れている場合、この置換基または置換原子としては、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アルコキシ基、フ
ェノキシ基、アミノ基、アリール基、アルコキシカルボ
ニル基、フェノキシカルボニル基およびカルボキシル基
などがあげられる。mは1〜2が好ましい。
前記一般式〔■〕で表わされるフェノール類の具体的な
例としてはフェノール、0yllyP−クレゾール5カ
テコール、レゾルシノール ピロガロール、o,lIl,p−クロロフェノール、3
,5−キシレノール、2,6−キシレノール、園,ρー
アミノフェノール、O+1+P−メトキシフェノール、
α,β−ナフトール、2,6−ナフタレンジオール、α
,β−アントロール、ジヒドロキシジフェニルエーテル
、ビスフェノールAおよびビフェノールなどをあげるこ
とができる。
例としてはフェノール、0yllyP−クレゾール5カ
テコール、レゾルシノール ピロガロール、o,lIl,p−クロロフェノール、3
,5−キシレノール、2,6−キシレノール、園,ρー
アミノフェノール、O+1+P−メトキシフェノール、
α,β−ナフトール、2,6−ナフタレンジオール、α
,β−アントロール、ジヒドロキシジフェニルエーテル
、ビスフェノールAおよびビフェノールなどをあげるこ
とができる。
これらのフェノール類は単独で、または組合せて使用す
ることができる。
ることができる。
また、本発明で他方の原料として用いられる芳香族カル
ボン酸類は、下記一般式〔■〕で表わすことができる。
ボン酸類は、下記一般式〔■〕で表わすことができる。
A r2)COOH)、、・−(町
(式中、Ar”は芳香族化合物残基を示し、nは1以上
の整数を示す。) Ar”で示される芳香族化合物残基としては、置換また
は無置換のベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環
およびテトラリン環などがある。このAr” が置換さ
れている場合、この置換基または置換原子としては,ハ
ロゲン原子、ニトロ基,アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基、フェノキシ基、アミノ基,アリール基、ア
ルコキシカルボニル基およびフェノキシカルボニル基な
どがあげられる.nとしては1〜2が好ましい。
の整数を示す。) Ar”で示される芳香族化合物残基としては、置換また
は無置換のベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環
およびテトラリン環などがある。このAr” が置換さ
れている場合、この置換基または置換原子としては,ハ
ロゲン原子、ニトロ基,アルキル基、アルコキシ基、ヒ
ドロキシ基、フェノキシ基、アミノ基,アリール基、ア
ルコキシカルボニル基およびフェノキシカルボニル基な
どがあげられる.nとしては1〜2が好ましい。
前記一般式[1[1]で表わされる芳香族カルボン酸類
の例としては安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、P−アミ
ノ安息香酸、2,4−ジクロロ安息香酸、p−t−ブチ
ル安息香酸、ベンゾイル安息香酸、サリチル酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ビフェニルジカルボ
ン酸、ナフトエ酸、 β−ナフトエ酸、ナフタレンジカ
ルボン酸およびアントラニル酸ならびにこれらの可能な
酸無水物および塩などをあげることができる。
の例としては安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、P−アミ
ノ安息香酸、2,4−ジクロロ安息香酸、p−t−ブチ
ル安息香酸、ベンゾイル安息香酸、サリチル酸、フタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ビフェニルジカルボ
ン酸、ナフトエ酸、 β−ナフトエ酸、ナフタレンジカ
ルボン酸およびアントラニル酸ならびにこれらの可能な
酸無水物および塩などをあげることができる。
さらに、芳香族カルボン酸類は、上記に示した化合物以
外に、本発明の製造方法における反応の進行を阻害しな
い限り、カルボン酸基以外の置換基を1個または2個以
上有していてもよい。
外に、本発明の製造方法における反応の進行を阻害しな
い限り、カルボン酸基以外の置換基を1個または2個以
上有していてもよい。
これらの芳香族カルボン酸類は単独で、または組合せて
使用することができる。
使用することができる。
反応に使用されるエステル化触媒、白金族の金属または
その化合物および原料のモル比は、芳香族カルボン酸類
に対してエステル化触媒が1×10−’ 〜I X 1
0−”、0マL < jet I Xl0−’ 〜1
xlO−”白金族の金属またはその化合物がlXl0−
’〜lX102、好まシくハlX10′″s〜1×10
、フェノール類が0.1〜100、好ましくは1〜50
が望ましい。
その化合物および原料のモル比は、芳香族カルボン酸類
に対してエステル化触媒が1×10−’ 〜I X 1
0−”、0マL < jet I Xl0−’ 〜1
xlO−”白金族の金属またはその化合物がlXl0−
’〜lX102、好まシくハlX10′″s〜1×10
、フェノール類が0.1〜100、好ましくは1〜50
が望ましい。
前記一般式(II)で表わされるフェノール類と、前記
一般式(m)で表わされる芳香族カルボン酸類とを反応
させて芳香族カルボン酸アリールエステル類を製造する
方法は下記反応式(IV)で表わされる。
一般式(m)で表わされる芳香族カルボン酸類とを反応
させて芳香族カルボン酸アリールエステル類を製造する
方法は下記反応式(IV)で表わされる。
且・Ar1−(OH)+Ar2−(COoH)。
m 1
→(HOOC祐Ar”−+COOAr’)9+ qH,
0=(IV)(式中、Ar”、Ar”、m、nは式(U
)、〔■〕と同じものを示し、p、qはOまたは1以上
の整数を示し・p + q = nである。) 上記反応式(mV)で表わされる反応の例としては、下
記反応式(V)、(VIIで表わされるものがある。
0=(IV)(式中、Ar”、Ar”、m、nは式(U
)、〔■〕と同じものを示し、p、qはOまたは1以上
の整数を示し・p + q = nである。) 上記反応式(mV)で表わされる反応の例としては、下
記反応式(V)、(VIIで表わされるものがある。
(ΣOH+HO,C−(ΣCo、H→
HO,Cべ◇−coべ◇+H,O・・・(V)2・(X
oH+ HOっCぺ◇べO,H→0o−c→くgΣ)
CotΩ+2H,O・・・(VII反応は無溶媒で行う
こともできるが、反応溶媒として有機溶媒を用いること
もできる。溶媒としては、水と混和せず、しかも水と共
沸混合物を形成することができる有機溶媒を使用するこ
とが好ましい。このような有機溶媒としては1例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレンおよびメシチレン等の芳香
族化合物:ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、デカ
リンおよびデカン等の脂肪族化合物;クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンおよびブロモベンゼン等の芳香族ハロ
ゲン化合物などをあげることができる。
oH+ HOっCぺ◇べO,H→0o−c→くgΣ)
CotΩ+2H,O・・・(VII反応は無溶媒で行う
こともできるが、反応溶媒として有機溶媒を用いること
もできる。溶媒としては、水と混和せず、しかも水と共
沸混合物を形成することができる有機溶媒を使用するこ
とが好ましい。このような有機溶媒としては1例えばベ
ンゼン、トルエン、キシレンおよびメシチレン等の芳香
族化合物:ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、デカ
リンおよびデカン等の脂肪族化合物;クロロベンゼン、
ジクロロベンゼンおよびブロモベンゼン等の芳香族ハロ
ゲン化合物などをあげることができる。
反応は温度が通常100〜400℃、好ましくは150
〜350℃、圧力が通常減圧ないし加圧状態で、時間が
通常10分〜40時間、好ましくは30分〜20時間行
う。
〜350℃、圧力が通常減圧ないし加圧状態で、時間が
通常10分〜40時間、好ましくは30分〜20時間行
う。
以上のように反応させることにより、従来の製造方法に
比べ副反応が少なく、目的とする芳香族カルボン酸アリ
ールエステル類、特に芳香族ジカルボン酸ジアリールエ
ステル類を選択性よく製造することができ、しかも反応
速度が向上する。
比べ副反応が少なく、目的とする芳香族カルボン酸アリ
ールエステル類、特に芳香族ジカルボン酸ジアリールエ
ステル類を選択性よく製造することができ、しかも反応
速度が向上する。
上記の反応においては、未反応の芳香族カルボン酸類が
残り、精製が困難な場合がある。またテレフタル酸、イ
ソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸類を原料とした場
合、前記反応7式(IV)に示すように、中間体である
芳香族カルボン酸モノアリールエステル類が反応物中に
残って、蒸留などの方法により最終生成物である芳香族
ジカルボン酸ジアリールエステル類を分離精製するのが
困難な場合がある。
残り、精製が困難な場合がある。またテレフタル酸、イ
ソフタル酸などの芳香族ジカルボン酸類を原料とした場
合、前記反応7式(IV)に示すように、中間体である
芳香族カルボン酸モノアリールエステル類が反応物中に
残って、蒸留などの方法により最終生成物である芳香族
ジカルボン酸ジアリールエステル類を分離精製するのが
困難な場合がある。
そこで上記の反応後、エステル化触媒および白金族の金
属またはその化合物の存在下または非存在下に、同種の
ジアリールカーボネートを添加して加熱することにより
、ジアリールカーボネートと未反応の芳香族カルボン酸
類および芳香族カルボン酸モノエステル類とが反応し、
目的とする芳香族カルボン酸アリールエステル類が生成
する。
属またはその化合物の存在下または非存在下に、同種の
ジアリールカーボネートを添加して加熱することにより
、ジアリールカーボネートと未反応の芳香族カルボン酸
類および芳香族カルボン酸モノエステル類とが反応し、
目的とする芳香族カルボン酸アリールエステル類が生成
する。
このとき前記反応系に残留しているエステル化触媒およ
び白金族の金属またはその化合物をそのまま利用するこ
ともできる。
び白金族の金属またはその化合物をそのまま利用するこ
ともできる。
上記ジアリールカーボネートは下記一般式〔■〕で表わ
すことができる。
すことができる。
A r’Oco、A r” °°°
〔■〕(式中、Ar1は式(n)と同じものを示す。)
このときのジアリールカーボネートの配合モル比は、未
反応の芳香族カルボン酸類に対して1〜10、好ましく
は1.1〜3である。前記一般式〔■〕において、2個
のAr”は同様のものが好ましい。この反応は無溶媒で
行うこともできるが、前記反応で使用した溶媒をそのま
ま利用することもできる。
〔■〕(式中、Ar1は式(n)と同じものを示す。)
このときのジアリールカーボネートの配合モル比は、未
反応の芳香族カルボン酸類に対して1〜10、好ましく
は1.1〜3である。前記一般式〔■〕において、2個
のAr”は同様のものが好ましい。この反応は無溶媒で
行うこともできるが、前記反応で使用した溶媒をそのま
ま利用することもできる。
反応は温度が通常100〜400℃、好ましくは150
〜350℃で、5分〜20時間、好ましくは10分〜5
時間行う。
〜350℃で、5分〜20時間、好ましくは10分〜5
時間行う。
上記第1段および第2段の反応は液相法および気相法の
いずれの方法をも採用することができる。
いずれの方法をも採用することができる。
反応方式は、液相法を採用した場合には、例えば回分法
、半回分法などの通常の反応法のほか、管型反応法など
の連続法を採用することもでき、また気相法を採用した
場合には、例えば固定床法および流動層法などの反応法
を採用することができる。
、半回分法などの通常の反応法のほか、管型反応法など
の連続法を採用することもでき、また気相法を採用した
場合には、例えば固定床法および流動層法などの反応法
を採用することができる。
また、本発明においては、第1段および第2段の反応の
際に生成する水を系外に除去しながら反応を行うことが
好ましく、この際、水を反応溶媒または原料のフェノー
ル類と共に共沸混合物として反応系外に除去することに
より、エステル類の生成率が向上する。
際に生成する水を系外に除去しながら反応を行うことが
好ましく、この際、水を反応溶媒または原料のフェノー
ル類と共に共沸混合物として反応系外に除去することに
より、エステル類の生成率が向上する。
上記のようにして反応を行った後、蒸留法、晶析法およ
び抽出法などの公知の方法を採用することにより芳香族
カルボン酸アリールエステル類を得ることができる。
び抽出法などの公知の方法を採用することにより芳香族
カルボン酸アリールエステル類を得ることができる。
本発明の製造方法により得ることができる芳香族カルボ
ン酸アリールエステル類の具体的な例としては、安息香
酸フェニル、ジフェニルテレフタレート、モノフェニル
テレフタレート、安息香酸ナフトール、ジフェニルイソ
フタレート、ナフタレンジカルボン酸ジフェニルエステ
ルおよびジフェニルジカルボン酸ジフェニルエステルな
どをあげることができる。
ン酸アリールエステル類の具体的な例としては、安息香
酸フェニル、ジフェニルテレフタレート、モノフェニル
テレフタレート、安息香酸ナフトール、ジフェニルイソ
フタレート、ナフタレンジカルボン酸ジフェニルエステ
ルおよびジフェニルジカルボン酸ジフェニルエステルな
どをあげることができる。
本発明によれば、エステル化触媒の存在下に、フェノー
ル類と芳香族カルボン酸類とを反応させて芳香族カルボ
ン酸アリールエステル類を製造する方法において、白金
族の金属またはその化合物を共存させるようにしたので
、目的とする芳香族カルボン酸アリールエステル類を高
選択率で、しかも高反応速度で製造することができる。
ル類と芳香族カルボン酸類とを反応させて芳香族カルボ
ン酸アリールエステル類を製造する方法において、白金
族の金属またはその化合物を共存させるようにしたので
、目的とする芳香族カルボン酸アリールエステル類を高
選択率で、しかも高反応速度で製造することができる。
次に本発明の実施例について説明する。
実施例1
テレフタル酸(以下、TAと略す)2.5g、フェノ(
以下、DPDSと略す) 0.025g、および室温に
おいて20kg/−・Gの水素圧で5分間水素処理した
直径1膳朧の白金線2.5gを50IQのオートクレー
ブに入れ、260℃で2時間加圧下に反応させた。
以下、DPDSと略す) 0.025g、および室温に
おいて20kg/−・Gの水素圧で5分間水素処理した
直径1膳朧の白金線2.5gを50IQのオートクレー
ブに入れ、260℃で2時間加圧下に反応させた。
反応終了後、反応液中のTA、モノフェニルテレフタレ
ート(以下、MPTと略す)、 ジフェニルテレフタレ
ート(以下、DPTと略す)の量を液体クロマトグラフ
ィー(検出器UV270nm)で分析し、下記計算式に
より反応成績を算出した。結果を表1に示す。
ート(以下、MPTと略す)、 ジフェニルテレフタレ
ート(以下、DPTと略す)の量を液体クロマトグラフ
ィー(検出器UV270nm)で分析し、下記計算式に
より反応成績を算出した。結果を表1に示す。
TA反応率(モル%)
DPT選択率(モル%)
実施例2
白金線の代わりに、炭素に5重量%の白金を担持させた
pt/c (日本エンゲルハルト(株)製)3園gを用
いた以外は実施例1と同様に行った。結果を表1に示す
。
pt/c (日本エンゲルハルト(株)製)3園gを用
いた以外は実施例1と同様に行った。結果を表1に示す
。
実施例3
Pt/Cを水素処理しないで用いた以外は実施例2と同
様に行った。結果を表1に示す。
様に行った。結果を表1に示す。
実施例4
白金線の代わりに、炭素に5重量%のパラジウムを担持
させたPd/C(日本エンゲルハルト(株)製)10■
gを用いた以外は実施例1と同様に行った。結果を表1
に示す。
させたPd/C(日本エンゲルハルト(株)製)10■
gを用いた以外は実施例1と同様に行った。結果を表1
に示す。
実施例5
Pd/Cを水素処理しないで用いた以外は実施例4と同
様に行った。結果を表1に示す。
様に行った。結果を表1に示す。
実施例6
白金線に代わりに、酸化白金pto、 (和光紬薬工業
(株)製)1■gを用いた以外は実施例1と同様に行っ
た。結果を表1に示す。
(株)製)1■gを用いた以外は実施例1と同様に行っ
た。結果を表1に示す。
実施例7
実施例6において、酸化白金を水素処理しないで同様の
反応を行った。結果を表1に示す。
反応を行った。結果を表1に示す。
実施例8
酸化白金の代わりに、塩化白金酸H2PtCQG・6H
20(和光紬薬工業(株)製)の2重量%水溶液0.0
3mQを用いた以外は実施例7と同様に行った。結果を
表1に示す。
20(和光紬薬工業(株)製)の2重量%水溶液0.0
3mQを用いた以外は実施例7と同様に行った。結果を
表1に示す。
実施例9
白金線の代わりに、炭素に5重量%のルテニウムを担持
させたRIJ/C(日本エンゲルハルト(株)製)3m
gを用いた以外は実施例1と同様に行った。結果を表1
に示す。
させたRIJ/C(日本エンゲルハルト(株)製)3m
gを用いた以外は実施例1と同様に行った。結果を表1
に示す。
実施例10
酸化白金の代わりに、酸化ルテニウムRub2(日本エ
ンゲルハルト(株)製)3mgを水素処理しないで実施
例7と同様の反応を行った。結果を表1に示す。
ンゲルハルト(株)製)3mgを水素処理しないで実施
例7と同様の反応を行った。結果を表1に示す。
実施例11
DPDSの代わりに、ジブチル酸化スズBu、SnO(
和光紬薬工業(株)製、化学用) 18mgを用いた以
外は実施例1と同様に行った。結果を表1に示す。
和光紬薬工業(株)製、化学用) 18mgを用いた以
外は実施例1と同様に行った。結果を表1に示す。
比較例1
白金線を添加しなかった以外は実施例1と同様に行った
。結果を表1に示す。
。結果を表1に示す。
Claims (5)
- (1)エステル化触媒の存在下に、フェノール類と芳香
族カルボン酸類とを反応させて芳香族カルボン酸アリー
ルエステル類を製造する方法において、白金族の金属ま
たはその化合物を共存させることを特徴とする芳香族カ
ルボン酸アリールエステル類の製造方法。 - (2)白金族の金属またはその化合物が水素処理された
ものである請求項(1)記載の製造方法。 - (3)白金族の金属が白金、パラジウムまたはルテニウ
ムである請求項(1)または(2)記載の製造方法。 - (4)エステル化触媒がスズ化合物である請求項(1)
ないし(3)のいずれかに記載の製造方法。 - (5)エステル化触媒が下記一般式〔 I 〕で表わされ
るスズ化合物である請求項(1)ないし(3)のいずれ
かに記載の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・〔 I 〕 (式中、R^1〜R^4はアルキル基またはアリール基
を、X^1、X^2はヒドロキシ基、アルコキシ基また
はアリーロキシ基をそれぞれ示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1328057A JPH03188047A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 芳香族カルボン酸アリールエステル類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1328057A JPH03188047A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 芳香族カルボン酸アリールエステル類の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03188047A true JPH03188047A (ja) | 1991-08-16 |
Family
ID=18206032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1328057A Pending JPH03188047A (ja) | 1989-12-18 | 1989-12-18 | 芳香族カルボン酸アリールエステル類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03188047A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7378210B2 (en) | 2004-05-14 | 2008-05-27 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic toner and manufacturing method thereof, polyester resin for electrophotographic toner and manufacturing method thereof, electrophotographic developer and image forming method |
US7420020B2 (en) | 2004-05-14 | 2008-09-02 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Resin particles and producing method thereof, toner for developing electrostatic latent image and producing method thereof, electrostatic latent image developer as well as image forming method |
-
1989
- 1989-12-18 JP JP1328057A patent/JPH03188047A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7378210B2 (en) | 2004-05-14 | 2008-05-27 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Electrophotographic toner and manufacturing method thereof, polyester resin for electrophotographic toner and manufacturing method thereof, electrophotographic developer and image forming method |
US7420020B2 (en) | 2004-05-14 | 2008-09-02 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Resin particles and producing method thereof, toner for developing electrostatic latent image and producing method thereof, electrostatic latent image developer as well as image forming method |
US7619041B2 (en) | 2004-05-14 | 2009-11-17 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Resin particles and producing method thereof, toner for developing electrostatic latent image and producing method thereof, electrostatic latent image developer as well as image forming method |
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