JPH03161986A - 半導体レーザモジュール - Google Patents
半導体レーザモジュールInfo
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- JPH03161986A JPH03161986A JP30091289A JP30091289A JPH03161986A JP H03161986 A JPH03161986 A JP H03161986A JP 30091289 A JP30091289 A JP 30091289A JP 30091289 A JP30091289 A JP 30091289A JP H03161986 A JPH03161986 A JP H03161986A
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- Japan
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- semiconductor laser
- light
- laser
- fabry
- resonator
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 59
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 17
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000000368 destabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
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- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4201—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
- G02B6/4204—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms
- G02B6/4207—Packages, e.g. shape, construction, internal or external details the coupling comprising intermediate optical elements, e.g. lenses, holograms with optical elements reducing the sensitivity to optical feedback
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、光通信に用いられる半導体レーザモジュール
に関する。
に関する。
(従来の技術)
従来、光通信に用いることができる半導体レーザモジュ
ールとして第6図に示すものがある。
ールとして第6図に示すものがある。
第6図で1は半導体レーザであり、発振波長(発振周波
数)を制御することができる。この半導体レーザ1の図
中左側より出射された光100は、光学レンズ2,3を
介して光ファイバ4に集光される。また半導体レーザ1
の図中右側より出射された光101は、光学レンズ5に
より平行光に変換されたのちビームスプリツタ6で2方
向に分岐される。分岐された一方の光は、光学レンズ7
を介しフォトダイオード11に集光される。他方の光は
ファブリペロー共振器9に入射される。
数)を制御することができる。この半導体レーザ1の図
中左側より出射された光100は、光学レンズ2,3を
介して光ファイバ4に集光される。また半導体レーザ1
の図中右側より出射された光101は、光学レンズ5に
より平行光に変換されたのちビームスプリツタ6で2方
向に分岐される。分岐された一方の光は、光学レンズ7
を介しフォトダイオード11に集光される。他方の光は
ファブリペロー共振器9に入射される。
ファブリペロー共振器9を透過した光の光強度は、第7
図に示すような自由スペクトル間隔C/2nL(C:光
速,n:ファブリペロー共振器中の屈折率,L:ファブ
リペロー共振器の共振器長)を周期として繰り返す特性
をもつ。
図に示すような自由スペクトル間隔C/2nL(C:光
速,n:ファブリペロー共振器中の屈折率,L:ファブ
リペロー共振器の共振器長)を周期として繰り返す特性
をもつ。
よって光学レンス10を介したフォトダイオド8の出力
値は、光の周波数によって変化する事がわかる。従って
フォトダイオード8の出力とフォl・ダイオード11の
出力の比を測定すれば、半導体レーザ1の発振波長を知
ることができる。この半導体レーザ1の発振波長を制御
するには、前記2つのフォ1・ダイオード8,11の出
力値の比から半導体レーザ1の発振波長を測定し、半導
体レーザ1の温度または半導体レーサ1に注入する注入
電流を変化させることにより、欲する波長に制御する。
値は、光の周波数によって変化する事がわかる。従って
フォトダイオード8の出力とフォl・ダイオード11の
出力の比を測定すれば、半導体レーザ1の発振波長を知
ることができる。この半導体レーザ1の発振波長を制御
するには、前記2つのフォ1・ダイオード8,11の出
力値の比から半導体レーザ1の発振波長を測定し、半導
体レーザ1の温度または半導体レーサ1に注入する注入
電流を変化させることにより、欲する波長に制御する。
しかしながら、上記した従来の半導体レーザモジュール
では、次のような問題が生じていた。第8図,第9図を
用いてその問題について説明する。
では、次のような問題が生じていた。第8図,第9図を
用いてその問題について説明する。
第8図及び第9図は、第6図の半導体レーザ1,光学レ
ンズ5及びファブリペロー共振器9の端面12の部分を
拡大した図である(ビームスプリッ夕6は図示せず)。
ンズ5及びファブリペロー共振器9の端面12の部分を
拡大した図である(ビームスプリッ夕6は図示せず)。
半導体レーザ1はレーサステム14上のサブマウン1・
15にマウントされており、]6は半導体レーザの活性
層てある。第8図に示すように、ファブリペロー共振器
の共振器端面12が゛14導体レーザ1からの光101
に対して垂直の場合、その反射光が半導体レーザ1の活
性層16のA点に直接戻り、レーザの発振周波数や発振
レーザ光の強度等の不安定化の原因となっていた。
15にマウントされており、]6は半導体レーザの活性
層てある。第8図に示すように、ファブリペロー共振器
の共振器端面12が゛14導体レーザ1からの光101
に対して垂直の場合、その反射光が半導体レーザ1の活
性層16のA点に直接戻り、レーザの発振周波数や発振
レーザ光の強度等の不安定化の原因となっていた。
また、第9図(a)に示すように、ファブリペローノ(
振器を光に対して傾けて設置した場含、反射レーザ光1
02はサブマウント15の端而のB点に戻る。B点に戻
った光は第9図(b)に示すようにB点で反射し、その
先103はファブリベロー共振器端面12で再び反射さ
れる。共振器端面12で反射され、半導体レーサ1の方
向に向かう光〕04は、第9図(C)に斜線て示すよう
に半導体レーザ4の活性層16のA点に戻る。
振器を光に対して傾けて設置した場含、反射レーザ光1
02はサブマウント15の端而のB点に戻る。B点に戻
った光は第9図(b)に示すようにB点で反射し、その
先103はファブリベロー共振器端面12で再び反射さ
れる。共振器端面12で反射され、半導体レーサ1の方
向に向かう光〕04は、第9図(C)に斜線て示すよう
に半導体レーザ4の活性層16のA点に戻る。
この様に、半導体レーザ1からの光がファブリペロー共
振器端面12で反射され、サブマウン1・15端而に反
射光が戻った場合、反射を繰り返して再び半導体レーサ
1の活性層Aに戻ってしまう、これが発振周波数や発振
レーザ光の強度等の不安定化の原因となっていた。
振器端面12で反射され、サブマウン1・15端而に反
射光が戻った場合、反射を繰り返して再び半導体レーサ
1の活性層Aに戻ってしまう、これが発振周波数や発振
レーザ光の強度等の不安定化の原因となっていた。
一方、ファブリペロー共振器は傾けるほど共振器を透過
する光量が減少し、フィネスが劣化する。
する光量が減少し、フィネスが劣化する。
従って、傾ける角度が大きいほど周波数検出用モニタで
ある光検出器に入射する光量が減り、周波数安定化に際
し、不利であった。
ある光検出器に入射する光量が減り、周波数安定化に際
し、不利であった。
(発明が解決しようとする課題)
上述した様に、従来の半導体レーザモジュールにあって
は、ファブリペロー共振器からの反目・{光が半導体レ
ーザの活性層に戻り、発振周波数等の不安定化をもたら
す原因の一つとなっていた。
は、ファブリペロー共振器からの反目・{光が半導体レ
ーザの活性層に戻り、発振周波数等の不安定化をもたら
す原因の一つとなっていた。
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、ファブ
リペロー共振器の透過光量の減少を最少限にとどめ、フ
ァブリペロー共振器からの反射光が、半導体レーザの活
性層に戻らないようファブリベロー共振器の端面を傾け
て設置することにより、発振周波数等の安定を保持する
ことができる圭導5 体レーザモジュールを提供することを11的とする。
リペロー共振器の透過光量の減少を最少限にとどめ、フ
ァブリペロー共振器からの反射光が、半導体レーザの活
性層に戻らないようファブリベロー共振器の端面を傾け
て設置することにより、発振周波数等の安定を保持する
ことができる圭導5 体レーザモジュールを提供することを11的とする。
[発明の構或]
(課題を解決するための手段)
上記目的を達或するために本発明の゛1′.導体レーザ
モジュールは、発振波長が制御可能な゛1′.導体レー
ザと、前記半導体レーザから出射された光を検出する光
検出器と、前記半導体レーザから出射された光が、前記
半導体レーザ端而あるいは前記レーザがマウントされた
サブマウン1・端面に戻らないように端面が傾けて設置
されたファブリペロー共振器とにより構威される。
モジュールは、発振波長が制御可能な゛1′.導体レー
ザと、前記半導体レーザから出射された光を検出する光
検出器と、前記半導体レーザから出射された光が、前記
半導体レーザ端而あるいは前記レーザがマウントされた
サブマウン1・端面に戻らないように端面が傾けて設置
されたファブリペロー共振器とにより構威される。
(作 用)
半導体レーザの一方から出力される光はファブリペロー
共振器に入射される。入射される光のうち共振器端面て
反射する光が前記」(導体レーザの活性層及び前記レー
ザのザブマウントの端而に戻らず、前記半導体レーザが
マウントされている側と反対側の空間に戻るよう前記フ
ァブリペロ共振器が傾けて設置されていることにより、
反射光が再びレーザ活性層に入射せずレーザの発振周6 波数の不安定化か防11される。
共振器に入射される。入射される光のうち共振器端面て
反射する光が前記」(導体レーザの活性層及び前記レー
ザのザブマウントの端而に戻らず、前記半導体レーザが
マウントされている側と反対側の空間に戻るよう前記フ
ァブリペロ共振器が傾けて設置されていることにより、
反射光が再びレーザ活性層に入射せずレーザの発振周6 波数の不安定化か防11される。
(実施例)
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図は、本発明の半導体レーサモジュールの第1の実
施例の構成を示す図である。
施例の構成を示す図である。
第1図で、前記第6図と同一部分には同一符号を付し、
各部分の詳しい説明は省略する。
各部分の詳しい説明は省略する。
第1図で半導体レーザ1はレーサステム14」二のサブ
マウン1・]5にマウントされている。半導体レーザ1
の一方から出射された光101は、ビムスブリツタで分
岐され、分岐された一方のレーザ光は、ファブリベロー
共振器9に入射される。
マウン1・]5にマウントされている。半導体レーザ1
の一方から出射された光101は、ビムスブリツタで分
岐され、分岐された一方のレーザ光は、ファブリベロー
共振器9に入射される。
このファブリペロー共振器9は第1図に示すように、共
振器端面12,i.3か人射レーザ光に対して垂直でな
く傾いて設置されている。ファブリペロー共振器9を透
過した光は光学レンズ]Oを透過して第1の光検出器1
7に検出される。第1の光検出器]7と第2の光検出器
18の出力は、制御器(図示せず)に人力され、ここで
両者の出力の比かとられ、この出力比より半導体レーザ
1の発振波長(発振周波数)を測定し、半導体レーザ1
の温度または注入電流を変化させて欲する波長に制御す
る。
振器端面12,i.3か人射レーザ光に対して垂直でな
く傾いて設置されている。ファブリペロー共振器9を透
過した光は光学レンズ]Oを透過して第1の光検出器1
7に検出される。第1の光検出器]7と第2の光検出器
18の出力は、制御器(図示せず)に人力され、ここで
両者の出力の比かとられ、この出力比より半導体レーザ
1の発振波長(発振周波数)を測定し、半導体レーザ1
の温度または注入電流を変化させて欲する波長に制御す
る。
次に、ファブリベロー共振器の端面を第1図のように傾
けたときの作用について第2図を用いて説明する。第2
図は、第1図の半導体レーザ1と光学レンズ5及びファ
ブリベロー共振器端面12を拡大した図でビームスブリ
ッタ6は簡titのため省略する。第2図でファブリペ
ロー共振器端而12で反射する反射光105は共振器端
而が傾いていることにより、半導体レーザ1の端而及び
半導体レーザ1のマウン1・されているサブマウント1
5の端而には戻らず、モジュール内の半導体レーザ1の
マウントされている側と反対側の空間に戻る。 ファブ
リペロー共振器を傾ける角度θ1は■式で示される。
けたときの作用について第2図を用いて説明する。第2
図は、第1図の半導体レーザ1と光学レンズ5及びファ
ブリベロー共振器端面12を拡大した図でビームスブリ
ッタ6は簡titのため省略する。第2図でファブリペ
ロー共振器端而12で反射する反射光105は共振器端
而が傾いていることにより、半導体レーザ1の端而及び
半導体レーザ1のマウン1・されているサブマウント1
5の端而には戻らず、モジュール内の半導体レーザ1の
マウントされている側と反対側の空間に戻る。 ファブ
リペロー共振器を傾ける角度θ1は■式で示される。
θ+>d+/2f ・・・・・・・・・・・・
■ここでd,は第2図に示す半導体レーザ1」二面から
活性層16までの距離を示す。またfは光学レンズの焦
点距離を示す。
■ここでd,は第2図に示す半導体レーザ1」二面から
活性層16までの距離を示す。またfは光学レンズの焦
点距離を示す。
ファブリペロー共振器の端面を■式に示ずθ,たけ傾け
ることにより、反射レーサ光105はモジュール内の半
導体1ノーザのマウントされている側と反対側の空間に
戻るため、半導体レーザの端而あるいは→ノ゛ブマウン
1・端面には戻らない。
ることにより、反射レーサ光105はモジュール内の半
導体1ノーザのマウントされている側と反対側の空間に
戻るため、半導体レーザの端而あるいは→ノ゛ブマウン
1・端面には戻らない。
この場合、d,は非常に小さいので、傾ける角度θ,は
小さくて済む。従って、共振器を透過する光量の大幅な
減少やフィネスの劣化は生じない。
小さくて済む。従って、共振器を透過する光量の大幅な
減少やフィネスの劣化は生じない。
また、第3図に示すようにファブリペローj(振器の端
面の傾ける向きを第1図とは逆の向きに傾けてもよい。
面の傾ける向きを第1図とは逆の向きに傾けてもよい。
その場合、傾ける角度θ2は■式に示すようになる。
θt>d2/2f ・・・・・・・・・・・・ ■
ここで、d2は第3図に示すように、半導体レザ1の活
性層16からザブマウン1・15のF 而までの距離を
示す。この場合、ファブリペロー共振9 器端而12での反+11レーザ光106はサブマウント
15端面より下部に戻り、半導体レーザ1端而あるいは
サブマウント15端而には戻らない。
ここで、d2は第3図に示すように、半導体レザ1の活
性層16からザブマウン1・15のF 而までの距離を
示す。この場合、ファブリペロー共振9 器端而12での反+11レーザ光106はサブマウント
15端面より下部に戻り、半導体レーザ1端而あるいは
サブマウント15端而には戻らない。
尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、第
4図及び第5図に示すように半導体レザのマウント位置
がそれぞれ変わってもその都度ファブリペロー共振器の
端而を傾けて共振器端面での反射レーザ光が半導体レー
ザ端而あるいはサブマウント端面に戻らないようにすれ
ばよい。
4図及び第5図に示すように半導体レザのマウント位置
がそれぞれ変わってもその都度ファブリペロー共振器の
端而を傾けて共振器端面での反射レーザ光が半導体レー
ザ端而あるいはサブマウント端面に戻らないようにすれ
ばよい。
以上述べてきた実施例は第1図に示すようにファブリペ
ロー共振器の端面を傾けた場合であるが、ファブリペ口
ー』(振器全体を所定の角度傾けて設置してよいことは
言うまでもない。また、本モジュールに用いられるファ
ブリペロー共振器はとのような形体のものでもよい。
ロー共振器の端面を傾けた場合であるが、ファブリペ口
ー』(振器全体を所定の角度傾けて設置してよいことは
言うまでもない。また、本モジュールに用いられるファ
ブリペロー共振器はとのような形体のものでもよい。
また、本発明の実施例は、」一記した様な2つの光検出
器を用いた波長検出系のみに眼られるものではない。例
えばファブリペロー共振器の共振器長を交流信号で変調
し、」(振器を透過した光を検出器で受光し、この受光
信号と前記交流信号とを1 0 同期検波することにより波長の誤差信号を得るものに対
しても適用可能である。
器を用いた波長検出系のみに眼られるものではない。例
えばファブリペロー共振器の共振器長を交流信号で変調
し、」(振器を透過した光を検出器で受光し、この受光
信号と前記交流信号とを1 0 同期検波することにより波長の誤差信号を得るものに対
しても適用可能である。
[発明の効果]
以上詳述した様に、本発明の半導体レーザモジュールは
、レーザ光が入射するファブリペロ共振器の端面が、こ
のレーザ光に対して傾いているので、反射したレーザ光
が半導体レーザの端面及びサブマウン1・の端面に戻ら
ず、透過光量の減少を最少限にしてしかもフィネスを劣
化させずに半導体レーザの周波数安定化を図ることがで
きる。
、レーザ光が入射するファブリペロ共振器の端面が、こ
のレーザ光に対して傾いているので、反射したレーザ光
が半導体レーザの端面及びサブマウン1・の端面に戻ら
ず、透過光量の減少を最少限にしてしかもフィネスを劣
化させずに半導体レーザの周波数安定化を図ることがで
きる。
第1図は本発明の半導体レーザモジュールの実施例の構
成を示す図,第2図及び第3図はファブリペロー共振器
端面を傾けた場合の反射光の方向を示す図,第4図及び
第5図は本発明の他の実施例に用いられる半導体レーザ
のサブマウント部分の拡大図,第6図は従来の半導体レ
ーザモジュールの構戒を示す図,第7図はファブリペロ
ー共振器の周波数に対する透過光強度を示す図,第8図
及び第9図は、ファブリベロー共振器からの反11 射光が半導体レーザに戻ることを説明する図である。 1・・・半導体レーザ、2,3,5,7.1 0−..
光学レンズ、4・・・光ファイバ、6・・・ビームスプ
リツタ、9・・・ファブリペロー共振器、12,1.3
・・・ファブリペロー共振器端面、14・・・レーザス
テム、15・・・サブマウント、16・・・活性層、1
7.18・・・光検出器。
成を示す図,第2図及び第3図はファブリペロー共振器
端面を傾けた場合の反射光の方向を示す図,第4図及び
第5図は本発明の他の実施例に用いられる半導体レーザ
のサブマウント部分の拡大図,第6図は従来の半導体レ
ーザモジュールの構戒を示す図,第7図はファブリペロ
ー共振器の周波数に対する透過光強度を示す図,第8図
及び第9図は、ファブリベロー共振器からの反11 射光が半導体レーザに戻ることを説明する図である。 1・・・半導体レーザ、2,3,5,7.1 0−..
光学レンズ、4・・・光ファイバ、6・・・ビームスプ
リツタ、9・・・ファブリペロー共振器、12,1.3
・・・ファブリペロー共振器端面、14・・・レーザス
テム、15・・・サブマウント、16・・・活性層、1
7.18・・・光検出器。
Claims (2)
- (1)発振波長を制御できる半導体レーザと、前記半導
体レーザより出射される光が集光される光ファイバと、
前記半導体レーザより出射された光が入射されるファブ
リペロー共振器と、前記ファブリペロー共振器を透過し
た光が検出される光検出器とを具備し、前記ファブリペ
ロー共振器は、前記共振器の端面で反射する光が前記半
導体レーザ及び前記レーザがマウントされているサブマ
ウント端面に戻らないように傾けて設置されていること
を特徴とする半導体レーザモジュール。 - (2)前記ファブリペロー共振器は、その端面で反射す
る光が、前記半導体レーザのマウントしてある側と反対
側の空間に戻るように傾けて設置されていることを特徴
とする請求項1記載の半導体レーザモジュール。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30091289A JPH03161986A (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 半導体レーザモジュール |
GB9006980A GB2231713B (en) | 1989-03-30 | 1990-03-28 | Semiconductor laser apparatus |
US07/501,045 US4998256A (en) | 1989-03-30 | 1990-03-29 | Semiconductor laser apparatus |
GB9316180A GB2268323B (en) | 1989-03-30 | 1993-08-04 | Semiconductor laser apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30091289A JPH03161986A (ja) | 1989-11-21 | 1989-11-21 | 半導体レーザモジュール |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03161986A true JPH03161986A (ja) | 1991-07-11 |
Family
ID=17890626
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30091289A Pending JPH03161986A (ja) | 1989-03-30 | 1989-11-21 | 半導体レーザモジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03161986A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010050137A (ja) * | 2008-08-19 | 2010-03-04 | Nec Corp | 光モジュール、それを用いた光通信装置及び反射光路設定方法 |
WO2012056813A1 (ja) * | 2010-10-28 | 2012-05-03 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 干渉計およびフーリエ変換分光分析装置 |
-
1989
- 1989-11-21 JP JP30091289A patent/JPH03161986A/ja active Pending
Cited By (4)
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