JPH03157918A - マスクホルダー - Google Patents
マスクホルダーInfo
- Publication number
- JPH03157918A JPH03157918A JP29786789A JP29786789A JPH03157918A JP H03157918 A JPH03157918 A JP H03157918A JP 29786789 A JP29786789 A JP 29786789A JP 29786789 A JP29786789 A JP 29786789A JP H03157918 A JPH03157918 A JP H03157918A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- plate
- dry plate
- groove
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract description 5
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract description 3
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- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
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- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体集積回路の分野において用いられる電
子ビーム露光装置において、フォトマスクを保持するた
めに用いられるマスクホルダーに関するものである。
子ビーム露光装置において、フォトマスクを保持するた
めに用いられるマスクホルダーに関するものである。
従来の技術
近年、フォトマスクの製造において電子ビーム露光装置
が広く用いられるようになってきた。
が広く用いられるようになってきた。
電子ビーム露光装置を用いてマスクパターン描画を行う
場合に、マスク乾板はマスクホルダーと呼ばれる治具に
装着されて露光装置の真空室内に送り込まれる。
場合に、マスク乾板はマスクホルダーと呼ばれる治具に
装着されて露光装置の真空室内に送り込まれる。
以下に、従来のマスクホルダーについて説明スる。
第５図（ａｌ （ｂｌは従来のマスクホルダーを示す平
面図および断面図である。第５図（ａｔ （ｂ）におい
て、マスク乾板１上にクロム層２が設けられ、さらにマ
スク乾板１のクロム層２の１にレジスト層３が塗布され
ている。ホルダー４には土面規制板５が設けられ、また
、棒６が上面規制板５と接近島間可能に設けられている
。マスク乾板１を上面規制板５に固定するため、スプリ
ング７で棒６を押し上げて棒６の先端と上面規制板５と
の間でマスク乾板１をはさんで固定する。さらに、１面
規制板５には針８が取り付けられており、パターン精度
の劣化の要因となるマスク乾板１上への電荷の蓄積を防
止するために、この針８をレジスト層３１ｃｌ［通させ
てクロム層２と接触させ、マスク乾板上の電荷を逃がす
ようにしている。このように構成されたマスクホルダー
は、スプリング７により棒６を押し上げることにより、
マスク乾板１を上面規制板３に押しつけて固定するもの
である。
面図および断面図である。第５図（ａｔ （ｂ）におい
て、マスク乾板１上にクロム層２が設けられ、さらにマ
スク乾板１のクロム層２の１にレジスト層３が塗布され
ている。ホルダー４には土面規制板５が設けられ、また
、棒６が上面規制板５と接近島間可能に設けられている
。マスク乾板１を上面規制板５に固定するため、スプリ
ング７で棒６を押し上げて棒６の先端と上面規制板５と
の間でマスク乾板１をはさんで固定する。さらに、１面
規制板５には針８が取り付けられており、パターン精度
の劣化の要因となるマスク乾板１上への電荷の蓄積を防
止するために、この針８をレジスト層３１ｃｌ［通させ
てクロム層２と接触させ、マスク乾板上の電荷を逃がす
ようにしている。このように構成されたマスクホルダー
は、スプリング７により棒６を押し上げることにより、
マスク乾板１を上面規制板３に押しつけて固定するもの
である。
発明が解決しようとする課題
このように、従来のマスクホルダーは、マスク乾板１を
上面規制板５に下から棒６で押し付けることにより固定
している。しかし、上記従来のマスクホルダーでは、マ
スク乾板１の上面規制板５′に隠れた部分にはパターン
の描画ができず、描画可能な面積が小さくなるという問
題があった。
上面規制板５に下から棒６で押し付けることにより固定
している。しかし、上記従来のマスクホルダーでは、マ
スク乾板１の上面規制板５′に隠れた部分にはパターン
の描画ができず、描画可能な面積が小さくなるという問
題があった。
本発明は上記従来の問題を解決するもので、マスク乾板
のほぼ全面にパターン描画が可能で、かつマスク乾板を
確実に固定し、またマスク乾板との電気的導通の確保が
できるマスクホルダーヲ提供することを目的とするもの
である。
のほぼ全面にパターン描画が可能で、かつマスク乾板を
確実に固定し、またマスク乾板との電気的導通の確保が
できるマスクホルダーヲ提供することを目的とするもの
である。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するために本発明のマスクホルダーは、
マスク乾板側面に嵌合可能な波状の７字溝を有する固定
具と、前記固定具を前記マスク乾板側面側に付勢して前
記固定具の７字溝を介して前記マスク乾板を固定するス
プリングとを備えたものである。
マスク乾板側面に嵌合可能な波状の７字溝を有する固定
具と、前記固定具を前記マスク乾板側面側に付勢して前
記固定具の７字溝を介して前記マスク乾板を固定するス
プリングとを備えたものである。
作用
上記構成によって、スプリングが固定具をマスク乾板側
面に付勢して固定具の７字溝を介してマスク乾板を固定
するので、マスク乾板は確実に固ることか可能となる。
面に付勢して固定具の７字溝を介してマスク乾板を固定
するので、マスク乾板は確実に固ることか可能となる。
さらに、スプリングが固定具の波状の７字溝の山の部分
を介してマスク乾板の側面のクロム層を押し付けるので
、マスク乾板との電気的導通が確保されてマスク乾板玉
への電荷の蓄積が防止される。
を介してマスク乾板の側面のクロム層を押し付けるので
、マスク乾板との電気的導通が確保されてマスク乾板玉
への電荷の蓄積が防止される。
実施例
以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
明する。
第１図（ａ） （ｂｌは本発明の一実施例におけるマス
クホルダーを示す平面図および断面図であり、従来例と
同一の作用効果を奏するものには同一の符号を付してそ
の説明を省略する。第１図１ａＨｂｌにおいて、固定具
１１はマスク乾板１の一方の側面中央部に波状の７字溝
により嵌合してマスク乾板１を固定している。また、固
定具１２はマスク乾板１の他方の側面側に嵌合可能な波
状の７字溝を有している。また、スプリング１３は固定
具１２のＶ字溝全弁して固定具１１の７字溝側にマスク
乾板１の側面を付勢して、固定具１１．１２の７字溝で
はさんでマスク乾板１を固定している。また、第２図は
、第１図における固定具１２とマスク乾板１の接触部分
の拡大図である。第２図において、Ｖ字溝１２ａは固定
具１２に波状に掘られた波状部１２ｂ を有している。
クホルダーを示す平面図および断面図であり、従来例と
同一の作用効果を奏するものには同一の符号を付してそ
の説明を省略する。第１図１ａＨｂｌにおいて、固定具
１１はマスク乾板１の一方の側面中央部に波状の７字溝
により嵌合してマスク乾板１を固定している。また、固
定具１２はマスク乾板１の他方の側面側に嵌合可能な波
状の７字溝を有している。また、スプリング１３は固定
具１２のＶ字溝全弁して固定具１１の７字溝側にマスク
乾板１の側面を付勢して、固定具１１．１２の７字溝で
はさんでマスク乾板１を固定している。また、第２図は
、第１図における固定具１２とマスク乾板１の接触部分
の拡大図である。第２図において、Ｖ字溝１２ａは固定
具１２に波状に掘られた波状部１２ｂ を有している。
以上のように構成されたマスクホルダーについて、以下
にその動作を説明するら固定具１２のＶ字溝１２ａはス
プリング１３によりマスク乾板１の側面に押し付けられ
ている。マスク乾板ｌの側面は固定具１１．１２の７字
溝にはまり、マスク乾板１はホルダー４に固定される。
にその動作を説明するら固定具１２のＶ字溝１２ａはス
プリング１３によりマスク乾板１の側面に押し付けられ
ている。マスク乾板ｌの側面は固定具１１．１２の７字
溝にはまり、マスク乾板１はホルダー４に固定される。
このときに、７字型に掘られた７字溝の波状になった山
の部分が、クロム層２の端部と接触することによりマス
ク乾板１とマスクホルダー４との電気的導通を確保して
いる。
の部分が、クロム層２の端部と接触することによりマス
ク乾板１とマスクホルダー４との電気的導通を確保して
いる。
第１図１ａｌおよび第１図１ａｌ＆見れば明らかなよう
に、本発明の一実施例によるマスクホルダーは、上面規
制板５が無いため、マスク乾板１の固定具１１．１２に
よって隠れる部分は縮小されマスク乾板１のほぼ全面に
マスクパターンの描画が可能である。特に、マスク乾板
１の端に描画しなければならないことの多い、縮小投影
装置用の位置合わせマークパターンなどの描画が容易と
なる。
に、本発明の一実施例によるマスクホルダーは、上面規
制板５が無いため、マスク乾板１の固定具１１．１２に
よって隠れる部分は縮小されマスク乾板１のほぼ全面に
マスクパターンの描画が可能である。特に、マスク乾板
１の端に描画しなければならないことの多い、縮小投影
装置用の位置合わせマークパターンなどの描画が容易と
なる。
第３図（ａｔ （ｂｌは、固定具１１．１２ （Ｄ ７
字溝を波状にした場合と直線状にした場合のマスク乾板
１とホルダー４との間における電気抵抗の度数分布を示
している。第３図（ａｌは波型の７字溝の場合、第３図
（ｂ）は直線状の７字溝の場合である。第３図（ａｌ
（ｂｌを見れば明らかなように、７字溝を波状とするこ
とで、マスク乾板１とホルダー４間で電気的導通がより
確実にとれることがわかる。
字溝を波状にした場合と直線状にした場合のマスク乾板
１とホルダー４との間における電気抵抗の度数分布を示
している。第３図（ａｌは波型の７字溝の場合、第３図
（ｂ）は直線状の７字溝の場合である。第３図（ａｌ
（ｂｌを見れば明らかなように、７字溝を波状とするこ
とで、マスク乾板１とホルダー４間で電気的導通がより
確実にとれることがわかる。
第４図は、本発明の一実施例によるマスクホルダート従
来のマスクホルダーにおいて、固定具１１゜１２または
上面規制板５により隠れたためマスク乾板１上にマスク
パターンが描画できない部分の面積と、その描画できな
い部分がマスク乾板１の端からどれだけの距離まで及ん
でいるかを示した図である。第４図を見れば明らかなよ
うに、本発明の一実施例によるマスクホルダーのものは
、従来のものに比べてマスク乾板１王の描画可能な面積
が大きく、また、マスク乾板１の端に近い部分までマス
クパターンの描画が可能である。
来のマスクホルダーにおいて、固定具１１゜１２または
上面規制板５により隠れたためマスク乾板１上にマスク
パターンが描画できない部分の面積と、その描画できな
い部分がマスク乾板１の端からどれだけの距離まで及ん
でいるかを示した図である。第４図を見れば明らかなよ
うに、本発明の一実施例によるマスクホルダーのものは
、従来のものに比べてマスク乾板１王の描画可能な面積
が大きく、また、マスク乾板１の端に近い部分までマス
クパターンの描画が可能である。
発明の効果
以上のように本発明によれば、波型のＶ字溝を持つ固定
具をマスク乾板の側面からスプリングにより押し付け、
マスク乾板をｖ字溝にはめ込み固定することにより、マ
スク乾板を確実に固定できることはもちろん、従来のよ
うな上面規制板が必要なくなるため、マスク乾板のほぼ
全面にマスクパターンの描画が可能で、しかも乾板との
電気的４！４９保される優れたマスクホルダーを実現す
ることができるものである。
具をマスク乾板の側面からスプリングにより押し付け、
マスク乾板をｖ字溝にはめ込み固定することにより、マ
スク乾板を確実に固定できることはもちろん、従来のよ
うな上面規制板が必要なくなるため、マスク乾板のほぼ
全面にマスクパターンの描画が可能で、しかも乾板との
電気的４！４９保される優れたマスクホルダーを実現す
ることができるものである。
第１図（ａ）ｉｂｌば本発明の一実施例によるマスクホ
ルダーを示す平面図および断面図、第２図は第１図に示
す本発明の一実施例によるマスクホルダーの固定具およ
び固定具により固定されるマスク乾板部の拡大斜視図、
第３図ｆａ） （ｂｌは本発明の一実施例におケルマス
クホルダーにおいて、固定具のＶ字溝の形状を波状にし
た場合と直線状にした場合とのマスク乾板とマスクホル
ダーとの間の電気抵抗の度数分布図、第４図はマスク乾
板上にマスクパターンが描画できない部分の大きさおよ
び描画できない部分のマスク乾板の端部からの最大距離
を示した図、第５図（ａｌ ｌｂｌは従来のマスクホル
ダーを示す平面図および断面図である。 １・・・マスク乾板、 １１．１２・・・固定具、１
２ａ・・・Ｖ字溝、１２ｂ・・・波状部、１３・・・ス
プリング。 代坤人 森 本 義 弘 第３ 図 第４ 図 第５図
ルダーを示す平面図および断面図、第２図は第１図に示
す本発明の一実施例によるマスクホルダーの固定具およ
び固定具により固定されるマスク乾板部の拡大斜視図、
第３図ｆａ） （ｂｌは本発明の一実施例におケルマス
クホルダーにおいて、固定具のＶ字溝の形状を波状にし
た場合と直線状にした場合とのマスク乾板とマスクホル
ダーとの間の電気抵抗の度数分布図、第４図はマスク乾
板上にマスクパターンが描画できない部分の大きさおよ
び描画できない部分のマスク乾板の端部からの最大距離
を示した図、第５図（ａｌ ｌｂｌは従来のマスクホル
ダーを示す平面図および断面図である。 １・・・マスク乾板、 １１．１２・・・固定具、１
２ａ・・・Ｖ字溝、１２ｂ・・・波状部、１３・・・ス
プリング。 代坤人 森 本 義 弘 第３ 図 第４ 図 第５図
Claims (1)
- １、マスク乾板側面に嵌合可能な波状のＶ字溝を有する
固定具と、前記固定具を前記マスク乾板側面側に付勢し
て前記固定具のＶ字溝を介して前記マスク乾板を固定す
るスプリングとを備えたマスクホルダー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29786789A JPH03157918A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | マスクホルダー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29786789A JPH03157918A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | マスクホルダー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03157918A true JPH03157918A (ja) | 1991-07-05 |
Family
ID=17852162
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29786789A Pending JPH03157918A (ja) | 1989-11-16 | 1989-11-16 | マスクホルダー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03157918A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6900878B2 (en) * | 2002-08-05 | 2005-05-31 | Nikon Corporation | Reticle-holding pods and methods for holding thin, circular reticles, and reticle-handling systems utilizing same |
-
1989
- 1989-11-16 JP JP29786789A patent/JPH03157918A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6900878B2 (en) * | 2002-08-05 | 2005-05-31 | Nikon Corporation | Reticle-holding pods and methods for holding thin, circular reticles, and reticle-handling systems utilizing same |
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