JPH03156848A - 走査型電子顕微鏡 - Google Patents

走査型電子顕微鏡

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JPH03156848A
JPH03156848A JP1294893A JP29489389A JPH03156848A JP H03156848 A JPH03156848 A JP H03156848A JP 1294893 A JP1294893 A JP 1294893A JP 29489389 A JP29489389 A JP 29489389A JP H03156848 A JPH03156848 A JP H03156848A
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JP
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gas
electron
sample
sample chamber
secondary electron
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JP1294893A
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English (en)
Inventor
Mamoru Nakasuji
護 中筋
Kenji Morita
憲司 守田
Hiroyasu Shimizu
弘泰 清水
Shohei Suzuki
正平 鈴木
Shintaro Kawada
河田 眞太郎
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は電子線照射に伴い試料表面より放出された2次
電子を増倍し2次電子検出電極によって検出するように
した走査型電子顕微鏡に関するものである。
[従来の技術] 従来から、電子銃より出た電子線を電子光学系および偏
向器を経て試料に照射し、その照射面より放出された2
次電子を2次電子検出電極によって検出するようにした
走査型電子顕微鏡においては、前記試料室内に低圧ガス
を送り込み、このガス分子に前記2次電子を衝突させて
増倍することにより、大きな出力を得るようにしている
。この2次電子増倍用ガスとしては2次電子増倍係数の
大きい水蒸気ガスが用いられている。
[発明が解決しようとする課題] ところで、走査型電子顕微鏡の2次電子検出電極とかア
パーチャは非常に汚れ易く、−度汚れると、−旦鏡筒内
の真空を落として新しいものと交換するか若しくは掃除
していた。そのため、その作業が面倒であり、また交換
若しくは掃除後、真空ポンプによって筐体内を真空排気
し、再度高い真空度にするには時間がかかる。さらにま
た、アパーチャに関しては電子線を走査してクリニング
することも行われてはいるが、この方法はアパーチャの
上面、すなわち電子銃側の面のみに限られ、試料側の下
面まではクリニングすることができないという欠点を有
している。
したがって、本発明はこのような従来の問題点に鑑みて
なされたもので、その目的とするところは、2次電子の
増倍効果大で、しかも鏡筒の真空を落とすことなくアパ
ーチャの上下面および2次電子検出電極を効果的にクリ
ニングし得るようにした走査型電子顕微鏡を提供するこ
とにある。
U課題を解決するための手段] 本発明は上記目的を達成するためになされたもので、そ
の第1の目的は、電子銃からの電子線を電子光学系及び
偏向器を通して、気体のコンダクタンスの小さいアパー
チャから気体の導入されている試料室内の試料に入射さ
せると共に、前記試料室内に、前記試料より射出された
2次電子を検出する2次電子検出電極を設けた走査型電
子顕微鏡において、前記試料室内に導入される気体とし
て酸素ガスあるいは酸素を主成分とするガスを用いたも
のである。
また、第2の発明は、前記2次電子検出電極に放電を起
こすに十分な電圧を印加する電源装置を設け、放電によ
って鏡筒白金属部品をクリニングしたものである。
また、第3の発明は、!素ガスの放電最低電圧より高い
電圧を2次電子検出電極に印加し、試料室圧力を最も放
電し易い圧力より低圧側の放電を起こさない圧力に制御
するガス導入制御装置を設けたものである。
[作用コ 2次電子増倍用ガスに要求される性質としては、■放電
電圧が高く、高いバイアス電圧を2次電子検出電極に印
加できること、 ■電子と衝突した時にイオン−電子生成確率が高いこと
、 ■小さいpa積(試料室の圧力pと、試料−2次電子検
出電極間距wldの積)で2次電子増倍作用が最大にな
ること、等が挙げられる。
そこで、N20.0□、N2、N2、A、、。
等のガスを比較すると、上記0項に対しては、N20が
最も良く、550■程度の放電電圧を持っている0次い
で02で450Vの放電電圧、N2、N2、Ne、A、
He等では300■とされる。
■項のイオン−電子生成確率については02はAに次い
で2番目によい生成確率を有する。0項のdp積につい
ては、02  : 4. 1m54orr、空気:6、
 Om[Torr 、 N2 : 6.3mm4orr
 +H2:12mm4orr +A : 20mm°T
orr +N2 : 40+m4orr 、H20:〜
10 朋4orrで、02が最もよい。
以上の点から0□はN20と同様、2次電子増倍用ガス
に適しているといえる。また、2次電子検出電極に放電
を起こすに十分な電圧を印加すると、02は2次電子検
出電極等に付着した汚れをスパッタリングし、クリニン
グ作用を発揮する。
この時、アパーチャの試料室側の面がクリニングされる
ガス導入制御装置によって酸素ガスあるいは酸素を主成
分とするガスの分圧をハイドロカーボンの分圧よりも大
きくすると、ハイドロカーボンからのカーボンが付着す
る速度より602ガスによるカーボンのスッパタ速度が
大きくなりクリニング効果は増大する。
[実施例] 以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説明
する。
第1図は本発明に係る走査型電子顕微鏡の一実施例を示
す概略構成図である。同図において、走査型電子顕微鏡
は、コンデンサレンズ2、ビーム偏向コイル(偏向器)
3および対物レンズ4を含む鏡筒1と、電子銃6を有し
て前記鏡筒1の上に設けられた電子銃室5と、試料8が
載置される試料台9と2次電子検出電極10を有して前
記鏡筒1の下に設けられた試料室7とを備えている。
鏡筒1と電子銃室5との境、鏡筒1の途中及びM筒1と
試料室7との境にはそれぞれ気体のコンダクタンスの小
さい圧力制限アパーチャ11.12.13が設けられ、
個々独立に真空排気されるように構成されている。
この場合、鏡筒1のアパーチャ12より上の室14はイ
オンポンプ15によって真空排気され、アパーチャ11
の下面側においてI X 10−’Torr、アパーチ
ャ12の上面側においてI X L O−’Torrと
される。一方、鏡筒1のアパーチャ12.13間の室1
6はターボ分子ボン117によって真空排気され、アパ
ーチャ12の下面側において約IX 10−4Torr
、アパーチャ13の上面側において約Q、1Torrと
される。また、この室16にはバルブ18の切替操作に
よって02ガスの供給源(図示せず)に接続されるよう
に構成されている。
電子銃室15はイオンポンプ20によって真空排気され
、アパーチャ11の上面側においてIX 10−9To
rrとされる。
試料室7はバルブ21を介して02ガスの供給源(ガス
導入制御装置)22に接続されて02ガス〈あるいは0
2を主成分とするガス)の供給を受けると同時に、バル
ブ23を介してロータリポンプ24に接続され真空排気
されることにより、ESEM(Environment
al  Scanning  Etectron  M
icroscope)動作に最適な圧力(数Torr)
に制御されている。
したがって、長時間使用時に汚れが発生するのは2次電
子検出電極10と圧力制限アパーチャ13の上下面とさ
れる。
2次電子検出電fi10は絶縁材料からなるスペーサ2
6を介して試料室7内に配設され、スイッチ27.28
の切替操作によってクリニング用電源2つと増幅器30
に選択的に接続されるように構成されている。そして、
増幅器30は表示装置31に接続されている。
なお、32は絶縁材料からなるスペーサである。
このような構成において、試料8の観察に際しては前記
各ポンプ15.17.20.24によって鏡筒1、電子
銃室5および試料室7内を真空排気し、上記値の真空度
に設定保持する。この時、試料室7には02ガス供給源
22より0□ガスが供給される。そして、2次電子検出
電極10はスイッチ28によって増幅器30に接続され
、スイッチ28はOFFとされる。
電子jI6から放射された電子線は、アパーチャ11.
12.13を通って試料室7に入射する際、コンデンサ
レンズ2と対物レンズ4によって細く絞られ、ビーム偏
向コイル3によって偏向されることで試料8の表面を走
査する。電子線を試料表面に照射すると、試料表面から
2次電子が放出され、この2次電子は試料室7内の0□
ガス分子と衝突して増倍され、2次電子検出電極10に
よって検出され電気信号に変換される。そして、2次電
子検出電極10による検出信号は増幅器30によってさ
らに増幅され、表示装置31に波形やSEM像として表
示される。
この場合、02ガスは上記した通り2次電子増倍作用を
有し、H20ガスを用いた場合と同程度のS/N比の画
像が得られる。また、カーボンが付着する速度よりも酸
素ガスによりカーボンがスッパヴタエッチされる速度が
速いため試料表面を汚す恐れがない。
2次電子検出電極10およびアパーチャ13が試料8や
装置内壁面から放出された分子や粒子さらには真空排気
時の空気やオイル中に含まれている各種分子や粒子によ
って汚染された場合は、バルブ21を開いて試料室7内
に02ガスを供給してその圧力をクリニングに適した圧
力まで上昇させると共に、スイッチ27をONにしてス
イッチ28をクリニング用電源29側に切替え、2次電
子検出電極10に放電を起こすに十分な電圧を一定時間
印加すればよい、電圧の印加方向は被りリニング物であ
る2次電子検出電極10とアパーチャ13に02ガスの
イオンが入射する方向あるいは交番電圧とされる。この
時、o2ガスの分圧をクリニングすべきハイドロカーボ
ンの分圧より大きく設定すると、クリニング効果を増大
させることができる。また、o2ガスによるクリニング
は、電圧印加のみで行えるため、−旦真空を落とす必要
がなく、作業が簡単で、しかもH20ガスに比べてクリ
ニング効果が大きく遥かに長時間クリニングの必要がな
いと云う利点を有する。
第2図は放電電圧の(圧力) (距離)積(pd槓)依
存性であるPa5chenの曲線とESEMの動作条件
(圧力)(試料−2次電子検出電極間距w1)積と、2
次電子検出電極10に与えるバイアス電圧との関係を示
す図である。同図において、AはH20ガスを用いた場
合の従来のESEMの動作条件、Bは0□ガスを用いた
場合の本発明の動作条件、Cは本発明での放電によるク
リユング時の動作条件をそれぞれ示す。
この図から明らかなように、02ガスを従来のH20ガ
スの代わりに2次電子増倍用ガスとして使用すると、放
電電圧が小さくなるが、動作電圧を第2図に示したよう
に高真空側にずらすことによって放電電圧を上昇させ、
大きいバイアス電圧での使用が可能である。
なお、アパーチャ13の上面をクリニングする場合は、
バルブ18を開いて鏡筒1の下室16内に02ガス若し
くは02ガスを主成分とするガスを導入して2次電子検
出電極10に高電圧を印加し、放電を起こさせるか、電
子線でアパーチャ上面を走査すればよい。
[発明の効果コ 以上説明したように本発明に係る走査型電子顕微鏡によ
れば、従来の水蒸気ガスの代わりに酸素ガスまたは酸素
ガスを主成分とするガスを試料室内に導入するようにし
たので、2次電子増倍効果とクリニング効果に優れ、特
に水蒸気ガスと比較して長時間の使用に耐え、また真空
を落としたりすることなく、ガスの圧力変化と放電電圧
の印加のみで2次電子検出電極とアパーチャのクリニン
グが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る走査型電子顕微鏡の一実施例を示
す概略構成図、第2図は放電電圧のく圧力)(距離)積
(ρd積)依存性であるPa5chenの曲線とESE
Mの動作束#(圧力)(試料−2次電子検出電極間距離
)積と2次電子検出を極10に与えるバイアス電圧との
関係を示す図である。 1・・・鏡筒、2・・・コンデンサレンズ、3・・・ビ
ーム偏向コイル、4・・・対物レンズ、5・・・電子銃
室、6・・・電子銃、7・・・試料室、8・・・試料、
10・・・2次電子検出電極、11.12.13・・・
アパーチャ、29・・・クリニング用電源。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電子銃からの電子線を電子光学系及び偏向器を通
    して、気体のコンダクタンスの小さいアパーチャから気
    体の導入されている試料室内の試料に入射させると共に
    、前記試料室内に、前記試料より射出された2次電子を
    検出する2次電子検出電極を設けた走査型電子顕微鏡に
    おいて、 前記試料室内に導入される気体として酸素ガスあるいは
    酸素を主成分とするガスを用いたことを特徴とする走査
    型電子顕微鏡。
  2. (2)電子銃からの電子線を電子光学系及び偏向器を通
    して、気体のコンダクタンスの小さいアパーチャから気
    体の導入されている試料室内の試料に入射させると共に
    、前記試料室内に、前記試料より射出された2次電子を
    検出する2次電子検出電極を設けた走査型電子顕微鏡に
    おいて、 前記2次電子検出電極に放電を起こすに十分な電圧を印
    加する電源装置を設け、試料室あるいは鏡筒内に酸素ガ
    スを導入し、放電によつて鏡筒内金属部品をクリニング
    するたことを特徴とする走査型電子顕微鏡。
  3. (3)請求項1記載の走査型電子顕微鏡において、酸素
    ガスの放電最低電圧より高い電圧を2次電子検出電極に
    印加し、試料室圧力を最も放電し易い圧力より低圧側の
    放電を起こさない圧力に制御するガス導入制御装置を設
    けたことを特徴とする走査型電子顕微鏡。
JP1294893A 1989-11-15 1989-11-15 走査型電子顕微鏡 Pending JPH03156848A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011003426A (ja) * 2009-06-19 2011-01-06 Jeol Ltd 電子顕微鏡

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011003426A (ja) * 2009-06-19 2011-01-06 Jeol Ltd 電子顕微鏡

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