JPH03155507A - 光学部品の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は１つ又はそれ以上の光路（ｏｐｔｉｃａｌ　ｐ
ａｔｈ）が材料の本体（ｂｏｄｙ）内に形成されている
、一体型（ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ　ｔｙｐｅ）の光学部
品（ｏｐｔｉｃａｌ　ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ）に関する。

光路により、例えば光ファイバーの間の連結が提供され
得る；かかる光路を有する材料の本体は、光ファイバー
を連結して、該光ファイバーを光路に沿って整列させる
のに適している。

この形式の光学部品は周知であり、これを製造するため
の種々の方法が考案されている；例えばＰｒｏｃｅｅｄ
ｉｎｇｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ
　５ｏｃｉｅｔｙ　ｆｏｒＯｐｔｉｃａｌ　Ｅｎｇｉｎ
ｅｅｒｉｎｇ、第４巻”Ｍｉｃｒｏ−Ｏｐｔｉｃｓ”（
１９８ｇ）に掲載される下記の報文参照：Ｕ、ＩＩｏｌ
ｌｅｎｂａｃｋ他“Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ　ｏｐｔｉｃ
ａｌ　ｒｅｆｒａｃ−ｔｉｖｅ　１ｎｄｅｘ　５ｅｎｓ
ｏｒ　ｂｙ　ｉｏｎ−ｅｘｃｈａｎｇｅ　ｉｎ　ｇｌａ
ｓｓ”；１’１．７Ｊｕｒｒａｙ他“Ｃｏｍｍａｎｄ　
ｃｕｒｅ　ｐｒｅｃｉｓｉｏｎ　ｉｎ　ｏｐ−ｔｉｃｓ
”； Ｒ，Ｋ１５ｉｎ他“Ｃｈａｒｇｅ　ｃｏｎｔｒｏｌｌｅ
ｄ　ｉｏｎ　ｅｘｃｈａｎｇｅ−ａ　　ｗａｙ　　ｔｏ
　　ｒｅｐｒｏｄｕｃｉｂｌｅ　　ｆａｂｒｉｃａｔｉ
ｏｎ　　ｏｆ　　ｉｎｔｅ−ｇｒａｔｅｄ　ｏｐｔｉｃ
ａｌ　ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ　ｉｎ　ｇｌａｓｓ”；Ｄ、
Ｅｖｅｒｈａｒｄ　Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ　ｏｆ
　ｄｉｆｆｕｓｅｄｌｉｔｈｉｕｍ−ｎｉｏｂａｔｅ　
Ｚ−ｐｒｏｐａｇａｔｉｎｇ　ｗａｖｅｇｕｉｄｅｓ　
ｄｅ−ｆｅｎｄｉｎｇ　ｏｎ　ｔｉｔａｎｉｕ！ｌ１ｃ
ｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ；Ｂ、Ｂｅｎｎａｍａｎｅ他
“０ｐｔｉｃａｌ　ｇｕｉｄｅｓ　ｉｎ　ＣＲ３９１ｒ
−ｒａｄｉａｔｅｄ　ｂｙ　ｉｏｎ　ｂｅａｍｓ”；及
びに、５ｐｅｎｎｅｒ他“Ｃａ１ｃｕｌａｔｅｄ　ａｎ
ｄ　ｍｅａｓｕｒｅｄ　ｒｅ−ｆｒａｃｔｉｖｅ　１ｎ
ｄｅｘ　ｐｒｏｆｉｌｅｓ　ｏｆ　ｋｐｌｕｓ　ｅｘｃ
ｈａｎｇｅｄｇｌａｓｓ　　ｗａｖｅｇｕｉｄｅｓ”。

Ｍｕｒｒａｙの報文には、例えば、光硬化性樹脂を使用
して平版印刷法によりマルチモード（ｍｕｌｔｉｍ。ｄ
ｅ）導波管（ｗａｖｅｇｕｉｄｅ）を製造することが記
載されている。実際には、樹脂に光エッチング（ｐｈｏ
ｔｏ−ｅｔｃｈｉｎｇ）を行うことにより導波管先駆体
を形成させた後、残留樹脂を洗浄により除去し、ついで
硬化した部品を重合体中に封入するか又は埋没し得る。

光エツチング工程を包含するこの方法は導波管構造体の
表面が顕微鏡で観察した場合、粗く（ｒｏｕｇｈ）　、
　　その結果、導波管と後に該導波管を埋没させる重合
体との間の明瞭（ｓｈａｒｐ）であるが粗い境界面又は
界面において光の損失を回避することができないという
欠点を有する。

米国特許第３　、６８９　、２６４号明細書から、適当
な感光性を付与した試料に、該試料を１００℃以下の温
度で重合させた後、紫外線を選択的に照射することによ
り光ファイバーを製造することが知られている；照射を
行った後に、試料をエージングして。

照射された領域の屈折率を増大させる。

本発明は一体型の光学部品を製造するための改良された
方法を提供することを目的とする。本発明の一つの要旨
によれば。

（ａ）放射線重合性組成物の層を形成し；（ｂ）上記の
層の、１つ又はそれ以上の所定の帯域（ｚｏｎｅ）を放
射線（ｒａｄｉａｔｉｏｎ）に暴露してこれらの帯域を
選択的に重合させ； （ｃ）上記の層を前記帯域で更に重合が生起する温度で
熱処理し；一方、上記の層の、放射線に暴露されていな
い残りの帯域はかかる熱処理により実質的に重合が生起
しないままとし；ついで（ｄ）上記の層を放射線に暴露
して、予め放射線に暴露された帯域を包囲する領域（ａ
ｒｅａ）を硬化させる；ことを特徴とする、一体型の光
学部品の製造方法が提供される。

本発明の第２の要旨によれば。

（ａ）放射線重合性組成物の層を形成し；（ｂ）上記の
層の、１つ又はそれ以上の所定の帯域を放射線に暴露し
てこれらの帯域を選択的に重合させ； （ｃ）上記の層を前記帯域で更に重合が生起する温度で
熱処理し；一方、上記の層の、放射線に暴露されていな
い残りの帯域はかかる熱処理により実質的に重合が生起
しないままとし；ついで（ｄ）上記の層を放射線に暴露
して、予め放射線にＭ露された帯域を包囲する領域を硬
化させること；そして、工程（ｂ）を工程（ｄ）より高
い温度で行うこと；を特徴とする、一体型の光学部品の
製造方法が提供される。

本明細書中で使用されている“光透過性”（”ｌｉｇｈ
ｔｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｖｅ”）及び１′光路”（“ｌ
ｉｇｈｔ　ｐａｔｈ”）という用語は、限定された意味
で解釈すべきではない；すなわち、可視スペクトルの外
側にある波長も排除されるものではなく、例えば、本発
明で対象とする（及び従来周知の）光学部品は赤外線付
近の光線についても使用し得る。

典型的には、本発明の第１の要旨又は第２の要旨による
方法の製品は、化学線及び／又は電子ビームの放射によ
り重合させたかつ層中で伸長している、少なくとも１つ
の光路を含有する光透過性材料により構成された層から
なる、一体型の光学部品である；上記光路は、層内の帯
域であって、この帯域を包囲している層の材料と異る重
合度を有する帯域によって形成されている。

重合度が異ることによって、前記の帯域に、これを包囲
する材料と異る屈折率が付与され、その結果、上記帯域
が導波管として作用することができる。

前記の帯域とこれを包囲する材料との界面は、該界面に
おける重合度が漸進的に変化することにより屈折率を漸
進的に変化させ、従って、界面での散乱を低下させると
いう意味で、拡散性（ｄｉｆｕｓｅｎａｔｕｒｅ）であ
り得る。

２つ以上の光路が存在する場合には、光路を他の光路と
相互に連結（ｉｎｔｅｒｃｏｎｎｅｃｔ）させ得る：例
えば（入口側光ファイバーに連結させるための）層の一
方のａ（ｅｄｇｅ）に隣接する単一の帯域を、２つ又は
それ以上の出口側光ファイバーに連結させるための層の
他方の端部で終結（ｔｅｒｍｉｎａｔｅ）　Ｌ得る２つ
又はそれ以上の前記帯域内に分岐させ得る。

しかしながら、本発明は層内の光路の特定の形状又は配
置（ｃｏｎｆｉｇｕｒａｔｉｏｎ）に限定されるもので
はない。

層は、硬質であるか又は軟質であり得る支持体上に設け
られていることが好ましい。

光重合性組成物は前記したごとき放射線に対する選択的
暴露を行う前に支持体上に被覆することが好ましい。支
持体は、後に行われる後硬化熱処理に耐えるのに十分な
熱安定性を有するプラスチックス材料から構成され得る
。また、支持体はセラミック材料からなるか又は単結晶
（ｓｉｎｇｌｅ　ｃｒｙｓｔａｌ）からなり得る；　し
かしながら、支持体が硬質である場合には、該支持体は
光学部品の作動波長において高い透過率（ｔａｎｓｍｉ
ｓｓｉｖｉｔｙ）を有するガラスからなることが好まし
い。ある用途においては、例えば光学部品と電子部品を
組合せる用途においては、支持体は軟質であるか又は硬
質の印刷回路板からなり得る。従って例えば、支持体は
、光学部品についての支持体を提供することの他に、電
子部品についての支持体としても作用し得る。

所望ならば、支持体は光重合性組成物を重合させるのに
使用される放射線に対して透過性であることができ、こ
の場合、放射線に対する層の暴露は支持体を介して行い
得る。

支持体は、通常、平坦であるが、曲った光路に沿って光
を伝達させることを要求される場合には、曲った形状の
ものであり得る。

前記め帯域（選択的に放射線に暴露される帯域）は化学
線（典型的には、約３００〜５００ｎｍの波長の化学線
）に暴露することが好都合である。化学線に対する暴露
は、暴露される部分を前記帯域に限定するために、マス
クを用いて行い得る。ＭＷはレーザー放射（ｌａｓｅｒ
−ｒａｄｉａｔｉｏｎ）　・によって行い得る；例えば
レーザー放射は、層内に１６浸透させＩＩ　（Ｉｔ　ｗ
ｒｉｔｅＩｔかつ所定のパターンに対応させ、それによ
って、重合した材料の前記所定の帯域（１つ又はそれ以
上）を形成させるために制御されるビームとして投射（
ｐｒｏｊｅｃｔ）　Ｌ／得る。化学線を使用することが
好ましいが、熱処理による追加的な重合を行う前の、層
の選択的重合を行うためには、１ｆｔ子ビーム放射のご
とき他の形式の放射も使用し得る。従って、本明細書中
で使用される゛放射線重合性″（“ｒａｄｉａｔｉｏｎ
−ｐｏｌｙｍｅｒｉｓａｂｌｅ’つという用語は、上記
したごとき説明に従って解釈されるべきである。

本発明の特徴は層の前記帯域の放射線に対する選択的暴
露を行いついでＭ露された帯域を熱処理により更に重合
させることである。熱処理により、放射線に暴露された
帯域がその周囲の領域に比べて収縮し、その結果、上記
帯域の屈折率が周囲領域と比較して増大すると考えられ
る。また、最初の暴露により（例えば遊離基を生成させ
るために）選択的に活性化された光重合開始剤、例えば
、遊離基触媒は熱処理中に前記帯域内で作用して更に重
合を生起させるばかりでなしに、前記帯域と周囲領域と
の界面においても作用して、前記帯域と周囲領域との間
で、重合の程度に勾配を生じさせると考えられる。この
ことは導波帯域の光学的性能の点から有益であると考え
られる。

熱処理を行う温度と時間は、通常、前記帯域と周囲領域
の間における屈折率の適当な大きさでの不整合（ｍｉｓ
ｍａｔｃｈ）が、前記周囲領域の放射線に対する暴露を
行った後に、層内で生ずるような温度と時間である。実
際には熱処理工程で使用される温度と滞留時間は実験に
より容易に決定され得る。

光重合性組成物は、典型的には、モノマー及び／又はオ
リゴマーと、遊離基触媒のごとき付加重合触媒とからな
る。この組成物は放射線への暴露と熱処理とを行った後
には、硬化層又は少なくとも前記の帯域が光透過性（ｔ
ｒａｎｓｍｉｓｓｉｖｅ）であるような組成物である。

また、組成物は、熱処理の際に、放射線に暴露された帯
域でだけ更に重合が生起するようなもの、すなわち１層
の残りの領域では熱処理の際に、有意な程度の重合が生
起しないようなものである。本発明の方法は光重合性組
成物中で通常使用されている広範囲のモノマーを使用し
て行い得る。例えば組成物はオリゴマー状芳香族メタク
リレートであることができ、これを青色光（ｂｌｕｅ　
ｌｉｇｈｔ）の存在下で遊離基を生ずる光重合開始剤系
と併用し得る。

工程（ｄ）を行う前に層を冷却し、その結果、工程（ｄ
）での暴露を工程（ｂ）より低い温度で行うことにより
、前記帯域とその周囲領域の間で、より大きな屈折率の
差が生ずることが認められた。通常、工程（ｄ）で行わ
れる放射線処理により、周囲領域が多くの用途に必要な
程度まで重合するであろう。

層は工程（ｂ）が行われる温度より低い温度まで冷却す
ることが好ましくそして工程（ｂ）と工程（ｄ）は、少
なくとも２０℃、好ましくは、少なくとも４００Ｃ１最
も好ましくは、少なくとも５０℃、異る温度で行われる
ことが好ましい。

工程（ｂ）は高められた温度、例えば少なくとも３０℃
（より好ましくは、少なくとも４０℃）で行われ、そし
て、通常、工程（ｄ）を行う前に、層は約２０℃又はそ
れ以下の温度まで冷却されるであろう。

重合性材料の種類に応じて、工程（ｄ）を行う前に、層
を１０℃又はそれ以下の温度、例えば、−１０℃〜＋５
℃の範囲の温度まで冷却し得る。

工程（ｂ）を行う前に、層を前記放射線に対して透過性
である材料のシートと積層することができそして上記透
過性シー１−を介して層に照射を行うことにより工程（
ｂ）を行い得る。シートは気体に対して不透過性であり
、その結果、層を支持体と積層シートとの間にサンドイ
ッチした場合に空気が実質的に排除されるものであるこ
とが好ましい。

積層シートを設けることにより、層と積層シートとの境
界の平面に対して、通常、垂直な方向においては、少な
くともある程度まで、収縮が抑制されるという意味で、
本発明の方法の種々の工程中に生ずる材料収縮の性質が
影響を受ける。換言すれば、収縮は、上記した一般的に
垂直な方向に対して横方向の平面内で生起し得る。

工程（ｄ）は上記した放射線に対して透過性のシートを
介して放射線を照射することによっても行い得る。

しかしながら、ある場合には、例えば、最終製品を該製
品が溶剤による侵触を受は易い用途で使用すべき場合に
は、工程（ｄ）の後に、更に、第２の熱処理を行って後
硬化を行わせることができる；但し、この熱処理工程は
例えば、この第２の熱処理を工程（ｃ）での処理温度よ
り低い温度及び／又は工程（ｃ）より短い時間で行うこ
とにより、実質的な屈折率の差が保持されるように行わ
れる。

以下においては、図面を参照して本発明を更に説明する
。

図面に示されているマイクロ光学集成体（ｍｉｃｒｏ−
ｏｐｔｉｃ　ａｓｓｅｍｂｌｙ）は支持体１０１例えば
ガラスと重畳ＰｔＪ１２とからなり、この重畳層内に、
層の一体化部分として導波管構造体１４が組込まれてい
る。例示されている具体例においては、導波管構造体１
４は、図示されていない手段により光ファイバーに接続
するための１層１２の一方の端部にある入口部分１６と
、同様に図示されていない手段により別の光ファイバー
に接続するための１層１２の第２の端部で終結している
分岐部分１８とからなる。構造体１４は、該構造体が周
囲部分２０と同一の連続的被膜の選択的光重合によって
形成されているという意味において、層の一体部分であ
る。換言すれば、残留部分２０を構成する材料は、構造
体１４を構成する材料の析着工程と別個の工程で折着さ
れたものではない。

上記集成体は下記のごとくして製造される。最初、液状
光重合性組成物を支持体ＩＯの一方の面に塗布して、実
質的に均一な厚さの液状又は半液状の層を形成させる。

光重合性組成物は例えば、メタクリレート樹脂（これは
、硬化させた場合、導波管構造体によって伝達されるべ
き光の波長に対して透過性であろう）と遊離基光重合開
始剤とからなる。ついで被覆層を、例えば水浴を使用し
て、例えば６０〜１００℃程度の温度に加熱し、この温
度で、製造すべき部品の形状に従って、選択的光重合を
行わせる。この選択的光重合は所望のパターンを切り抜
いたマスク又はステンシルを使用しそしてこのマスク又
はステンシルを介して被覆層に照射を行って、例えば、
第１図に示すごとき導波管構造体を形成させることによ
り行い得る。別法として、パターンはレーザービームの
使用を包含する方法、例えばレーザーを被覆層に浸透さ
せる（Ｉｊｒｉｔｓ）ことにより行い得る。この段階に
おいては、放射線に暴露された帯域は同相であり１周囲
部分２０は実質的に重合しておらず、液相メは半液相で
あろう。

ついで、集成体をオーブン中しこ装入して、予め重合さ
せた帯域を後硬化させる、すなわち、更に重合させる。

この段階で行われる熱処理により、最初の重合工程で発
生した遊離基が移動して、予め重合させた４Ｆ域で更に
重合を生起させかつこの帯域以外の帯域においても、限
られた程度まで、若干の重合を生起させると考えられる
。熱処理を行う温度と時間は、前記被覆層の残留部分２
０が実質的に重合せず、液状又は半液状のままに留るよ
うな温度と時間である。熱処理を行う温度は重合した帯
域のガラス転移温度より高い温度であるように選択され
る。光重合性組成物中に例えば熱触媒（ｔｈｅｒｍａｌ
　ｃａｔａｌｙｓｔ）を存在させず、その結果、熱処理
中に残留部分２０において重合を生起させないようにす
ることが可能である。従って、この段階では被覆層は後
硬化した帯域と、この帯域を包囲している、実質的に重
合してない領域とからなるであろう。

ついで、層全体に光線を照射して１周囲の、予め重合さ
せていない帯域を実質的に完全に重合させ、この帯域を
同相に転化させる。しかしながら。

本発明においては１層を、最初、選択的光重合を行った
温度より若干低い温度、例えば約Ｏ〜２０℃まで冷却し
ついで光線を照射して、重合を低い温度の層について行
わせる。被覆層の特定の帯域の選択的光重合及び後硬化
と、最終的な全体的照射（ｆｌｏｏｄ　１ｌｌｕ＋ａｉ
ｎａｔｉｏｎ）を行う前の予備冷却とを組合せることに
より、上記特定の帯域と周囲領域との間に、大きな屈折
率の差が生じ、そして、後硬化工程の際に、上記特定の
帯域以外の領域において生じ得る重合の程度が限定され
ているため、光重合と後硬化を行わせた帯域と、その周
囲領域との界面の領域において屈折率に勾配が生ずると
考えられる。

異なる温度での照射と後硬化を行うことにより得られる
効果を例示するために、光硬化樹脂の試料に異なる温度
で照射を行いついで焼成を行うことによって第３図に示
すごときグラフを作成した。

各試料を所望の温度の水浴中に装入することにより、各
試料を、光硬化を行わせるべき温度で平衡化させた。つ
いで試料に約３００秒間、光線を照射しついで屈折率を
測定した（第３図においては口で示されている）。つい
で試料を水浴か゛ら取出し、１００℃程度の温度で数時
間焼成しついで試料の屈折率を測定した（第３図におい
てはΔで示されている）。

第３図から照射を行った試料の屈折率は、試料に照射を
行った温度に依存することが判る。また、所与の試料を
後に焼成した場合には、その屈折率が増大することも判
る。

第３図は、選択的照射と全体的照射（ｆｌｏｏｄ　ｉｌ
−１ｕｍｉｎａ１１−１ｕとを異った温度で行った場合
、すなわち、選択的照射を全体的照射を行う温度より実
質的に高い温度で行った場合には１層の異る帯域間で実
質的な屈折率の差を得ることができることを示している
。

本発明を特定の形状のマイクロ−光学部品について説明
したが、本発明は他の形状のマイクロ−光学部品にも応
用し得ることを理解すべきである。

失１桝 ２重址部のオリゴマー状メタクリレート系光硬化性樹脂
と１重量部のトルエンとの混合物からなる組成物を約７
５Ｏｒｐｍの速度で回転しているガラス支持体上に１分
間回転塗布した。光硬化性樹脂は下記の組成を有してい
た： ９１１重部のジフェニルエーテルメタクリレート樹脂 ９重址部のトリエチレングリコールジメタクリレート ０．７５５重部のカンファーキノン ０．７５重量部のジメチルアミノエチルメタクリレート ０．０５５重部の４−メトキシフェノールジフェニルエ
ーテルメタクリレート樹脂は下記のモル比の成分を使用
して、欧州特許第１１２６５０Ｂ号明細書の実施例１４
〜１６に記載の方法に従って製造したニ ジフェニルオキシド　　　　　　　１ ホルムアルデヒド　　　　　　　　４．１硫酸　　　　
　　８．６ 水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２５．１
メタクリル酸　　　　　　　　　　１３．０反応温度は
６０〜６５℃であった。

ついで被覆された支持体に厚さ１２ミクロンの光透過性
被膜、　ＭＥＬＩＮＥＸ　Ｓ”ポリエチレンテレフタレ
ート（ＭＥＬＩＮＥＸはＩｍｐｅｒｉａｌ　Ｃｈｅｍｉ
ｃａｌ　ＩｎｄｕｓｔｒｉｅｓＰＬＣの登録商標である
）を積層し、樹脂被膜をガラス支持体と積層被膜との間
にサンドインチした。

ついで積層構造体をオーブン内で約ｔｏｏｃで約１５分
加熱し、この温度にある間にオーブンがら取出しついで
各々のｒｌが６５ミクロンで、かつ６５ミクロンのスペ
ーサーにより分離されているストリップのパターンを提
供するマスクを介して平行光線に２分間露光した。波長
範囲が４６２〜４７８ｎｍの範囲で０．１ワット／ｃｍ
”の出力を有する光源を使用した。

ついで被覆された支持体をオーブン内で約ｌｏ。

°Ｃの温度で１５０分以上の間焼成した。ついで支持体
をオーブンから取出し、約２０℃に冷却しついで２７０
ｍＷ／ｃｍ２　の出力の白色光源からの光を全面照射し
た。得られた製品を位相差顕微鏡で検査した結果、パタ
ーンに対応する明確に識別し得るストリップを示すこと
が認められた。位相差顕微鏡を使用してストリップをこ
の方法で識別し得るということは１選択的に照射を行っ
た帯域と全域的照射を行った周囲領域の間に屈率率の差
が存在することを示している。

【図面の簡単な説明】

第１図は支持体上に層として被覆された光重合性組成物
の選択的重合により形成された、先導波路先駆体の平面
図である。 第２図は第１図の２−２の方向の横断面である。 第３図は光硬化を行う温度を変化させた場合の屈折率の
変化を示すグラフである。 第１図及び第２図において ｉｏ・・・支持体、１２・・・重畳層、１４・・・導波
管構造体、１６・・・入口部分、　１８・・・分岐部分
、２０・・・残留部分、である。 光硬化己度

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ａ）放射線重合性組成物の層を形成し；（ｂ）上
   記の層の、１つ又はそれ以上の所定の帯域を放射線に暴
   露してこれらの帯域を選択的に重合させ； （ｃ）上記の層を前記帯域で更に重合が生起する温度で
   熱処理し；一方、上記の層の、放射線に暴露されていな
   い残りの帯域はかかる熱処理により実質的に重合が生起
   しないままとし；ついで（ｄ）上記の層を放射線に暴露
   して、予め放射線に暴露された帯域を包囲する領域を硬
   化させる；ことを特徴とする、一体型の光学部品の製造
   方法。 ２、（ａ）放射線重合性組成物の層を形成し；（ｂ）上
   記の層の、１つ又はそれ以上の所定の帯域を放射線に暴
   露してこれらの帯域を選択的に重合させ； （ｃ）上記の層を前記帯域で更に重合が生起する温度で
   熱処理し；一方、上記の層の、放射線に暴露されていな
   い残りの帯域はかかる熱処理により実質的に重合が生起
   しないままとし；ついで（ｄ）上記の層を放射線に暴露
   して、予め放射線に暴露された帯域を包囲する領域を硬
   化させること；そして、工程（ｂ）を工程（ｄ）より高
   い温度で行うこと；を特徴とする、一体型の光学部品の
   製造方法。 ３、放射線重合性組成物の層を支持体上に形成させる、
   請求項１又は２記載の方法。 ４、工程（ｂ）は、層をマスクを介して放射線に暴露す
   ることにより行い、それによって、所望の光学部品の形
   状に対応するパターンに従って層に照射を行う、請求項
   １〜３のいずれかに記載の方法。 ５、工程（ｂ）は、層をレーザービームによる放射線に
   暴露しそしてレーザービームを制御して層内に浸透させ
   かつ所定のパターンに対応させることにより行い、それ
   によって、重合した材料からなる前記所定の帯域を形成
   させる、請求項１〜３のいずれかに記載の方法。 ６、工程（ｄ）を行う前に、層を、工程（ｂ）を行う温
   度より低い温度に冷却する、請求項２〜５のいずれかに
   記載の方法。 ７、工程（ｂ）と（ｄ）は、少なくとも２０℃まで異る
   温度で行う、請求項２〜６のいずれかに記載の方法。 ８、工程（ｂ）と（ｄ）は、少なくとも４０℃まで異る
   温度で行う、請求項２〜６のいずれかに記載の方法。 ９、工程（ｂ）と（ｄ）は、少なくとも５０℃まで異る
   温度で行う、請求項２〜６のいずれかに記載の方法。 １０、工程（ｄ）を行う前に、層を２５℃未満の温度に
   冷却する、請求項２〜６のいずれかに記載の方法。 １１、工程（ｄ）を行う前に、層を１０℃未満の温度に
   冷却する、請求項２〜６のいずれかに記載の方法。 １２、工程（ｄ）を行う前に、層を−１０℃〜＋５℃の
   範囲の温度に冷却する、請求項２〜６のいずれかに記載
   の方法。 １３、工程（ｄ）を行う前に、層を前記放射線に対して
   透過性の材料のシートと積層しそして上記透過性シート
   を介して層に照射を行うことにより工程（ｂ）を行う請
   求項１〜１２のいずれかに記載の方法。 １４、工程（ｄ）を、前記透過性シートを介して層に照
   射を行うことにより行う、請求項１３に記載の方法。 １５、前記重合性組成物は熱触媒を実質的に含有してい
   ない、請求項１〜１４のいずれかに記載の方法。 １６、工程（ｄ）の後に、工程（ｃ）で使用した温度よ
   り低い温度で層を熱処理する工程を行う、請求項１〜１
   ５のいずれかに記載の方法。