JPS607405A - 光導波路の製造方法 - Google Patents
光導波路の製造方法Info
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- JPS607405A JPS607405A JP11778583A JP11778583A JPS607405A JP S607405 A JPS607405 A JP S607405A JP 11778583 A JP11778583 A JP 11778583A JP 11778583 A JP11778583 A JP 11778583A JP S607405 A JPS607405 A JP S607405A
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- Japan
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- film
- optical waveguide
- polymer film
- parallel
- ultraviolet rays
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
- G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
- G02B6/13—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method
- G02B6/138—Integrated optical circuits characterised by the manufacturing method by using polymerisation
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）発明の分野
この発明は、高分子フィルムを用いた光導波路のｍｌ造
方法に関する。
方法に関する。
（ロ）従来技術とその問題点
一般に、光導波路の椙料としては、誘電体（ＬｉＮｂｏ
３．ＬｉＴａＯ３など）、半導体（ＧａＡ３など）。
３．ＬｉＴａＯ３など）、半導体（ＧａＡ３など）。
ガラス（コーニング社製の０２１１ガラス、ソーダライ
ムカ゛ラヌなど）及び高分子（ポリメチルメタクリレー
ト、ポリカーボネートなど）等の多数の材料が挙げられ
る。
ムカ゛ラヌなど）及び高分子（ポリメチルメタクリレー
ト、ポリカーボネートなど）等の多数の材料が挙げられ
る。
一方、光導波路には、２次元光導波路の他、５次元光導
波路があり、この３次元光導波路には。
波路があり、この３次元光導波路には。
基板表面上に形成される拡散形などの能、埋込形のもの
がある。そして、との埋込形光導波路の製造に適した材
料が少なく、その製造例としては。
がある。そして、との埋込形光導波路の製造に適した材
料が少なく、その製造例としては。
ガラス材料に２種類のイオン′！ｉｌ−選択拡散して製
造している程度である。
造している程度である。
との光導波路を埋込形にすることは、拡散型などの基板
表面に形成する光導波路に比して基板表面における不整
合による光散乱を減少させ損失を低下させることができ
る上に、モードの鐸換もなくすることができる。しかも
、基板表面の光導波路に比して埋込形は、端面研磨の許
容度が大きく。
表面に形成する光導波路に比して基板表面における不整
合による光散乱を減少させ損失を低下させることができ
る上に、モードの鐸換もなくすることができる。しかも
、基板表面の光導波路に比して埋込形は、端面研磨の許
容度が大きく。
且つ光ファイバとの糖自が容易になるという利点がある
。
。
ところが、従来、高分子フィルムを用いた光導波路の製
造方法は、第１図に示すように、先ず。
造方法は、第１図に示すように、先ず。
低屈折率モノマを含有した高分子フィルムａを設置した
後（第１図（、）参照）、このフィルムａの上面にマス
クｂを設け、上方よシ紫外線Ｃを垂直に照射する（第１
図（ｂ）参照）。この紫外線Ｃ照射によシマスフｂの下
方部以外を露光してモノマを重合し、マスクｂの下方部
に非露光部ｄを製作する。
後（第１図（、）参照）、このフィルムａの上面にマス
クｂを設け、上方よシ紫外線Ｃを垂直に照射する（第１
図（ｂ）参照）。この紫外線Ｃ照射によシマスフｂの下
方部以外を露光してモノマを重合し、マスクｂの下方部
に非露光部ｄを製作する。
続いて、このフィルムａを真空乾燥して非露光部ｄの未
反応モノマを除去七：屈折率を上昇させて光導波路Ｃを
形成する（第１図（Ｃ）参照）。最後に。
反応モノマを除去七：屈折率を上昇させて光導波路Ｃを
形成する（第１図（Ｃ）参照）。最後に。
フィルムａの表面にり？ラド層［を形成していた←第１
図１ｄ）参照）。 、 しかし、この方法では埋込形の光導波路を製造すること
ができないので、高分子フィルムａの適用範囲が狭いと
いう問題があった。そこで、高分子フィルムと埋込形光
導波路との長所を発揮する新たな製造方法の出現が望ま
れていた。
図１ｄ）参照）。 、 しかし、この方法では埋込形の光導波路を製造すること
ができないので、高分子フィルムａの適用範囲が狭いと
いう問題があった。そこで、高分子フィルムと埋込形光
導波路との長所を発揮する新たな製造方法の出現が望ま
れていた。
（ハ）発明の目的
この発明は、斯かる点に鑑みてなされたもので。
紫外線を多方向より照射することによって品分イフイル
ムに埋込形光導波を製作できるようにした光導波路の製
造方法を提供することを目的とするものである。
ムに埋込形光導波を製作できるようにした光導波路の製
造方法を提供することを目的とするものである。
に）発明の構成と効果
この発明は、上述した目的を達成するために。
低屈折率モノマを含有した高分子フィルムの表面上に少
なくとも２つ以上のマスクを並設した□後。
なくとも２つ以上のマスクを並設した□後。
この高分子フィルムにマスク側より紫外線を多方向から
照射し、高分子フィルムの内部に非露光部を作製し、こ
の非露光部を光導波路に形成するように構成されている
。
照射し、高分子フィルムの内部に非露光部を作製し、こ
の非露光部を光導波路に形成するように構成されている
。
したがって、この発明によれば、高分子フィルムに埋込
形光導波路を形成することができるので。
形光導波路を形成することができるので。
高分子フィルムと埋込形光導波路との長所を十分に発揮
させることができる。つまシ、高分子フィルムには従来
ない埋込形光導波路を形成することができるので２光の
伝振損失を少なくすることができる。その上、端面研磨
を容易にすることができると共に、光ファイバとの結合
を極めて簡単に行うことができる。
させることができる。つまシ、高分子フィルムには従来
ない埋込形光導波路を形成することができるので２光の
伝振損失を少なくすることができる。その上、端面研磨
を容易にすることができると共に、光ファイバとの結合
を極めて簡単に行うことができる。
更に、極細径の光導波路をも制約なしに製造することが
できるから叩光導波路の適用範囲を拡大することができ
る。
できるから叩光導波路の適用範囲を拡大することができ
る。
０９実施例の説明
以下、この発明の一実施例にっ艷て図面に基づき詳細に
説明する。 。
説明する。 。
第２図に示すように、１は先導波路２の製造装置であっ
て、高分子フィルム６が下部に設置され。
て、高分子フィルム６が下部に設置され。
このフィルム６の上面にフォトマスク４が重畳されると
共に、プリズム５が設けられて構成されている。更に、
このプリズム５の上方には２図示しないが、高圧の水銀
灯が設けられておシ、この水銀灯よシ紫外線６がプリズ
ム５に向って照射されるようになっている。
共に、プリズム５が設けられて構成されている。更に、
このプリズム５の上方には２図示しないが、高圧の水銀
灯が設けられておシ、この水銀灯よシ紫外線６がプリズ
ム５に向って照射されるようになっている。
このプリズム５は、紫外線６を２皿類の方向の第１平行
光線６ａと第２平行光線６ｂとに分割するもので、高分
子フィルム３に対して垂直方向の紫外線６が外側方に傾
斜した２つの平行光線／） Ｊ６ｂに分割されるように
なっている。
光線６ａと第２平行光線６ｂとに分割するもので、高分
子フィルム３に対して垂直方向の紫外線６が外側方に傾
斜した２つの平行光線／） Ｊ６ｂに分割されるように
なっている。
そして、このプリズム５と高分子フィルム６との間にお
いて、プリズム５の両側方にはミラー７が設けられてい
る。このミラー７は、プリズム５からの両平行光線６ａ
、６ｂを反則させるもので。
いて、プリズム５の両側方にはミラー７が設けられてい
る。このミラー７は、プリズム５からの両平行光線６ａ
、６ｂを反則させるもので。
両平行光線６ ａ Ｉ ６ ｂをフィルム乙の上面に交
叉する方向に照射するようになっている。しかも。
叉する方向に照射するようになっている。しかも。
両平行光線６ ａ ＋ ６ ｂがフィルレム乙の」二面
の法線に対して対称にフィルレム乙に照射されるように
なっている。
の法線に対して対称にフィルレム乙に照射されるように
なっている。
前記高分子フィルムろは、ドープモノマであるアクリル
酸メチル（ＭＡ、重合時の屈折率ロー１４８）と光増感
剤のベンゾインエチルエーテル（増感波長３３０〜３６
０ｎｍ）を含むポリヵーボネ−） （ＰＣ・屈折率ｎ＝
１．５９）の母材フィルムがキャスティングにより作製
されたものである。また。
酸メチル（ＭＡ、重合時の屈折率ロー１４８）と光増感
剤のベンゾインエチルエーテル（増感波長３３０〜３６
０ｎｍ）を含むポリヵーボネ−） （ＰＣ・屈折率ｎ＝
１．５９）の母材フィルムがキャスティングにより作製
されたものである。また。
前記フォトマスク４は、各平行光線６ａ＋６Ｌ＋を遮蔽
するもので、所定パターンに形成されており。
するもので、所定パターンに形成されており。
２つ所定間隔を存して並設されている。
次に、この製造装置１による光導波路２の製造方法につ
いて説明する。
いて説明する。
先ず、高分子フィルムろを作製し、つまりドープモノマ
のアクｌ））し酸メチルと光増感剤のベンゾインエチル
エーテルを含むポリカーボネ−１・の母４Ｚフィルムを
ギー＼ｌスティングにより作製する。
のアクｌ））し酸メチルと光増感剤のベンゾインエチル
エーテルを含むポリカーボネ−１・の母４Ｚフィルムを
ギー＼ｌスティングにより作製する。
この高分子フィルム６を製造装置１の下部に設置し、こ
のフィルム６の上面に２つのフ第１・マスク４を並行に
設ける。
のフィルム６の上面に２つのフ第１・マスク４を並行に
設ける。
続いて、窒素雰囲気中において、水銀灯（図示省略）よ
シ紫外線６を出射する８この紫外線６は。
シ紫外線６を出射する８この紫外線６は。
プリズム５により２種類の平行光）＄６ａ＋６ｂに分割
され、この両軍行光線６ａ、６ｂはミラー７゜７で反射
し、マスク４を含むフィルム６の」二面に１５分間照則
される（第２図（ａ）参照）。この平行光線６ａ、６ｂ
はフィルレム６上面に対して斜めに照射されてフィルム
６が露光される一方、２つのフォトマスク４，４で遮蔽
されるので、第１平行光線６ａが一方のマスクで遮蔽さ
れた非露光部６ａが、第２平行光線６ｂが他方のマスク
７で遮蔽されだ非露光部３ｂがそれぞれ互いに交叉する
斜め方向にフィルム乙に形成され１両軍行光線６ａ。
され、この両軍行光線６ａ、６ｂはミラー７゜７で反射
し、マスク４を含むフィルム６の」二面に１５分間照則
される（第２図（ａ）参照）。この平行光線６ａ、６ｂ
はフィルレム６上面に対して斜めに照射されてフィルム
６が露光される一方、２つのフォトマスク４，４で遮蔽
されるので、第１平行光線６ａが一方のマスクで遮蔽さ
れた非露光部６ａが、第２平行光線６ｂが他方のマスク
７で遮蔽されだ非露光部３ｂがそれぞれ互いに交叉する
斜め方向にフィルム乙に形成され１両軍行光線６ａ。
６ｂの何れにも露光されない非露光部３Ｃがフィルム乙
の内部に形成される。そして、露光部のモノマは重合さ
れる。
の内部に形成される。そして、露光部のモノマは重合さ
れる。
続いて、このフィルム６を温度９５′Ｇで１０時間真空
乾燥し、第２図（ｂ）に示すように、非露光部３Ｃに残
存している未反応モノマを除去し、非露光部６Ｃの屈折
率を上昇し光導波路２を形成する。
乾燥し、第２図（ｂ）に示すように、非露光部３Ｃに残
存している未反応モノマを除去し、非露光部６Ｃの屈折
率を上昇し光導波路２を形成する。
これによって、埋込形光導波路２が高分子フィルム乙に
形成される。
形成される。
第６図は光伝送手段の１デバイス８を示し、フィルム６
よシなる基板９の上下面にクラッドｊ−１０が形成され
、この基板９の内部に光２ｊメ波路２が形成されて構成
されている。
よシなる基板９の上下面にクラッドｊ−１０が形成され
、この基板９の内部に光２ｊメ波路２が形成されて構成
されている。
尚、紫外線乙の照射時間及び方向は実ｊｊｌｌｊ例に限
られるものではなく、要するに、光導波路がフィルム内
に形成されればよい。また、高分子フィルムの材料も実
施例に限られるものではない。特に。
られるものではなく、要するに、光導波路がフィルム内
に形成されればよい。また、高分子フィルムの材料も実
施例に限られるものではない。特に。
紫外線６の照射については、同時に２方向によシ行った
が、１方向毎に行うようにしてもよい。
が、１方向毎に行うようにしてもよい。
また、フォトマスク４は３つ以上並設してもよい。
第１図は従来の先導波路の製造工程を示し、第１図（ａ
）は高分子フィルムの断面図、第１図（ｂ）は紫外線照
射時の同断面図、第１図（（〕）は真空乾燥時の同断面
図、第１図（ｄ）は光４波路成形後の同断面図。 第２図及び第６図はこの発明の一実施例を示し。 昭２図（ａ）は紫外線照射時を示す光導波路の製造装置
の概略側両断面図、８第２図（ｂ）は真空乾燥時の高分
子フィルムの断面図、第３図は埋込形光導波路を備えた
デバイスの斜視図である。 １：光ｄ導波路の製造装置ｉｆｆ、２：光導波路。 ６：高分子フィルム、 ３Ｃ：非露光部。 ４：フオトマスク、５ニプリズム。 ６：紫外線ｔ ６ａ・６ｂ：平行光線。 ７：ミラー。 特許出願人 立石電機株式会社 代理人 弁理士 中 村 茂 信 第１図 第２図 第３図 手続補正歯（自発） １ 事件の表示 昭和５８年特許願第１１７７８５号 ２ 発明の名称 光導波路の製造方法 ６、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 京都市右京区花園土堂町１０番地名 称 （２
９４） 立石電機株式会社代表者 立石孝雄 ４、代理人 （１）明細書の第２頁第６行目に［Ｇａ Ａｓｊ とあ
るを「Ｇａ Ａｓｊと補正する。 以」−
）は高分子フィルムの断面図、第１図（ｂ）は紫外線照
射時の同断面図、第１図（（〕）は真空乾燥時の同断面
図、第１図（ｄ）は光４波路成形後の同断面図。 第２図及び第６図はこの発明の一実施例を示し。 昭２図（ａ）は紫外線照射時を示す光導波路の製造装置
の概略側両断面図、８第２図（ｂ）は真空乾燥時の高分
子フィルムの断面図、第３図は埋込形光導波路を備えた
デバイスの斜視図である。 １：光ｄ導波路の製造装置ｉｆｆ、２：光導波路。 ６：高分子フィルム、 ３Ｃ：非露光部。 ４：フオトマスク、５ニプリズム。 ６：紫外線ｔ ６ａ・６ｂ：平行光線。 ７：ミラー。 特許出願人 立石電機株式会社 代理人 弁理士 中 村 茂 信 第１図 第２図 第３図 手続補正歯（自発） １ 事件の表示 昭和５８年特許願第１１７７８５号 ２ 発明の名称 光導波路の製造方法 ６、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 京都市右京区花園土堂町１０番地名 称 （２
９４） 立石電機株式会社代表者 立石孝雄 ４、代理人 （１）明細書の第２頁第６行目に［Ｇａ Ａｓｊ とあ
るを「Ｇａ Ａｓｊと補正する。 以」−
Claims (2)
- （１）低屈折率モノマを含有した高分子フィμムの表面
上に少なくとも２つ以上のマスクを並設した後、この高
分子フィルムにマスク側よシ紫外線を多方向から照射し
、高分子フィルムの内部に非露光部を作製し、この非露
光部を光導波路に形成することを特徴とする光導波路の
製造方法。 - （２）前記紫外線は、２柾類の′！１ｆＪ１平行光線と
第２平行光線とよυ成シ９両平行光線が前記高分子フィ
ルム表面の法線に対して対称に照射していることを特徴
とする特許請求の範囲第１項記載の光導波路の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11778583A JPS607405A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | 光導波路の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11778583A JPS607405A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | 光導波路の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS607405A true JPS607405A (ja) | 1985-01-16 |
Family
ID=14720249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11778583A Pending JPS607405A (ja) | 1983-06-28 | 1983-06-28 | 光導波路の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS607405A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01125169A (ja) * | 1987-11-10 | 1989-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | イメージセンサ |
| WO1997028473A1 (de) * | 1996-02-03 | 1997-08-07 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur herstellung von optischen bauelementen und optisches bauelement |
| US11131929B2 (en) * | 2018-11-07 | 2021-09-28 | Waymo Llc | Systems and methods that utilize angled photolithography for manufacturing light guide elements |
| US11131934B2 (en) | 2019-10-29 | 2021-09-28 | Waymo Llc | Non-telecentric light guide elements |
-
1983
- 1983-06-28 JP JP11778583A patent/JPS607405A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01125169A (ja) * | 1987-11-10 | 1989-05-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | イメージセンサ |
| WO1997028473A1 (de) * | 1996-02-03 | 1997-08-07 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur herstellung von optischen bauelementen und optisches bauelement |
| US6178281B1 (en) | 1996-02-03 | 2001-01-23 | Robert Bosch Gmbh | Method for the manufacture of optical components, and optical component |
| US11131929B2 (en) * | 2018-11-07 | 2021-09-28 | Waymo Llc | Systems and methods that utilize angled photolithography for manufacturing light guide elements |
| US11994802B2 (en) | 2018-11-07 | 2024-05-28 | Waymo Llc | Systems and methods that utilize angled photolithography for manufacturing light guide elements |
| US11131934B2 (en) | 2019-10-29 | 2021-09-28 | Waymo Llc | Non-telecentric light guide elements |
| US11520236B2 (en) | 2019-10-29 | 2022-12-06 | Waymo Llc | Non-telecentric light guide elements |
| US11868050B2 (en) | 2019-10-29 | 2024-01-09 | Waymo Llc | Non-telecentric light guide elements |
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