JPH0315170B2 - - Google Patents

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JPH0315170B2
JPH0315170B2 JP52113872A JP11387277A JPH0315170B2 JP H0315170 B2 JPH0315170 B2 JP H0315170B2 JP 52113872 A JP52113872 A JP 52113872A JP 11387277 A JP11387277 A JP 11387277A JP H0315170 B2 JPH0315170 B2 JP H0315170B2
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mirror
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image
light
optical axis
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Ei Maakuru Deiuitsudo
Otsufunaa Eibu
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Applied Biosystems Inc
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Perkin Elmer Corp
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Publication date
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Publication of JPH0315170B2 publication Critical patent/JPH0315170B2/ja
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B27/00Photographic printing apparatus
    • G03B27/32Projection printing apparatus, e.g. enlarger, copying camera
    • G03B27/52Details
    • G03B27/54Lamp housings; Illuminating means
    • GPHYSICS
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    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70225Optical aspects of catadioptric systems, i.e. comprising reflective and refractive elements

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  • Optics & Photonics (AREA)
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  • Microscoopes, Condenser (AREA)
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明は、投光装置または走査装置に使用され
る照明装置に関する。 従来技術 この種の照明装置は米国特許第4241390号(特
許出願第671405号)および米国特許第4068947号
(特許出願第671653号)に示されている。 しかしながら従来装置においては、視野絞りを
設けることのできない場所に被照面がある場合
に、アーチ形光源からの光を一様にかつ効率良く
照射して、この被照面へアーチ形の像を正確に形
成することは技術上の困難性を有していた。 発明の解決すべき問題点 本発明の課題は、アーチ形光源からの光を、視
野絞りを設けることのできない場所に被照面があ
る場合にこの被照面に、アーチ形の像として結像
させることである。 問題点を解決するための手段 前記の課題は、特許請求の範囲に示されている
ように、アーチ形光源の光を、アーチ形スリツト
と反射フイールド部材を用いて中間像を形成して
から被照面へ案内する構成により、解決されてい
る。 実施例の説明 次に本発明を実施例について図面により詳細に
説明する。 第1図は、第2図から第11図までの各図面に
示された実施例を従来技術と関連づけて立体的に
示す参考図である。第1図において、光源はアー
チ形の水銀ランプ502から成る。第1凹面ミラ
ー504の中央にはアパーチヤ506が設けられ
る。第2凸面ミラー508はプレート510の上
側に設けられる。プレート510は水銀ランプ5
02からの可視光線及び紫外線を通過させる適当
な透明材料から成る。フイールドレンズ514と
フイールドレンズ516との間にはアーチ形スリ
ツト512が設けられる。アーチ形スリツト51
2には、第1凹面ミラー504と第2凸面ミラー
508と平面ミラー511により、水銀ランプ5
02のアーチ形像が結像する。フイールドレンズ
514,516は平凸球面レンズのセグメントか
ら成る。アーチ形スリツト512は、平面ミラー
513,515及び変換ミラー518によりスク
リーン220に結像する。スクリーン220は例
えばリーダの近傍において担体上を移転する。こ
のようにしてスクリーン220には被照部分22
3が生ずる。被照部分223はアーチ形である。
結像装置は米国特許第3748015号明細書に記載し
た理論に従つて構成され、結像装置の対称軸線は
被照部分223の曲率中心を通過する。被照部分
223をこのような形状に形成すれば、軸線に対
し環状にすることができる。そしてこのように結
像装置を構成し、被照部分223を軸線に対し環
状にすることにより、米国特許第3748015号明細
書の記載のように、結像装置を最適に修正するこ
とができる。 高圧水銀アークランプ502の照明器具(カバ
ー)を適正な形状に形成することにより、環状光
源として高圧水銀アークランプ502が働くよう
にする。適正な形状の照明器具を具備する水銀ラ
ンプ502については、米国特許第3878419号明
細書に記載がある。水銀ランプ502からの光
は、第1凹面ミラー504と第2凸面ミラー50
8とフイールドレンズ514,516により結像
される。第1凹面ミラー504と第2凸面ミラー
508とフイールドレンズ514,516とから
成る反射対物光学系の入射ひとみはほぼ第2凸面
ミラー508に結像される。第2凸面ミラー50
8は照射装置の集光系のアパーチヤを部分的に遮
蔽する。但し第2凸面ミラー508による遮蔽
は、光源のどの結像点でもほとんど等しい程度で
ある。入射のひとみはフイールドレンズ514,
516によりアパーチヤ絞り519に結像する。
アパーチヤ絞り519は、変換ミラー518の前
方に焦点距離に等しい間隔を置いて配置される。
変換ミラー518はアパーチヤ絞り519のコリ
メートした像を形成する。これは照明装置の射出
ひとみである。アーチ形スリツト512は変換ミ
ラー518によりスクリーン220の被照部分2
23に結像する。このようにしてスクリーン22
0には視野絞りが形成される。照明装置の集光系
の構成部分は、アーチ形水銀ランプ502の曲率
中心が対称軸線503にあり、対称軸線503が
共通の軸線であるように配置される。この場合照
明装置の集光系は、米国特許第3821763号明細書
に記載されたオフアクシス形環状被照光学結像方
式に基づく環状被照面光学装置として働く。必要
に応じてアパーチヤ絞り519の大きさを調節
し、後続の結像装置に加わるスクリーン220で
の照明の部分的干渉の度合を調節することができ
る。 以上の説明から明らかなように、第1図の集光
系を環状被照面光学装置として用いれば、被照物
に光を照射して光電変換する光学装置においてそ
の都合環状被照面を均一に照明することができ
る。 第2図は本発明の実施例を示す。第2図の実施
例において、高圧水銀ランプ502′はアーチ形
である。高圧水銀ランプ502′は第1図の実施
例の水銀ランプ502と同じである。高圧水銀ラ
ンプ502′のアーチ形プラズマの曲率中心は、
照明装置の集光装置の光軸503′にある。高圧
水銀ランプ502′のプラズマないしアークを拡
大して面15に結像させるため、第1凹面ミラー
504′と第2凸面ミラー508′を設ける。高圧
水銀ランプ502′のアークは第1凹面ミラー5
04′及び第2凸面ミラー508′で反射する。こ
のように第1凹面ミラー504′と第2凸面ミラ
ー508′は反射対物光学系を構成する。 第1凹面ミラー504′は例えばパイレツクス
ガラスから成る。他方第2凸面ミラー508′は
例えばアルミニウムから成る。第2凸面ミラー5
08′は窓510′にマウントされる。窓510′
は例えば溶融シリカから形成される。窓510′
は第2凸面ミラー508′を支持し、更に光学系
をエアジエツトから遮蔽する。エアジエツト(図
示されていない)は、水銀ランプ502′を冷却
する際に使用する。第1凹面ミラー504′には
アパーチヤが設けられる。アパーチヤはスリツト
506′として形成される。水銀ランプ502′の
アークの拡大像はスリツト506′を通過し、面
15に達する。第1凹面ミラー504′と第2凸
面ミラー508′とから成る反射対物光学系の入
射ひとみは第2凸面ミラー508′の充分近くに
ある。従つて第2凸面ミラー508′による遮蔽
は最小であり、水銀ランプ502′のアークの像
全体にわたりほとんど一定である。 視野絞りを配置できない場所に正確な環状被照
面を形成するため、照明装置に中間結像位置を設
ける。そしてこの中間結像位置にアーチ形スリツ
トを配置する。第2図の実施例では部材19が面
15に設けられ、視野絞りとして用いられる。部
材19はアーチ形スリツト512′を有する。ア
ーチ形スリツト512′の曲率中心は光軸にある。
最終的な像の形状はアーチ形スリツト512′の
形状に応じて定まる。 光源のすべての部分からの光を光学系の所望の
アパーチヤ絞りの方向に指向させるには、フイー
ルド部材が必要である。このフイールド部材は、
アーチ形光源の全部の部分からの光を視野絞りへ
案内するために、さらに環状被照体をこのアーチ
形光源からの光で一様に照射するために用いられ
る。第2図の実施例では反射形またはカタジオプ
トリツク(catadioptric)形のフイールド部材を
用いる。該フイールド部材は環状被照面の照明装
置に使用されるのであるから、光軸を中心とする
回転面の一部分でなければならない。アーチ形ス
リツト512′を通過した光は、カタジオプトリ
ツク円柱状部材21の内部における全反射により
反射する。円柱状部材21の円柱面22の曲率中
心は光軸503′にある。円柱状部材21は、円
柱軸を含み円柱を通る面により切断してなる円柱
セグメント又は円柱軸に平行で円柱を通る面によ
り切断してなる円柱セグメントから形成される。
円柱状部材21は溶融シリカ等の透明屈折部材か
ら成り、紫外線に対する透明度は高い。アーチ形
スリツト512′の個々の点で結像する光の円錐
光束の中心光線は、光軸503′から離れて進行
する。該円錐光束の先端は、第2図において第2
凸面ミラー508′の若干左側にある点を通る光
軸503′にある。円柱状部材21は該円錐光束
を反射させる。そして反射光の円錐光束の先端
は、円形アパーチヤ絞り519′の位置で光軸5
03′に達する。 屈折材料を用いると、像の色に変化が生ずる。
しかし像の色が変わつても、ほとんどの場合使用
上支障はないといつてもいい。円柱状部材21は
フイールドレンズとして働き、環状被照面の照
明・集光装置に使用すれば極めて効果的である。
円柱状部材21の他の変形については第3図〜第
10図の説明の際に詳説する。 円柱状部材21からの光は非球面部材23によ
り屈折する。非球面部材23は例えば溶融シリカ
から成る。非球面部材23で屈折した光は次いで
円形アパーチヤ絞り519′を通る。円形アパー
チヤ絞り519′は、その曲率中心が光軸50
3′にあるように配置される。非球面部材23は
アーチ形スリツト512′の結像の収差を修正し、
一層シヤープなスリツト像を形成する。これに反
し非球面部材23を用いなければ、それ程シヤー
プなスリツト像を得ることはできない。 アパーチヤ絞り519′を通過した光は、非球
面ミラー又は球面ミラー518′により反射され
る。非球面ミラー又は球面ミラー518′は例え
ばパイレツクスから成る。円柱状部材21と非球
面部材23と凹面ミラー518′は、アーチ形ス
リツト512′がフオーカルプレーン220′の部
分223′として結像するように働く。フオーカ
ルプレーン220′は照明すべき場所である。ア
パーチヤ絞り519′は、例えば球面ミラー51
8′の前方に焦点距離の間隔を置いて配置される。
更にフオーカルプレーン220′において観察し
た場合に射出ひとみが無限遠に生ずるように、ア
パーチヤ絞り519′が配置される。フオーカル
プレーン220′は米国特許出願第339860号明細
書に記載されたシステムの場合には、超小型回路
のマスクに相当する。 必要に応じて化学線フイルタ25を設け、ミラ
ー518′からの反射光が化学線フイルタ25を
通過するように構成することもできる。化学線フ
イルタ25は通例、位置整定プロセスの際に挿入
配置される、化学線フイルタ25により紫外線を
除去することができる。従つて感光部材が露光さ
れないようにすることができる。アパーチヤ絞り
519′を調節可能に構成し、フオーカルプレー
ン220′における照明の部分的干渉度を調節す
ることができる。 スペースの配慮が重要な問題になる場合には、
第2図の実施例は極めて有利である。第2図の実
施例に用いる第1凹面ミラー504′の直径は例
えば17.8cmで足りるが、第1図の実施例に用いる
第1凹面ミラー504の直径は同じ効果を得るた
めに25.4cmなければならない。 第3図は本発明の更に他の実施例を示す。第3
図の実施例において、高圧水銀ランプ502″は
アーチ形である。高圧水銀ランプ502″は第1
図の水銀ランプ502及び第2図の水銀ランプ5
02′と同じである。高圧水銀ランプ502″のア
ーチ形プラズマの曲率中心は、照明・集光装置の
光学軸503″にある。高圧水銀ランプ502″の
アーチ形プラズマ(アーク)の拡大像を面15″
に形成するため、第1凹面ミラー504″と第2
凹面ミラー508″を設ける。高圧水銀ランプ5
02″のアーク光は第1凹面ミラー504″と第2
凸面ミラー508″で反射する。従つて第1凹面
ミラー504″と第2凸面ミラー508″とは全体
で反射対物光学系を構成する。第3図の実施例で
は第1凹面ミラー504″にアパーチヤを設けて
ない。第2凸面ミラー508″は部分27から成
る。非球面レンズの凸面の半分の領域が反射面と
してコーテイングされ、この反射面としてコーテ
イングされた領域が部分27である。水銀ランプ
502″からの光は、反射面としてコーテイング
された半分の領域27により遮蔽されない。即ち
水銀ランプ502″からの光は、透明な半分の領
域29を介して第1凹面ミラー504″に達する。
そして反射面としてコーテイングされた半分の領
域27は第2凸面ミラー508″として働く。こ
のように第2凸面ミラー508″は、中心線に90゜
の角度をなししかもf/0.8の拡がり角度を有す
るアークでも、遮蔽することはない。更に90゜よ
り大きい角度をなししかもf/0.8より大きい拡
がり角度のアークでも、180゜及びf/∞のアーク
までは、第2凸面ミラー508″がアークを遮蔽
しないようにすることができる。 部材19″にはアーチ形スリツト512″が設け
られる。アーチ形スリツト512″の曲率中心は
光軸にある。部材19″は面15″の位置に配置さ
れ、視野絞りとして働く。第2図で説明したよう
に、最終的な像の形状はアーチ形スリツト51
2″の形状に応じて定まる。アーチ形スリツト5
12″を通過した光は反射体21″により反射す
る。反射体21″は、その曲率中心が光軸50
3″にあるように配置される。反射体21″のトロ
イダル凹面22″はアーチ形スリツト512″の像
を反射する。トロイダル凹面22″には2つの有
限長半径の曲率が設けられる。反射体21″から
の光は円形アパーチヤ絞り519″を通過する。
アパーチヤ絞り519″は、その曲率中心が光軸
503″にあるように配置される。円形アパーチ
ヤ絞り519″を通過した光は球面ミラー又は非
球面ミラー518″で反射する。反射体21″と凹
面ミラー518″は、照明すべき場所であるフオ
ーカルプレーン220″の部分223″にアーチ形
スリツト512″を結像する。第2図の実施例の
場合と同様に、アパーチヤ絞り519″は変換ミ
ラー518″の前方に焦点距離の間隔を置いて配
置される。更にフオーカルプレーン220″にお
いて観察した場合に射出ひとみが無限遠に生ずる
ように、アパーチヤ絞り519″が配置される。 像が光軸に監視80゜の角度をなしf/3.5である
場合の第3図の実施例の構成パラメータを下記の
表に示す。
【表】
【表】 第4図は本発明の実施例を示す。第4図の実施
例は第3図の実施例に類似する。但し第4図の実
施例は、非球面ミラーに518″と結像プレーン
220″との間に比較的長い間隔を設ける必要が
ある場合に使用される。第4図の実施例では、第
3図の絞り519″の代わりに、弱凸面ミラー3
0が設けられる。このようにすれば、中継光学系
は逆望遠鏡的結像系として働く弱凸面ミラー30
はアパーチヤ絞りとしても働き、ミラー518″
の前方に焦点距離の間隔を置いて配置される。従
つて結像プレーン220″から観察した入射ひと
みは無限遠にある。ミラー518″と結像プレー
ン220′との間の間隔は、凸面ミラー30の倍
率を調節することにより調節することができる。
凸面ミラー30の前方に位置する第4図の実施例
の光学系の構成は、第3図の実施例においてアパ
ーチヤ絞り519″の前方に位置する光学系の構
成と同じである。アーチ形スリツト512″の像
は、照明すべき場所であるフオーカルプレーン2
20″の部分223″に形成される。 第5図は本発明の他の実施例を示す。第5図の
実施例の構成は第3図の実施例の構成に類似す
る。但し第5図の実施例のフイールド部材21
と第3図の実施例のフイールド部材21″とが異
なる。第5図の実施例のフイールド部材21は
カタジオプトリツク形反射トロイダルフイールド
部材から成る。フイールド部材21はトロイダ
ル凹面22を有する。アーチ形スリツト51
2″からの光はトロイダル凹面22で反射する。
トロイダル凹面22には2つの有限長半径の曲
率が設けられる。トロイダル凹面22は光軸5
03″を中心に円形セグメントを回転することに
より得られる。従つてトロイダル凹面22は光
軸503″を中心とする回転面の一部分である。
前記円形セグメントの曲率中心は光軸503″に
ある。フイールド部材21は透明屈折材料(例
えば溶融シリカ)から成る。フイールド部材21
は紫外光に対して極めて高い透明度を有する。
フイールド部材21は入射平面34と射出球面
36を有する。射出球面36の曲率中心は光軸5
03″にある。射出球面36の曲率中心を、アパ
ーチヤ絞り519″におけるひとみの像のほぼ中
心に位置させれば、カタジオプトリツク形フイー
ルド部材21における像の変色を最小限におさ
えることができる。 第2図〜第5図の実施例のフイールド部材2
1,21″,21をそれぞれ他の実施例のフイ
ールド部材として使用することもできる。更に第
6図〜第11図に図示したフイールド部材を第2
図〜第5図のいずれの実施例にも使用することが
できる。第6図〜第11図では、フイールド部材
において観察した光学系の入射ひとみは38とし
て略示されている。他方ひとみの像は40として
略示されている。入射ひとみ及びひとみの像の曲
率中心はいずれも光軸503にある。 第6図はフイールド部材の実施例を示す。第6
図のフイールド部材21aの形状は極めて簡単で
ある。フイールド部材21aは反射円柱面22a
を有する。反射円柱面22aの円柱軸は光軸50
3に一致する。第6図から明らかなように、入射
ひとみ38を通過して反射面22aの位置に又は
反射面22aの近傍に環状の像を形成する環のす
べての点は、ひとみの像を通過する。第7図は、
第6図のフイールド部材21aをカタジオプトリ
ツクに形成した実施例を示す。第7図の実施例に
おいて、フイールド部材21bは反射円柱面22
bを有する。反射円柱面22bの円柱軸は光軸5
03に一致する。第7図の実施例は、第2図のフ
イールド部材21に類似する。但し第7図のフイ
ールド部材21bでは、環状被照領域の中心が円
柱面22bにある。他方第2図の実施例では、ア
ーチ形スリツト512′が設けられ、環状被照領
域の中心はアーチ形スリツト512′にある。両
者の相違については後述する。第2図のフイール
ド部材21と第6図のフイールド部材21aと第
7図のフイールド部材21bは環状被照領域の長
さ方向に沿つてのみフイールド部材として働く。
環状被照領域の環が狭い場合には、フイールド部
材21,21a,21bが環状被照領域の長さ方
向に沿つてのみフイールド部材として働いても差
し支えない。しかし環状被照領域の環を広くする
必要がある場合には、環状被照領域の半径方向毎
に異なつた個所を通過する光が形成するひとみの
像の位置は相異なる。これを第6図の破線により
示す。そこで第3図のトロイダル凹面22″と第
8図のトロイダル凹面22cと第9図のトロイダ
ル凹面22dを、それぞれ第2図の円柱状部材2
1と第6図のフイールド部材12aと第7図のフ
イールド部材21bの代わりに用いる。このよう
にすれば、環状被照領域の半径方向毎に異なつた
個所を通過する光が形成するひとみの像の位置が
相異ることはない。トロイダル凹面22″,22
c,22dを用いれば、ひとみを結像させる際充
分な倍率を実現することができる。 第8図のトロイダル凹面22c及び第9図のト
ロイダル凹面22dはそれぞれ、光軸503を中
心に円形セグメントを回転することにより得られ
る。即ちトロイダル凹面22c,22dは光軸5
03を中心にする回転面の一部分である。 該円形セグメントの曲率中心は光軸503にあ
る。第6図の円柱状フイールド部材21aは、第
8図のトロイダル凹面22cを有するフイールド
21cに特別な構成を与えた場合に相当する。即
ち第8図のフイールド部材21cにおいて、前記
円形セグメントの曲率中心を無限遠に達し、前記
円形セグメントの孤を直線にすれば、第6図の円
柱状フイールド部材21aが得られる。第9図は
第8図のフイールド部材21cをカタジオプトリ
ツク形に変形した例を示す。第9図において、第
8図のトロイダル凹面22cに相応する反射面2
2dは、透明屈折材料に反射面を設けることによ
り形成される。第8図の実施例は第3図の実施例
に類似する。但し第8図では、環状被照領域の中
心がトロイダル凹面22cにある。他方第3図の
実施例の場合には、環状被照領域の中心の場所に
アーチ形スリツト512″が設けられる。 第2図〜第4図及び第6図〜第9図のフイール
ド部材21,21″,21a〜21dでは、光軸
503′,503″,503と入射ひとみに集束す
る光線とが成す角度と、光軸503′,503″,
503と拡散してひとみの像を形成する光束とが
成す角度とは等しい。他方第10図では、光軸と
入射ひとみに集束する光線とが成す角度は、光軸
と拡散してひとみの像を形成する光束とが残す角
度とは異なる。これはフイールド部材21eの形
状に基づく。フイールド21eは第9図のカタジ
オプトリツク形フイールド部材21dの変形であ
る。トロイダル凹面22eは第9図のトロイダル
凹面22dと同じである。フイールド部材21e
の球面36eの曲率中心は光軸503にある。球
面36eは第9図のフイールド部材21dの射出
平面の代わりに設けられる。第10図のカタジオ
プトリツク形フイールド部材21eにおいて、射
出面の36eの曲率中心がほぼひとみの像40の
中心にあるようにすれば、結像の変色を最小限に
おさえることができる。 例えば使用できるスペースの関係上、第10図
の構成及び配置を必要に応じて逆転させることも
できる。即ち、第10図の実施例においてひとみ
の像40と入射ひとみ38とを交換し、フイール
ド部材21eの入射面と射出面とを交換するので
ある。このようにすれば、ひとみの像において結
像する光線束と光軸503とが成す角度は、入射
ひとみの集束する光線と光軸503とが成す角度
より大きい。 第10図の実施例は第5図の実施例に類似す
る。但し第10図の実施例では、環状被照領域の
中心はトロイダル凹面22eにある。他方第5図
の実施例では、環状被照領域の中心の位置する場
所にアーチ形スリツト512″が設けられる。 集束する光線と光軸とが成す角度と、拡散する
光線と光軸とが成す角度とが相異なるようにする
他の実施例を第11図に示す。他の実施例の場合
と同様、第11図の実施例の反射面22fはトロ
イダル面として形成される。トロイダル反射面2
2fの曲率中心は光軸503にある。但し他の実
施例の場合と異なり、トロイダル反射面22fの
中心からの法線は光軸503に対し垂直ではな
い。 既述のように、第6図〜第11図のフイールド
部材では、環状被照領域の中心はトロイダル面に
ある。しかし環状被照領域の中心がトロイダル面
にあつても、フイールド部材自体の働きは、環状
被照領域の像がフイールド部材の外部に位置する
がフイールド部材の近傍にある第2図〜第5図の
場合と同じである。第2図〜第5図の実施例で
は、既述のように、環状被照領域の位置にアーチ
形スリツト512′,512″が設けられる。第2
図〜第5図の実施例では、環状被照領域の結像に
非点収差が生じる。即ち、半径方向のエレメント
の焦点と、法線方向のエレメントの焦点とが相異
なる位置にある。しかしこの非点収差は環状被照
面の照明装置では好ましい。スリツトの子午像点
ではスリツトのエツジがシヤープな焦点を結び、
他方照明に伴い生ずる残りの変化はアーチ形領域
に沿い平均化され消失するからである。 以上のように本発明の環状被照面の照明装置で
は、環状被照面が充分均一に照明され、収差が小
さく、構成が簡単である。更に反射光学系を使用
することにより、紫外線領域を含む広いスペクト
ル域にわたり均一な照明を実現することができ
る。しかも視野絞りを設けることのできない場所
に被照面がある場合、環状被照面の形状を極めて
正確に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、第2図から第11図に示されている
本発明の実施例を従来技術と関連づけて示すため
の参考図の斜射略図、第2図〜第5図は本発明の
実施例の略図、第6図〜第11図はフイールド部
材の実施例の略図である。 502,501′,502″……水銀ランプ、5
03,503′,503″……光軸、504,50
4′,504″……第1凹面ミラー、506,50
6′……アパーチヤ、508,508′,508″
……第2凸面ミラー、512,512′,51
2″……アーチ形スリツト、519,519′,5
19″……アパーチヤ絞り、518,518′,5
18″……変換ミラー、220,220′,22
0″……フオーカルプレーン、223,223′,
223″……被照部分、19,19″……視野絞
り、21,21″,21,21a〜21e……
フイールド部材、22,22a,22b……円柱
面、22″,22、22b〜22f……トロイ
ダル凹面、25……化学線フイルタ、34……入
射面、36……射出面。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 照明装置であつて、該照明装置はアーチ形光
    源502′,502″と、第1凹面ミラー504′,
    504″と第2凸面ミラー508′,508″とア
    ーチ形スリツト512′,512″と反射フイール
    ド部材21,21″,21とアパーチヤ絞り5
    19′,519″と第2凹面ミラー518′,51
    8″とから構成される反射光学装置および、環状
    被照面223′,223″を備えており、前記反射
    光学装置は前記アーチ形光源のアーチ形の像を前
    記アーチ形スリツトおよび前記環状被照面に結像
    させるようにし、前記第2凹面ミラーを除いた各
    部材の軸を照明装置の軸と一致させ、前記反射フ
    イールド部材はアーチ形光源の全部の部分からの
    光をアパーチヤ絞り519′へ案内することを特
    徴とする照明装置。
JP11387277A 1976-09-22 1977-09-21 Device for illuminating annular sirface Granted JPS5341079A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US72535176A 1976-09-22 1976-09-22

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Publication Number Publication Date
JPS5341079A JPS5341079A (en) 1978-04-14
JPH0315170B2 true JPH0315170B2 (ja) 1991-02-28

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ID=24914185

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JP11387277A Granted JPS5341079A (en) 1976-09-22 1977-09-21 Device for illuminating annular sirface

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DE (1) DE2742488A1 (ja)
FR (1) FR2372379A1 (ja)
GB (1) GB1589784A (ja)
IT (1) IT1090469B (ja)

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IT1090469B (it) 1985-06-26
DE2742488A1 (de) 1978-03-23
FR2372379B1 (ja) 1982-08-13
FR2372379A1 (fr) 1978-06-23
DE2742488C2 (ja) 1988-01-21
CA1090183A (en) 1980-11-25
JPS5341079A (en) 1978-04-14
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CH623659A5 (en) 1981-06-15

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